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Perú, calidad que deja huella
Aplicación del método de Alto Rendimiento para Mediciones por Espectrometría de Emisión Atómica con Plasma Acoplado
Inductivamente (ICP-OES)
Elmer Carrasco Solis - DM/INACAL
Perú, calidad que deja huella
1. ICP OES
2. HP – ICP OES
3. PROCEDIMIENTO HP – ICP OES
CONTENIDO
Aplicación del método de Alto Rendimiento para Mediciones por ICP - OES
4. CONCLUSIONES Y RECOMENDACIONES
5. BIBLIOGRAFIA
• PREPARACION DE MUESTRAS• SELECCIÓN DE EI• PREPARACION DE DISOLUCIONES PARA MEDICION• MEDICION POR HP - ICP OES• DERIVA INSTRUMENTAL• CALCULO DE FRACCION DE MASA E INCERTIDUMBRE EXPANDIDA
Perú, calidad que deja huella
ICP OES Espectrometría de Emisión Óptica con Plasma Acoplado Inductivamente (ICP – OES), aprovecha el
fenómeno de emisión atómica, mediante la excitación de los átomos de un analito con un plasma
de argón.
Una bobina de inducción alimentada por un generador de RF genera el plasma de Argón
alcanzando temperaturas alrededor de 10 000 K.
Presenta un sistema de vista axial y radial.
Varios sistemas de ingreso de muestra son utilizados como: nebulizador de flujo cruzado,
nebulizador ciclónico, nebulizador ultrasónico, etc.
Aplicación del método de Alto Rendimiento para Mediciones por ICP - OES
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HP - ICP OES (ICP OES de Alto Rendimiento)
Es un método relativo que compara la relación de señal de analito a
estándar interno medida en una muestra desconocida a la relación de señal
en una mezcla donde la relación de cantidad es bien conocida.
Método de HP - ICP OES emplea un conjunto de estrategias técnicas que
permiten obtener incertidumbres expandidas relativas menores a 0,5 %.
Se establece preparaciones gravimétricas para todas las soluciones y un
procedimiento de corrección de deriva.
Método donde las fuentes de ruido correlacionada se cancelan a través de
mediciones simultaneas de señal de EI con la señal del analito.
El método se aplica generalmente en analitos con altas concentraciones,
donde cualquier otro elemento diferente del analito se encuentra en niveles
suficientemente bajos como para causar interferencias y, por tanto, alguna
expectativa de sesgo.
Espectrómetro
Aplicación del método de Alto Rendimiento para Mediciones por ICP - OES
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CRITERIOS DE HP - ICP OES
HP - ICP OES
Diseño Experimental
Variabilidad de la señal
Otras fuentes
EI correlacionada
Precisión Fotométrica
Ingreso de Muestra
Deriva Instrumental
Preparación de Muestras, estándares, etc
Sesgo
Aplicación del método de Alto Rendimiento para Mediciones por ICP - OES
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PROCEDIMIENTO HP - ICP OES
Preparación de Muestra
Selección del EI
Preparación de Soluciones de
Medición
Medición por HP – ICP OES
Corrección por Deriva
Instrumental
Cálculo de fracción de Masa e
Incertidumbre Expandida
Aplicación del método de Alto Rendimiento para Mediciones por ICP - OES
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PREPARACIÓN DE MUESTRAS
(1) Limpieza
(2) Lavado y Secado
Disolución
Cu
10000
mg/kg
Solución
de
Cu
Metal de Alta
Pureza
Reactivo de Sal
Comercial
Solución Comercial
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CONSIDERACIONES PARA LA SELECCIÓN DE UN EI
Aplicación del método de Alto Rendimiento para Mediciones por ICP - OES
Ausencia mutua del EI en la muestra y el analito en el EI.
Compatibilidad química.
Ausencia de interferencias espectrales en las longitudes de onda seleccionadas para
el EI y analito.
Baja probabilidad de contaminación de la muestra con el EI por el ambiente del
laboratorio.
Similar periodicidad entre EI y analito, energía de excitación cercanas, etc.
