bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/t114.pdfintroducciÓn en lo...

358
ESCUELA POLITÉCNICA NACIONAL FACULTAD DE INGENIERÍA ELÉCTRICA ESPECIALIZARON EN ELECTRÓNICA Y TELECOMUNICACIONES * TESIS DE GRADO ELABORACIÓN DE UNA BIBLIOTECA DE CELDAS ESTÁNDAR Y SU UTILIZACIÓN EN LA SÍNTESIS DE CIRCUITOS INTEGRADOS DE APLICACIÓN ESPECIFICA (ASICS) CON TECNOLOGÍA CMOS MAURICIO ANDRADE VALENZUELA FLAVIO CEPEDA CfflLUISA QUITO, SEPTIEMBRE DE 1994

Upload: others

Post on 07-Oct-2020

5 views

Category:

Documents


0 download

TRANSCRIPT

Page 1: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ESCUELA POLITÉCNICA NACIONAL

FACULTAD DE INGENIERÍA ELÉCTRICA

ESPECIALIZARON EN ELECTRÓNICA Y TELECOMUNICACIONES*

TESIS DE GRADO

ELABORACIÓN DE UNA BIBLIOTECA DE CELDAS ESTÁNDAR Y SU

UTILIZACIÓN EN LA SÍNTESIS DE CIRCUITOS INTEGRADOS

DE APLICACIÓN ESPECIFICA (ASICS) CON TECNOLOGÍA CMOS

MAURICIO ANDRADE VALENZUELA

FLAVIO CEPEDA CfflLUISA

QUITO, SEPTIEMBRE DE 1994

Page 2: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

DEDICATORIA

A MI MADRE, PUES SIN SU APOYO NOSERIA QUIEN SOY, Y A MI DIOS QUE MEDA LAS FUERZAS PARA SEGUIRADELANTE.

MAURICIO

Page 3: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

DEDICATORIA

A MIS PADRES, QUE SON LA LUZ QUEILUMINA MI VIDA- A MIS HERMANOS PORSU APOYO INCONDICIONAL.

FLAVIO

Page 4: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

* AGRADECIMIENTO

AL INGENIERO IVAN BERNAL CARRILLO PORTODO EL APOYO BRINDADO PARA LAEXITOSA CULMINACIÓN DEL PRESENTETRABAJO.

A TODAS LAS PERSONAS QUECONTRIBUYERON DE UNA U OTRA MANERAPARA LA FELIZ CULMINACIÓN DE ESTATESIS DE GRADO.

LOS AUTORES

Page 5: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

CERTIFICO QUE, BAJO MI DIRECCIÓN,

LA PRESENTE TESIS FUE REALIZADA

EN SU TOTALIDAD POR LOS SEÑORES

MAURICIO ANDRADE VALENZUELA Y

FLAVIO CEPEDA CHILUISA

ING. IVAN BERNAL CARRILLO

DIRECTOR DE TESIS

Page 6: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

INTRODUCCIÓN

En los últimos años, se ha alcanzado un desarrollo científico y

tecnológico que avanza a pasos vertiginosos. La Microelectrónica es uno de los

campos en el que se produce el desarrollo más rápido. A part ir d e l

aparecimiento de los tubos de vacío y posteriormente del transistor, el

desarrollo de los dispositivos electrónicos de los más variados géneros y para

las más diversas aplicaciones, ha alcanzado una difusión que hasta hace pocos

años no se podría siquiera haber imaginado.

El factor más preponderante en este progreso ha sido la obtención de

circuitos electrónicos complejos en pequeñas pastillas de silicio por medio

de técnicas de integración, los circuitos integrados.

En este contexto, el Ecuador ha dado desde hacia algunos años atrás los

primeros pasos en este desarrollo. Actualmente se encuentra, por intermedio

de 'la Escuela Politécnica Nacional, participando en diferentes proyectos de

Microelectrónica, siendo uno. de estos, el proyecto auspiciado por la

Organización de Estados Americanos (O.E.A.).

Como parte de este proyecto, se ha enfocado una de las técnicas más

empleadas en el diseño de circuitos integrados, aquella basada en celdas

estándar. Financiados por la O.E.A., los países participantes podrán fabricar

un conjunto de celdas estándar y un CI que, con alguna aplicación específica,

utilice las celdas estándar, al Ecuador le correspondió el diseño de las

siguientes celdas: Multiplexor 2 a 1, Medio Sumador, Sumador Completo y

Multiplexor S a l .

Como una aplicación del diseño con celdas estándar, se presenta el

diseño de un circuito integrado para el control digital de una cerradura

eléctrica.

El diseño de este circuito integrado, demanda un procedimiento demasiado

complejo, por lo que se utiliza un software de elevadas características

Page 7: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

técnicas como es el paquete Tanner-Tools.

Este diseño se realiza utilizando la tecnología CMOS de 1.2 MJH de ia

casa ES2 de Francia, por lo cual las celdas de que dispone el paquete Tanner-

Tools no pueden ser utilizadas y es por eso que surge la necesidad de preparar

una biblioteca propia para esta tecnología y que sirva para la generación de

circuitos más complejos.

El presente trabajo tiene como fundamentos teóricos los formulados en

t es i s y pub1 i cae iones an t er iores real i zadas en la Es cuela Po1 it écni ca

Nacional, por lo que no se abunda en mayores detalles en la formulación de los

principios básicos que rigen a los circuitos CMOS, ni los relacionados con el

diseño de circuitos integrados, con este antecedente se realiza el presente

trabajo en los siguientes términos:

En el capítulo 1 se da una visión global de la metodología de celdas

estándar que es la metodología utilizada en el diseño de los circuitos

integrados realizados en la presente Tesis, además se real iza una breve

descripción del proyecto de la O.E.A,

El capítulo 2 comprende un desarrollo teórico del procedimiento a

seguirse en la elaboración cíe una celda estándar.

El capitulo 3 abarca en detalle el diseño de las cuatro celdas asignadas

a nuestro país. En el capítulo 4 se presenta en forma estructurada el paquete

Tanner-Tools.

En los capítulos 5 y 6 se realiza el diseño del circuito de control

digital de una cerradura eléctrica; en el capítulo 5 se utilizan circuitos

integrados comerciales y en el capítulo 6 se realiza el diseño a nivel físico

del ASIC que reemplace-gran parte de los circuitos integrados utilizados.