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EI MAS COMUNES PARA ALGUNOS ANALITOS
Aplicación del método de Alto Rendimiento para Mediciones por ICP - OES
Analito Estándar Interno
Elemento λ(nm) Elemento λ(nm)
Al 386,153 Mn 403,075
As 193,696 Se 196,026
Ba 493,408 Sr 421,552
Ca 396,847 Sc 361,383
Cd 226,502 Sc 361,383
Co 238,892 Sc 361,383
Cr 205,560 Mn 257,610
Cu 327,396 Mn 257,610
Fe 259,940 Sc 361,383
K 766,490 Sc 424,683
Mg 285,213 Mn 257,610
Mn 403,076 Sc 424,683
Na 589,592 Sr 407,771
Ni 232,003 Sc 361,383
Pb 220,353 Co 228,616
Zn 202,548 Sc 361,383
Tabla de Estándar Interno por Analito a estudiar
Fuente: Analytical Chemistry, Vol. 73, No. 20, 2001.
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PREPARACIÓN DE DISOLUCIONES PARA MEDICIÓN
Muestra
Solución Monoelemental de Estándar Interno (EI)
Mezcla Muestra + EI
Mezcla MRC Calibrante + EI
Mezcla MRC Control + EI
Medición por ICP OES
MRC Calibrante
MRC Control
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MEDICION POR HP - ICP OES
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CORRELACIÓN EN EL TIEMPO DE ANALITO CON EI
Aplicación del método de Alto Rendimiento para Mediciones por ICP - OES
Correlación de señales de Intensidad para Cu (224,700) y
Mn (257,610)
Correlación de señales de Intensidad para Cu (327,393) y
Mn (257,610)
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DERIVA INSTRUMENTAL
Aplicación del método de Alto Rendimiento para Mediciones por ICP - OES
Instrumento analítico transmite las propiedades químicas a una señal, la cual vaacompañada de ruido. El ruido es un límite de precisión.
Ruido de baja frecuencia es denominado deriva. Es una variación en el fondoinstrumental o sensibilidad.
La deriva es una función del tiempo y es independiente de las muestras yestándares que se están midiendo.
Un procedimiento para corrección por deriva establece las siguientes etapas:
1. Diseño de experimento debe contemplar mediciones duplicadas de muestras yestándares con señales mayores al LD.
2. Calcular promedios y desviaciones para las señales de muestras y estándaresmedidas.
3. Dibujar series temporales de desviaciones, seleccionando y ajustando al modeloadecuado (seleccionar el orden del polinomio)
4. Calcular correcciones sobre muestras individuales.5. Calcular la serie de tiempo "libre de deriva" de las señales.
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APLICACIÓN DEL PROCEDIMIENTO DE DERIVA INSTRUMENTAL
Aplicación del método de Alto Rendimiento para Mediciones por ICP - OES
Resultados de relación de Intensidad (ICu/IMn) después
de ser corregidos por deriva instrumental.
Resultados de relación de Intensidad (ICu/IMn) antes de ser corregidos por deriva
instrumental.
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MODELO MATEMATICO PARA CALCULAR LA FRACCION DE MASA
Aplicación del método de Alto Rendimiento para Mediciones por ICP - OES
𝐖𝐌 =
𝑰𝒂𝒏𝒂𝒍𝒊𝒕𝒐𝑰𝑬𝑰 𝑴
𝑰𝒂𝒏𝒂𝒍𝒊𝒕𝒐𝑰𝑬𝑰 𝑪
∙ 𝑾𝒄.
𝒎𝒂𝒏𝒂𝒍𝒊𝒕𝒐𝒎𝑬𝑰 𝑪
𝒎𝒂𝒏𝒂𝒍𝒊𝒕𝒐𝒎𝑬𝑰 𝑴
𝐖𝐌 Fracción de masa del elemento en la muestra.
𝑰𝒂𝒏𝒂𝒍𝒊𝒕𝒐
𝑰𝑬𝑰 𝑴Respuesta del Instrumento para el analito y EI en la muestra.
𝑰𝒂𝒏𝒂𝒍𝒊𝒕𝒐
𝑰𝑬𝑰 𝑪Respuesta del Instrumento para el analito y EI en el calibrante.