Finalmente en el capítulo 7 se exponen las conclusiones a las que se han

llegado como consecuencia ce la realización del presente trabajo.

11

Page 8: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

CONTENIDO

CAPITULO 1

UNA METODOLOGÍA DE DISEÑO DE CIRCUITOS INTEGRADOS

CELDAS ESTÁNDAR

1.1 PROYECTO MULTINACIONAL DE MI CROELECTRONI CA AUSPICIADO

POR LA OEA '. 1

1.2 MÉTODO DE DISEÑO DE CIRCUITOS INTEGRADOS BASADOS EN

LAS CELDAS ESTADAR 2

1.3 ALGORITMOS DE ENRUTAMIENTO 6

1.3.1 Conceptos básicos 9

1.3.2 Enrutadores de Área 13

1.3.3 Enrutadores de Canal 16

CAPITULO 2

PROCESO DE DISEÑO DE UNA CELDA ESTÁNDAR

2.1 REGLAS INVOLUCRADAS EN'EL DISEÑO DE UNA CELDA ESTÁNDAR 23

2.2 REGLAS GEOMÉTRICAS DEL PROYECTO 23

2.2.1 Lineamientos Generales 23

2.2.2 Puntos de acceso a la celda 25

2.2.3 Restricciones internas de la celda 26

2.2.4 Líneas de interconexión externas 28

2.3 ESPECIFICACIONES GENERALES DE UNA CELDA ESTADAR 29

2.4 NIVELES DE DISEÑO DE UNA CELDA 31

2.4.1 Diseño a Nivel Lógico 31

2.4. 2 Diseño a Nivel de Transistores 33

2.4.3 Simulaciones preliminares 33

2.4.4 Elaboración del Layout 37

2.4.5 Simulación considerando los elementos parásitos 39

2.5 CARACTERÍSTICAS DINÁMICAS DE UNA CELDA 46

2.5.1 Disipación dinámica de potencia 46

2.5.2 Desempeño dinámico 47

iii

Page 9: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

2.5.3 Simulación del peor caso 49

2.5.4 Características energéticas 50

2. 6 CARACTERÍSTICAS ESTÁTICAS DE UNA CELDA 52

2.6.1 Disipación estática de potencia 52

2.6.2 Desempeño estático 54

CAPITULO 3

LAS CELDAS ESTÁNDAR

3.1 MUX2-1 55

3.2 MEDIO SUMADOR 78

3.3 SUMADOR COMPLETO 96

3.4 MUX8-1 ; 120

3.5 ESPECIFICACIONES DE LAS CELDAS TÍPICAS DE LA BIBLIOTECA 137

CAPITULO 4

EL TANNER-TOOLS

4.1 REQUERIMIENTOS DEL HARDWARE DEL SISTEMA 142

4. 2 CARACTERÍSTICAS GENERALES DEL SOFTWARE 143

4.2.1 Herramientas a Nivel de Archivos Nodos 143

4.2.2 Herramientas a Nivel de Máscaras 145

4.3 DESCRIPCIÓN DE LOS PRINCIPALES BLOQUES DE SÍNTESIS DEL TANNER-

TOOLS 146

4.3.1 Generación del circuito esquemático 146

4.3.2 L-EDIT '. 148

4.3.3 Genérate Layers 165

4.3.4 Cross Section Viewer

(Visualización de Secciones Transversales) 171

4.3.5 L-EDIT/Extractor 176

4.3.6 L-EDIT/SPR 178

4.3.7 L-EDIT/DRC 185

4.3.8 LVS 191

4.3.9 Simulador Lógico (GATESIM) 192

iv

Page 10: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

4.4 ANÁLISIS COMPARATIVO CON EL SISTEMA TENTOS 193

4.5 EJEMPLO DE DEFINICIÓN DE CELDAS PARA SÍNTESIS AUTOMÁTICA 196

CAPITULO 5

CONCEPCIÓN DEL CIRCUITO PARA EL CONTROL DE LA CERRADURA DIGITAL UTILIZANDO

CIRCUITOS INTEGRADOS COMERCIALES

5.1 ESPECIFICACIONES Y REQUERIMIENTOS DEL SISTEMA DE CONTROL DE

CERRADURA DIGITAL 206

5.2 DISEÑO A NIVEL FUNCIONAL Y LÓGICO DEL SISTEMA UTILIZANDO CIRCUITOS

INTEGRADOS 207

5.2.1 Codificación del Teclado. . 207

5.2.2 Circuito de almacenamiento y programación de clave 209

5.2.3 Diseño del Control 212

5.2.4 Diseño del Circuito Combinacional 213

5.2.5 Control de la Puerta 215

5.2.6 Circuito de alarma 215

5.2.7 Indicadores luminosos 216

5.3 DISEÑO DEL CIRCUITO DE ALIMENTACIÓN Y DEL RESPALDO DE ENERGÍA.. 217

5.3.1 Diseño de la Fuente 218

5.3.2 Diseño de la Fuente de respaldo 220

5 . 4 PRUEBAS EXPERIMENTALES DEL CIRCUITO 221

5.4.1 Procedimiento del uso 221

5.4.2 Resultados de las pruebas 222

CAPITULO 6

DISEÑO A NIVEL FÍSICO (LAYOUT) DEL CIRCUITO INTEGRADO

6.1 CONCEPCIÓN DEL CIRCUITO INTEGRADO EN FUNCIÓN DEL DISEÑO REALIZADO

CON ELEMENTOS DISCRETOS 224

6.2 DISEÑO DEL CIRCUITO INTEGRADO UTILIZANDO TANNER-TOOLS 227

6.2.1 Diseño de ios circuitos parciales ha utilizarse en el ASIC 227

6.2.2 Proceso del diseño del núcleo del ASIC en el ambiente Tanner

v

Page 11: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Tools 236

6.2.3 Pads '. 240

6.3 DISEÑO DEL SISTEMA UTILIZANDO EL CIRCUITO INTEGRADO 240

CAPITULO 7

CONCLUSIONES Y REGOMEYO ACIONES 244

BIBLIOGRAFÍA

ANEXOS

VI

Page 12: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

CAPITULO 1

UNA METODOLOGÍA DE DISEÑO DE CIRCUITOS INTEGRADOS

CELDAS ESTÁNDAR

En el presente trabajo se utilizan términos que son ampliamente

difundidos en trabajos de diseño VLSI, y que gracias a otras publicaciones

realizadas anteriormente, y que han servido de material de consulta, no se ha

visto la necesidad de explicarlos en mayor detalle. Por tanto en caso cíe

precisar una mejor apreciación de dicha terminología, se puede apoyar en los

libros y revistas listados entla bibliografía.