𝒎𝒂𝒏𝒂𝒍𝒊𝒕𝒐
𝒎𝑬𝑰 𝑪Masa de analito de MRC y masa de EI adicionada al calibrante.
𝒎𝒂𝒏𝒂𝒍𝒊𝒕𝒐
𝒎𝑬𝑰 𝑴Masa de analito de muestra y masa de EI adicionada a la muestra.
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MODELO MATEMATICO PARA CALCULAR LA FRACCION DE MASA
Aplicación del método de Alto Rendimiento para Mediciones por ICP - OES
𝐖𝐌 =𝐑𝐌𝐮𝐞𝐬𝐭𝐫𝐚
𝐑𝐂𝐚𝐥𝐢𝐛𝐫𝐚𝐧𝐭𝐞∙ 𝑾𝒄
Simplificando el modelo matemático, tenemos:
𝒅𝐖𝐌
𝒅𝐑𝐌𝐮𝐞𝐬𝐭𝐫𝐚=
𝐖𝐂
𝐑𝐂𝐚𝐥𝐢𝐛𝐫𝐚𝐧𝐭𝐞
𝒅𝐖𝐌
𝒅𝐑𝐂𝐚𝐥𝐢𝐛𝐫𝐚𝐧𝐭𝐞= −
𝐑𝐌𝐮𝐞𝐬𝐭𝐫𝐚
𝐑𝟐𝐂𝐚𝐥𝐢𝐛𝐫𝐚𝐧𝐭𝐞∙ 𝑾𝒄
𝒅𝐖𝐌
𝒅𝐖𝐂
=𝐑𝐌𝐮𝐞𝐬𝐭𝐫𝐚
𝐑𝐂𝐚𝐥𝐢𝐛𝐫𝐚𝐧𝐭𝐞
𝛍𝐖𝐌= 𝝁𝟐𝐑𝐌𝐮𝐞𝐬𝐭𝐫𝐚 .
𝒅𝐖𝐌
𝒅𝐑𝐌𝐮𝐞𝐬𝐭𝐫𝐚
𝟐
+ 𝝁𝟐𝐑𝐂𝐚𝐥𝐢𝐛𝐫𝐚𝐧𝐭𝐞 .𝒅𝐖𝐌
𝒅𝐑𝐂𝐚𝐥𝐢𝐛𝐫𝐚𝐧𝐭𝐞
𝟐
+ 𝝁𝟐𝐖𝐂.𝒅𝐖𝐌
𝒅𝐖𝐂
𝟐
Por lo tanto la incertidumbre estándar combinada, queda expresada como:
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DIAGRAMA CAUSA-EFECTO DE FUENTES DE INCERTIDUMBRE
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PRESUPUESTO DE INCERTIDUMBRE
Presupuesto de Incertidumbre
Fuente Valorui
(mg/g)Ci ui2*Ci2
Grados de
LibertadAporte
RCalibrante 7,6949 0,0026 0,1242 1,02E-07 3 3,92
RM 7,4689 0,0048 0,1280 3,85E-07 3 14,75
MRC 0,9850 0,0015 0,9706 2,12E-06 61 81,32
Wx (mg/g) 0,9561
u2Wx 2,61E-06
uWx (mg/g) 0,0016
Grados de Libertad 54
k 2,00
Uwx (mg/g) 0,0032
Valor Asignado >> 0,9561 mg/g ± 0,0032 mg/g
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CONCLUSIONES Y RECOMENDACIONES
Con la aplicación de esta metodología podemos obtener incertidumbres comparables a otrastécnicas primarias. (ICP MS dilución isotópica, titulometría, etc.) para mediciones desoluciones monoelementales.
Se determina que el aporte mayoritario en la obtención de la incertidumbre estándarcombinada para la medición de Cu/Mn es la fuente proveniente del MRC.
Dentro de los pares de señales de Cu/Mn a diferentes longitudes de onda, el par Cu(327,393)/Mn (257.610) son los únicos que presentan correlación en el tiempo.
Otros EI que son empleados y de gran aplicación son el Ytrio, Indio, Escandio, etc.
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BIBLIOGRAFIA Salit M.L., Turk G., Lindstrom A., Butler T., Beck C., Norman B., Single-Element Solution
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