1.1 PROYECTO MULTINACIONAL DE MICROELECTRONICA AUSPICIADO POR LA OEA

El Ecuador a través de la Unidad de Microelectrónica de la Escuela

Politécnica Nacional se,encuentra participando en el Proyecto Multinacional

de Microelectrónica auspiciado por la Organización de Estados Americanos

(OEA). :

La Primera Reunión Latinoamericana de Microelectrónica y sus

Aplicaciones se realizó ! en Argentina en 1988, en ella se elaboraron los

documentos que delinearon un plan de acción cuyo principal objetivo fue la• j .. i.-unión de recursos y esfuerzos paira elevar la capacidad tecnológica a nivel

latinoamericano en el área. A partir de esta reunión se han venido realizando

una serie de actividad.es que han colaborado con el objetivo principal del

proyecto de Microelectrónica de la EPN que es la formación de un Centro de

Microelectrónica que ofrezca servicios en esta área y a la vez capacite

ingenieros especializados en diseño VLSI. Gracias al auspicio de la OEA se han

coordinado actividades tanto de preparación de ingenieros a nivel

latinoamericano interesados en el desarrollo de la Microelectrónica , así como

en 1 a obtención de recursos para cont inuar con e 1 proveeto; es así que se

cuenta con varias herramientas computacionales para uso de los proyectos de

Microelectrónica de la EPN.

El proyecto que a continuación se detalla es una parte de las

actividades que se realizan conjuntamente con los países invo.lucrarlos en el

Page 13: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

proyecto multinacional y que pretende dejar a disposición del área una

biblioteca de celdas estándar diseñadas con tecnología CMOS de i.2um. para la

casa fabricante ES2 de Francia. Además como proyecto propio del Grupo de

Microelectrónica de la EPN se detalla el diseño de un circuito integrado de

aplicación específica basado en la misma tecnología.

1.2 MÉTODO DE DISEÑO DE CIRCUITOS INTEGRADOS BASADO EN CELDAS ESTÁNDAR.

En general, la técnica de celdas estándar involucra un proceso de

fabricación que no necesita etapas de difusión previa sobre la oblea de

silicio, sino que el conjunto completo de máscaras debe estar presente para

la fabricación, como en los diseños "full-custom". Sin embargo esta técnica

presenta la cualidad de poseer elementos funcionales previamente diseñados,

desde compuertas de dos entradas hasta sumadores completos o registros de

desplazamientos, que poseen documentación para el usuario en forma de un

biblioteca de macros. Las ventajas más relevantes de este método son:

(1) Aprovechamiento del área del chip debido a que solo están presentes los

elementos útiles del circuito, lo que no sucede en diseños con gate

arrays,y

(2) Una posible mejora en el funcionamiento del circuito debido a una m pr

disposición física de los elementos.

Para la realización de cualquier diseño se parte de los requerimientos

del cliente o la necesidad de un circuito especial que reemplaze a varios

circuitos integrados convencionales. Luego se procede a diseñar el sistema

utilizando las celdas de la biblioteca disponibles en la tecnología de

fabricación elegida. El próximo paso es posicionar y enrutar o interconectar

las celdas usadas, este paso se lo efectúa mediante herramientas

computacionales para diseño de circuitos integrados. A partir de esos

resultados se realizan las pruebas para encontrar errores en el proceso, se

efectúan simulaciones y chequeos geométricos de los "layouts" para determinar

si corresponde a la especificación del sistema original. Por tanto es

necesario mantener una constante realimentación entre las distintas etapas del

diseño para satisfacer las necesidades del cliente. En la figura 1.1 se

Page 14: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

REQUERIMIENTOS PROPUESTOSPARADISÉ

DIVISIÓN EN NACROS CORRESPONDIENTES A LAS CELDASDISPONIBLES EN LA LIBRERÍA

SIMÓN y CHEQUEO DEL DISEÑO

PREPARACIÓN DEL CONJUNTO COMPLETO DE MASCARAS

FABRICACIÓN

ENCAPSULADO y PRUEBAS FINALES

Fijan 1.1 Puoi ba í leos ei 111 •etoíolojU de ceUtt est í idtr .

Page 15: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

presenta un flujograma de los pasos involucrados en la realización de un

diseño basado en celdas estándar.

Esta técnica se utiliza para la generación automática de "layouts", en

combinación con programas computacionales avanzados. Las distintas células

lógicas, o celdas, son ubicadas mediante algoritmos matemáticos dentro de un

diseño de mayor tamaño para luego ser interconectadas automática o

manualmente. En la figura 1.2 se puede apreciar la composición de un layout

diseñado con el método de celdas estándar.

iFILA DB CEL9AS

I/O PADS

O COKJUOKHI

Figín i,I Ujoít disefiído coa eí iModo it ceUis

El diseño de las celdas se realiza bajo reglas geométricas explícitas

de forma que sea posible ubicarlas de manera contigua, formando filas,

especialmente para que las conexiones de polarización y tierra sean comunes

a todas.

Adicionalmente al usual ensamblaje de las celdas en filas o columnas,

las celdas en sí mismas son diseñadas de una misma altura pero de largo

Page 16: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

variable, esta filosofía se denomina "policeldas" para diferenciarla de laque

permite la utilización de diferentes dimensiones entre los elementos de la

biblioteca. Muchas bibliotecas comerciales proveen elementos que poseen pines

de acceso a las señales del circuito en lados opuestos de la celda, lo que

implica filas (o columnas) individuales de manera similar a los diseños de

"gate arraya", pero con un mejor aprovechamiento del espacio y gran libertad

para diseño.

Una vez seleccionada la biblioteca de celdas a utilizarse o una vez que

se haya diseñado las celdas de acuerdo a la tecnología de fabricación

requerida, se procede a la división del diseño en bloques que empleen las

celdas disponibles en la biblioteca. A cada bloque se le asigna una ubicación

en las filas de acuerdo a la mínima complejidad de interconexión y luego se

procede con la etapa de enrutamiento. Los algoritmos que utilizan los

herramientas computacionales para el posicionamiento y el enrutamiento tienen

aplicación en procesos automáticos de diseño que van desde circuitos

integrados hasta tarjetas de circuitos impresos.

Una vez posicionadas las celdas se utilizan los espacios dejados entre

las filas de celdas, denominados canales o corredores, para enrutar las

señales que permitirán el funcionamiento adecuado del circuito, también es

posible utilizar determinados espacios entre celdas para esa operación. Los

algoritmos que se pueden emplear para el enrutamiento han sido desarrollados

para el diseño de circuitos impresos y aplicaciones similares, sin embargo el

enrutamiento sobre silicio posee restricciones como la imposibilidad de

utilizar, en algunos casos, más de dos niveles de metal o una limitada

capacidad de interconexión de los canales. Los pasos básicos de un problema

de enrutamiento son:

(1) Preparar las listas de nodos correspondientes a una misma señal. El

conjunto de pines de acceso a las celdas o bloques pertenecientes a una

misma señal se denomina red.

(2) En el caso de poseer algunas capas de enrutamiento, también se hace

necesario asignar- las señales que van a ser enrutadas en cada capa y

el orden en el que van a ser generadas las mismas.

Page 17: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

.(3) Generar la información geométrica final de las interconexiones o

enrizamientos en las capas definidas para este propósito. Con esta

información ya es posible generar el "layout" completo del circuito

diseñado.

J..3 ALGQRITTOS DE

Existe un problema en la interconexión de un gran número de elementos

de un circuito, por un lado involucra un aumento en la cantidad de tiempo que

toma el diseño y por otro lado el área que ocupará el chip también se verá

incrementada. Según varios análisis realizados se estima que un 30% del tiempo

total del diseño y un 60% del área del chip se ocupa en la realización e

implementación de las interconexiones , debido a esto gran parte de las

investigaciones están dedicadas a la elaboración e implementación de

algoritmos de enrutamiento.

Se puede explicar el problema del enrutamiento de una manera general ,

si se imagina la existencia de un conjunto de bloques representados por

rectángulos y que están ubicados en determinada posición y que posean un

conjunto de pines o terminales en, sus bordes. Estos pines están asociados con

las distintas señales eléctricas presentes en el circuito y por lo tanto

especifican las conexiones físicas necesarias, a través de caminos de metal,

que deben realizarse, en la figura 1.3 se tiene un ejemplo de esas

características.

Las conexiones pueden ser de dos tipos: punto a punto y multipunto. Una

conexión punto a punto o de' dos puntos involucra dos pines a ser

interconectados , mientras que una conexión multipunto indica que los pines son

tres o más. Las áreas por las cuales se llevan los caminos de metal o "cables"

de conexión se denominan regiones de enrutamiento (routing regions) y se

define en ellas una cuadrícula o grilla sobre la que están tanto los pines

como los caminos. De acuerdo al proceso de fabricación se pueden tener caminos

en dos niveles de metal (metal 1 y metal 2) o un nivel de metal y otro de

polisilicio. Generalmente en procesos de dos niveles de metal, la capa metal

1 se utiliza para los caminos verticales y la capa metal 2 para los

horizontales y en procesos de un nivel de metal se usa la capa metal 1 para

Page 18: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

caminos horizontales y la capa de polisilicio para los verticales; si se

necesitan

5

1

3

2

4

Figura 1.3 Definición de un probleía de enratiiiento.

cambios de dirección existen interconexiones entre las capas que son: vías

para procesos de dos metales y contactos para procesos con una sola capa de

metal.

Los algoritmos de enrutamiento dependen del tipo de organización que se

tenga del "layout", principalmente hay dos tipos: "layout custom", en el cual

se define el tamaño de los bloques de diseño sin uniformidad y el otro tipo

se denomina "layout gate array" debido a que el tamaño de los bloques o celdas

se deben definir con cierta uniformidad geométrica para que puedan ocupar

espacios específicos asignados a ellos. Ambos tipos de organización se

presentan en las figuras 1.4 y 1.5.

En forma general las celdas o bloques diseñados deben poseer forma

rectangular par poder usarse los algoritmos de enrutamiento. Partiendo de la

disposición geométrica existen dos tipos de algoritmos de enrutajniento. En

primer lugar, si los bloques poseen pines localizados en los 4 bordes se

denominan enrutadores de área. Mientras que si se tienen pines localizados en

los bordes superior e inferior se denominan enrutadores de canal.

Page 19: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Una evaluación importante realizada a los algoritmos de enrutamiento es

el porcentaje de enrutamiento conseguido en relación con la dificultad del

AKAKMVTAWOTI

tP

a™R '

?

í5

0

-1

íJ

ÜfiCUfíTR K TüfWIZAPW

MSAKBmrrMftcm

cKCurrosPC

VJiAcswrtomí

AffAKBnrrumari

oeomm.

í>

Sni

?

íft

GATE AflRAYS

CANAL

CANAL

Pígirt 1.4 Li/oit ciítoi. 1.5 Líjoit gite ITTIJ.

problema, esta característica junto con el tiempo de realización y el

almacenamiento requerido permite evaluar diferentes algoritmos . Sin embargo

de la calidad de los algoritmos, existen problemas que son intratables y que

se pueden solucionar en base a procesos heurísticos dando soluciones con gran

garantía de enrutamiento exitoso pero que llevan gran tiempo de procesamiento

de CPU y ocupan altas cantidades de memoria de almacenamiento.

A continuación se discuten algunas de las diferentes técnicas que se

emplean en las tareas de enrutamiento dentro de un diseño de un circuito

integrado. Se considera que cada celda o bloque está totalmente diseñado, en

lo que tiene que ver con su enrutamiento interno, y que se tiene la

información de los pines va los cuales se debe accesar para realizar las

conexiones debidas. Primero se definirán ciertos conceptos que están

involucrados en los procesos de enrutamiento. También es necesario aclarar que

no se cubren todos los algortimos existentes puesto que no se tiene la

intención de profundizar en este tema, simplemenente se describe de manera

general el proceso de enrutamiento dentro de la concepción de un circuito

8

Page 20: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

integrado.

1.3.1 Conceptos básicos

Se definen como bordes a las fronteras de los bloques o celdas y que es

el lugar donde se encuentran los pines que deben ser interconectados. En el

caso de "layouts" con organización "gate array", los bordes corresponden a la

unión de todos los bordes correspondientes a una fila de celdas y que poseen

pines que deben ser enrutados dentro del canal.

Red

.Este término se lo aplica a los distintos pines presentes en los bordes

de los bloques o celdas y tiene que ver con la señal a la que pertenecen. Por

tanto es de esperarse que luego de la aplicación del algoritmo de

enrutamiento, los pines considerados como de. la misma red o que posean lo

misma designación de red, estén interconectados entre sí.

Pistas y Columnas

Se define como pista al espacio asignado a lo largo de un canal y sobre

el cual se trazan los caminos horizontales. El número de pistas está

condicionado al ancho que tenga el canal y al ancho que debe tener el camino

de interconexión, así como a la distancia de separación entre dichos caminos.

El término columna se refiere a una línea imaginaria que une a dos pines,

ubicados el uno sobre el otro, a través del canal, Estos dos conceptos se

utilizan en la explicación de los algortimos de canal.

Gráfico de Restricciones Verticales

Es, en general, una representación de los requerimientos o condiciones

de ubicación que posee un determinado pin respecto a otro en lo que tiene que

ver con las señales a las que pertenecen. Este concepto se aplica a

enrutamientos dentro de un canal donde se puede definir posiciones relativas

Page 21: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

de los pines "arriba" o "debajo" de otros. En ia figura 1.6, se puede apreciar

que la red A esta arriba de las redes C y D, mientras la red C debe estar

arriba de la red B. De estas condiciones se halla una representación gráfica

que se denomina gráfico dirigido o de restricciones verticales.

A

C

C A

A

B

C

B D

C

D

B

D

Figura 1.6 (a] Disposición geométrica, (b] Grífico dirigido.

Conflicto Cíclico o Circular

Se determina un conflicto circular, cuando dos o más pines de diferentes

señales están uno sobre otro en distintos lugares del canal de enrutamiento,

esta condición se manifiesta como gráfico dirigido en forma de lazo, como se

observa en la figura 1.7.

Segmento

Se refiere al uso de segmentos horizontales para una red, dentro del

canal de enrutamiento, para reducir el número de pistas requeridas y/o para

resolver una conflicto circular.

10

Page 22: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

(«1 (b)

Figura 1.7 (a) Ubicación de los pincs de ¡as redes, (b) Gráfico d i r i g i d o en lazo.

Segment»0«g|c|

(a)

Figura 1.8 Solución del conflicto circular de la figura i.7, osando segciento dogleg.

Segmento de Camino Equivocado

En tecnologías de doble nivel de metal se utiliza una capa para caminos

horizontales y otra para caminos verticales. Al utilizar segmentos dogleg es

posible interconectar, mediante una sola capa, dos pines de una red que posea

el segmento dogleg no necesario, y por tal motivo se le llama segmento de

camino equivocado. Efectuando esta operación se interrumpe pistas adyacentes,

pero se tiene la ventaja de reducir el número de vías de interconexión entre

11

Page 23: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

las capas de enrutamiento, con lo que se simplifica el proceso de fabricación.

Estos segmentos de camino equivocado pueden ser cambiados como parte de una

revisión manual, si es posible, luego de completar el enrutamiento inicial,

es decir que se pueden "borrar" las vías de un segmento dogleg y realizar la

interconexión de los pines mediante una sola capa.

Frente de Onda

En una tarea de enrutamiento no se efectúan al mismo tiempo todas las

necesidades de interconexión, sino se escoge una red entera en una secuencia

de pasos. Para encontrar una ruta de interconexión entre los pines de una red,

el algoritmo de área de Lee, genera un frente de onda que parte del pin

escogido como inicial y se expande a su alrededor y a través de los bloques

del circuito, hasta encontrar los pines cíe llegada correspondientes a la red.

Esta técnica posee la ventaja de encontrar la ruta aunque existan ya redes

*

L fi

i

> e

2 3

1i i

2 1

4 4

0 1

Segmento deCnmlnn

s Equivocado

e 3

Figara 1.9 Segiento de calino equimado.

enrutadas previamente, pero su desventaja es la gran cantidad de recursos de

almacenamiento y tiempo de CPU que requieren para propagar el frente de onda

a través del área de enrutamiento del chip; además no es posible expandir el

frente de onda en diferentes capas de enrutamiento.

12

Page 24: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

2 3 4 5 6 7 B/ \2 1 2 3 4 5 6 7

X / \ 1 S —1—2—3-4 —5—6-

\ /3 2 1 2 3 4 5 6 7 B

2 3 4 5 6 7 8 9

13

Figm LIO El i lgorÜBo de Lee.

1-3-2 Enrutadores de Área

El Algoritmo de Lee

Este algoritmo encuentra el camino más corto entre dos puntos dentro de

una región de enrutamiento definida mediante una cuadrícula o grilla y con

cualquier número de obstáculos. Las celdas de la cuadrícula adyacentes al

punto de origen son etiquetadas con un número 1, indicando el costo de

alcanzar esa celda desde el origen; no se etiquetan las celdas de la

cuadrícula que estén en dirección oblicua como se indica en la figura 1.10.

A continuación, con un costo de 2 se etiqueta a cada celda vacía adyacente a

las celdas etiquetadas con 1, y así sucesivamente. Así se consigue expandir

el frente de onda propagándolo hasta los vértices de llegada o hasta cuando

sea posible etiquetar las celdas. Si el vértice de llegada ha sido etiquetado,

el algoritmo regresa desde ese punto moviéndose en cada paso hacia una celda

de menor costo; es posible que se tengan varias alternativas para estos

13

Page 25: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

movimientos, pero se garantiza que se encontrará el camino si es que lo hay.

Sin embargo la desventaja es la gran cantidad de memoria que se requiere para

el proceso, si C es el máximo costo para almacenar se requiere un mínimo de

logjCC+l) (bits). La celda de la cuadrícula debe también guardar información

acerca de la dirección de retorno. En 1967 Akers sugirió una mejora

reduciendo el costo para cada celda a dos, utilizando una secuencia de

11221122... que tiene la propiedad de que el predecesor de cualquier etiqueta

es diferente al sucesor, así el frente de onda se expande con dos símbolos

consecutivos 1, seguidos por dos expansiones del simbolo 2.

Otra desventaja del algoritmo de Lee es que su ejecución requiere mucho

tiempo ya que el frente de onda se propaga en todas direcciones sin considerar

los puntos de 1 legada, esto obliga a descartar muchas de las celdas

etiquetadas cuando se encuentra el camino que se necesita. Se han .hecho

modificaciones para mejorar el desempeño del algoritmo, una es la propagación

de dos frentes de onda, uno desde el origen y otro desde la llegada hasta que

se encuentren, con lo que se reduce el tiempo de ejecución en un 50%.

Algoritmo de Hightower

Este algoritmo sugiere un método que tiene una capacidad de enrutamiento

similar al algoritmo de Lee, pero reduce el tiempo de ejecución y los

requerimientos de memoria. La diferencia fundamental entre ambos algoritmos

es que el de Hightower no almacena el plano entero de la matriz o grilla. En

su lugar solo almacena líneas y puntos. Un segmento está representado por 3

coordenadas (x,y,z), donde (x,y) es la coordenada del punto más a la izquierda

o más inferior en la línea y (z) es la coordenada en x o la coordenada en y

del punto más a la derecha o más superior de la línea. El segmento puede ser

almacenado respecto a sus valores en la coordenadas (x,y). Esta definición

permite tener un algoritmo rápido para encontrar la intersección de dos líneas

o una secuencia de segmentos conectando dos puntos.

Utilizando la figura 1.11 se puede explicar el funcionamiento del

algoritmo, de la siguiente manera: se tiene dos puntos, A (origen) y B

(llegada), que deben ser conectados, las líneas x,w,y,v,z están bloqueando el

enrutamiento entre los puntos, y las líneas Í,r,u,d determinan los límites del

14

Page 26: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

9f

D

w

Figura 1.11 Algoritio de Bightoier,

área de enrutamíento; el algoritmo empieza por construir vertical y

horizontalmente líneas denominadas de escape desde los vértices de origen y

llegada. La línea x se denomina cobertora del punto A porque la línea a pasa

por el punto y por la línea x, y los segmentos a y b son líneas de escape de

A porque pasan sobre el punto y son perpendiculares a las líneas de bloqueo

más cercanas. Así mismo para el punto B las líneas c y h son de escape. Un

punto de escape de una línea de escape se define como un punto por el que

puede cruzarse un segmento que no pase por una línea cobertora, de manera que

Jos puntos s y p son puntos de escape de £>, para el punto A, mientras que q

es un punto de escape para B. El siguiente paso es encontrar líneas de escape

para los puntos de escape determinados, si existen algunas posibilidades se

eligen las.líneas de escape más cercanas al terminal de inicio, en la figura

1.8, se observa que las líneas e y / se dibujan a través de los puntos de

escape p y q, respectivamente. El segmento e no tiene un punto de escape pero

f si lo tiene y es el punto r. El proceso se repite hasta que las líneas de

escape originadas desde los puntos A y B se intersecten. En el ejemplo se ve

que la línea de escape g interseca en el punto s a la línea de escape 6

perteneciente al punto de origen A, por tanto la solución es AsrqB. Este

15

Page 27: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

.algoritmo no se ejecuta cuando el área de enruteamiento es grande o cuando el

área de enrutamiento tiene muchas conexiones, sin embargo para pequeñas áreas

se logran obtener caminos con el mínimo número de vías.

1.3.3 Enrutadores de canal

Cuando se realizan diseños basados en celdas estándar se disponen de los

canales o corredores para efectuar las interconexiones necesarias, los pines

se encuentran localizados en los flancos superior e inferior del canal en

forma alineada. El objetivo del enrutamiento de canal es conectar

eléctricamente todas las redes usando un número mínimo de pistas horizontales.

Los caminos horizontales que se deben usar para interconectar una red,

están definidos por sus terminales más laterales, izquierdas y derechas como

se observa en la figura 1.12

3 1 3 0 0 5 6 0 3 0 0 01

2

3

4:. g

6

7

1 2 - 4 2 4 1 5 7 0 7 6 0

Figara 1.12 Probleía de enrataiiento de canal.

Se denomina densidad local al número de caminos o segmentos horizontales

que cruzan una determinada columna del canal y se denomina densidad del canal

a la mayor densidad local. Como los segmentos horizontales de distintas redes

no deben estar sobrelapados en la misma pista, porque se estarían conectado

dos redes distintas, se utiliza un gráfico denominado de representación zonal

para determinar los segmentos horizontales que pueden estar ubicados en la

misma pista. Para realizar este gráfico se debe encontrar la densidad local

de cada columna del canal y con esta información definir grupos cuyos

segmentos horizontales de cada red estén contenidos en la densidad de mayor

16

Page 28: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

.tamaño. Para la figura 1.12, la información de las densidades de cada columna

y de los grupos definidos es la siguiente tabla:

Grupo 1

Grupo 2

Grupo 3

Grupo 4

Columna

12345

6

7

8910

Pistas

1,3,21,2,31,2,3,41,2,3,41,3,4

1,3,5

• 3,5,6

3,6,73,6,76,7

Densidad

34 Max.43

3 Max.

3 Max.

3 Max.32

Tibí i 1.1 Defunción de í re pos pan el gráfico de represeaUciói lontl

El gráfico de representación zonal resultante se muestra en la figura

1.13, cada uno de los grupos está representado por una columna y las redes de

cada uno de ellos se representan con segmentos lineales.

Figsr» l.U Grífico de represeaUciói

17

Page 29: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Bl enrutador de canal de borde izquierdo

Este algoritmo intenta maximizar el número de los segmentos horizontales

usados en cada pista. Los segmentos horizontales se ordenan de acuerdo al

borde terminal izquierdo, el que tiene su borde terminal izquierdo más cercano

a la primera columna, está primero en la lista y aquel cuyo borde terminal

izquierdo esté más alejado de la primera columna, será el último de la lista.

Para la figura 1.12, la lista de segmentos es la siguiente:

1 , 3 , 2 , 4 , 5 , 6 , 7

El algoritmo elige el primer segmento y lo ubica en la pista más baja

del canal, y luego la quita de la lista. Después busca a través de la lista

remanente el primer segmento que no sobrelape el segmento ya ubicado. Este

proceso continúa hasta que no haya segmentos ha ser ubicados en la pista. El

algoritmo entonces usa las segmentos no ubicados de la lista y llena la pista

inmediata superior, y así sucesivamente.

3 1 3

21

0 0 5 64

35

0 3

76

0 0 0

2 4 1 5 7 0 7 6

Figura l.H Asignaciones de pistas al usar el s lgori tw de flanco izqaierdo.

En este tipo de asignación de pistas, suele presentarse un serio

problema, como muestra la figura 1.14, el borde izquierdo del camino

horizontal de la red 3 tiene que ser conectado a un pin ubicado en la

parte superior del canal, mientras que el borde izquierdo del segmento de la

red 4 debe ser conectado a un pin ubicado en la parte inferior del canal, lo

cual es imposible por que están localizados en la misma columna. Este tipo de

18

Page 30: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

problema se denomina de restricciones verticales y se puede encontrar al

hallar un gráfico llamado de restricciones verticales. Para encontrar este

gráfico, se debe determinar la ubicación de las redes cuyos pines se

encuentren en el borde inferior del canal, respecto a las que tienen los pines

en la misma columna pero en el borde superior. Utilizando el problema de

enrutamiento presentado en la figura 1.12, se ha encontrado su gráfico de

restricciones verticales en la figura 1.15. Se puede observar que cada red se

ha representado con una circunferencia y se ha ubicado de manera que indica

la ubicación de sus pines respecto a los de las otras redes. Por ejemplo, un

pin de la red 2, está ubicado en el borde inferior del canal y en la misma

columna de un pin perteneciente a la red 1; mientras que los pines de la red

7 no se hallan, ni sobre ni debajo de otros pines.

E.1 algoritmo que usa la información del gráfico de restricciones

verticales (Preskey 1975), ubica los segmentos horizontales desde la esquina

inferior izquierda del canal, en igual forma que el visto anteriormente, pero

no elige el segmento de una red que tenga a otra bajo ella en el gráfico de

restricciones verticales. Luego de ubicar un segmento en la pista, se debe

Figura 1.15 Grííico de reiirkioncs icrticiles.

19

Page 31: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

quitar la red tanto de la lista de bordes terminales izquierdos, como del

gráfico de restricciones verticales, antes de continuar con la siguiente

pista.

3 1 3 0 0 5 6 0 3 0 0 0

I

J

1

í

12

! i4

1 1 1

2i

4 2 4

t

i1 r

1 5 7

6

í

7

0 7 6 0

Pigirt i.16 Asigaicioieí fe pistis con el aígorit to de fluco icoidicioíido.

(Deutsch 1976)

Existen casos en los que el algoritmo anterior no produce soluciones

óptimas, estas fallas se dan cuando hay lazos en el gráfico de restricciones

verticales, como se índica en la figura 1.17, y se denomina lazo de compresión

vertical. Para este caso se usa el "doglegging" (división de segmentos

horizontales) con el cual se soluciona los lazos y a veces se reduce el número

de pistas horizontales.

El algoritmo toma el segmento de la red con pines múltiples y lo divide

en segmentos individuales solo en las columnas que contienen un pin, ios

segmentos horizontales son clasificados en orden creciente de su punto final

izquierdo y se realiza otro gráficp de restricciones verticales. El segmento

horizontal de la red que no esté sobre otras, en el gráfico, es ubicado en el

canal y se lo quita del gráfico. Luego se ubica la próxima red que no

sobrelape al segmento ya ubicado y que no tenga redes debajo en el gráfico de

restricciones verticales. El proceso se repite hasta completar los demás

20

Page 32: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

segmentos.

I 1 2 1-V-

1 2

Figirt 1.17 Restricción vertical de tizo, (t) OcfÍHÍci6n del probleu. (b) Gráfico de restricción fertictl . (c) Solacióamudo sepealo dogíeg.

Dogleg revisado y algoritmo del camino de menor costo (Eustace 1984)

Básicamente los algoritmos que se han vasto, manejan el concepto de la

reducción de la densidad del canal al asignar un segmento a una pista.

Definiéndose un vector D(dl d2..} donde di sea la densidad local en la columna

i. Una asignación de un segmento horizontal de una red en una pista, cuando

no tiene restricciones en el gráfico compresión, puede implicar una reducción

de densidad si la remosión de los segmentos seleccionados da como resultado

la reducción de la densidad del canal.

El problema de enrutamiento de la figura 1.18a, posee el siguiente

vector de densidades: 0 ( 1 , 3 , 3 , 3 , 2 , 2 , 1 )

El algoritmo normal del dogleg, selecciona las redes 1 y 4 y las asigna

a la pista 1, pero si se remueven esos segmentos, el vector resultante de

densidades del canal sería: 0 ( 0 , 2 , 2 , 3 , 2 , 1 , 0 )

21

Page 33: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Por tanto, la selección hecha por el algoritmo, no ha reducido la

densidad del canal5 ya que es todavía 3. La selección del algortimo del dogleg

revisado elegirá los segmentos de las redes 3 y 4 para la pista 1, con lo que

el vector de densidades del canal queda de la siguiente forma:

0 ( 1 , 2 , 2 , 2 , 2 , 1 , 0 )

La selección realizada da como resultado una reducción de la densidad

del canal a un valor de 2, Esta operación es aceptada y se procede a retirar

las redes tanto de la lista de segmentos como del gráfico de restricciones

verticales, indicado en la figura 1.18(b), después de esto el algoritmo

continúa con las redes restantes, aplicando el mismo criterio de reducción de

la densidad del canal para asignar los segmentos a las pistas. La solución

final se muestra en la figura 1.18(c).

1 2 0 5 B 5

Ti T 5T ¿ 2

ii 3 1

0 3 1 3 2

CíO

i

(T)

i

_j

4 t

4 e

1 2 0 5

Tt t

1l 1

B 5 4

Pi«t* 1T pl.^it y

1 Pi»ta 3

0 3 1 3 2 4 0

Figín 1,1! DogltR misado, (i) Definido! del problea. ( b ) Orifico Ter t ic i l . fc ] Solacio* f iul

o

22

23

Todo rectángulo dibujado deberá tener como dimensiones múltiplos enteros

de la longitud elemental A.

Normalmente en un diseño que involucre el uso de celdas estándar, las

celdas estarán yuxtapuestas, por ende se debe definir una altura de celda

constante, siendo dicha altura de 60A. Además el ancho de la celda debe ser

n múltiplo exacto de una celda elemental de ancho wg, siendo el ancho de 8X.

Page 34: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

utilizada en el diseño de un circuito integrado.

Todo rectángulo dibujado deberá tener como dimensiones múltiplos enteros

de la longitud elemental A.

Normalmente en un diseño que involucre el uso de celdas estándar, las

celdas estarán yuxtapuestas, por ende se debe definir una altura de celda

constante, siendo dicha altura de 60JL. Además el ancho de la celda debe ser

n múltiplo exacto de una celda elemental de ancho w . siendo el ancho de 8A.

-laáoi likreí de la cala*

r* «atera

(Mcho)* 1

CftMll

fila

Figm 2.1 Imito ce I di estíodir, ÍÜi, cwl

Una fila se define como un conjunto de celdas yuxtapuestas que siguen

las primeras reglas descritas. Debido a la extensión de las celdas se puede

utilizar más de una fila, por lo tanto se tendrán filas paralelas, entre las

filas paralelas se definirá un espacio para enrutamiento externo, espacio al

cual se le da el nombre de canal.

24

Page 35: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

El ancho del canal no se define, ya que dependerá de la complejidad de

las interconexiones y de la eficiencia del "ruteador" utilizado.

2.2.2 Puntos de acceso a la celda

Los puntos de acceso definen o señalan las regiones en donde la celda

se vinculará con el exterior (Figura 2.2). Dichos puntos se ubican en el punto

medio de un ancho elemental sobre los lados libres de la celda;

consecuentemente si se considera como O la coordenada del origen (esquina

inferior izquierda), las coordenadas de los pines de acceso serán (n+i/2)*w ,

donde ri puede tomar valores enteros a partir de O (coordenada horizontal).

D

Fipirt 2.2 Pines de acceso

Para enrutamiento en el diseño de un circuito integrado utilizando la

tecnología CMOS12 se dispone de tres capas: metal 1, metal 2 y polisilio.

Para realisar la interconexión de la celdas con las líneas de entrada

y salida externa se usa metal 1. Para rutas externas paralelas a las filas de

celdas se utiliza metal 2.

25

Page 36: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

El ancho tanto de los caminos de metal 1 como de metal 2 será de 4A y

el espaciamiento mínimo de 3A. Esto fija la distancia mínima en 7A para las

líneas de interconexión externas de la celda. Sin embargo, para facilitar las

interconexiones verticales que ingresan a la celda y para que se ubiquen

correctamente en la grilla, se fijó en 8A.

2.2.3 Restricciones internas de la celdas

En este numeral se especifican las restricciones sobre la disposición

de las diferentes capas de materiales dentro de la celda, que posibilitan el

agrupamiento correcto de las celdas sin que se violen las reglas de diseño de

la ES2, cuando se considera su relación con celdas adyacentes. Dentro de la

celda por ejemplo no es obligatorio que los caminos de metal sean de 4A, puede

usarse la mínima medida que permite ES2 (3A).

Las líneas de alimentación de las celdas serán regiones en metal 2,

dispuestas en los bordes superior e inferior de la celda con un ancho de 10A.

(Fig. 2.3). Se utiliza metal 2 debido a que los pines de acceso a la celda que

también se ubican en los bordes superior e inferior de la celda se diseñan en

metal i.

RBCIONMÍAS

GND ta x

Fijan 1.} Lioeis de iliiuLiciói

Las vías deberán ubicarse en regiones donde no se ubiquen los caminos

26

Page 37: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

de polarización, es decir separadas 10X de los lados libres de la celda y 2X

de los costados de la celda para asegurar no violar la regla que exige un

espaciamiento mínimo entre vías de 2A (Fig. 2.3) .

La región de pozo está sujeta a restricciones que permitan definir una

región continua de pozo la colocar las celdas una a continuación de otra. El

ancho será por lo menos de la mitad de la altura de la celda, es decir 30 A.

Considerando la necesidad de realizar pozos, que no estén aun potencial

igual a VDD (pozos N calientes), se permite ubicar pozos en otras partes de

la celda, pero distanciados 7 X del borde vertical de la celda (Fig. 2.4).

&a A

30 A

7'A 7 A

2.4 Región pozo

Las áreas activas se restringen con la regla de diseño la cual no

permite acercar más de 4X dichas regiones si las mismas tienen distinto

potencial; por lo tanto, la región permitida es un rectángulo alejado 2X de

cada lado, tal como se aprecia en la figura 2.5. Igual situación se da para

polisilicio y metal 1.

Los contactos y vías se deberán ubicar en una región que diste por lo

menos IX de los 4 bordes de la celda; las vías también deberán cumplir con la

restricción de no localizarse en zonas destinadas para caminos de

alimentación.

27

Page 38: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

MBCIOH

-2 A

Pigur» 2.5 legión aréis icti?w, polisííico7 Kt i l l

2.2.4 Líneas de interconexión externas

Las líneas de interconexión externas entre celdas se realizan en metal

1 y metal 2. En el área de los canales, metal 1 se ubica verticalraente (capa

exclusiva para acceso a la celda) y metal 2 horizontalmente, las

interconexiones se harán tal como se muestra en la figura 2.6.

ttoCelda

vía» 4 A

METAL 2

Figón J.6 Coaeu'oies titernts

28

Page 39: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

2.3 ESPECIFICACIONES GENERALES DE UNA CELDA ESTÁNDAR

Cada una de las celdas deben someterse a los siguientes procedimientos;

a.-Diseño a nivel lógico

b.-Diseño a nivel de transistores

c.-Simulaciones preliminares

d.-Elaboración del layout

e.-Simulación considerando los elementos parásitos

f.-Desempeño dinámico de la celda

g.-Simulación del peor caso

h.-Características energéticas

i.-Desempeño estático

Los pasos a, b, y d corresponden a los tres niveles de abstracción que

involucra todo diseño de circuitos integrados, nivel funcional, estructural

y físico, los otros seis pasos son simulaciones, las cuales permitirán evaluar

la calidad del diseño.

En el diagrama de flujo de la figura 2.7 se puede observar el proceso

que se sigue en la elaboración de una celda estándar.

Sí se analiza el flujograma en detalle, se observa lo siguiente:

1,- Se parte definiendo cuales son las características con las que debe

cumpJ ir la celda ha diseñarse, en otras palabras que función

desempeñará la misma.

2.- Se definen además los parámetros del proceso, es decir la tecnología

bajo la cual se debe diseñar la celda, en el proyecto que se participa

la tecnología escogida es CMOS 12, definiéndose el X del proceso de

0.75 mieras (unidad básica a la que se hizo referencia en la descripción

de las reglas geométricas de la celda.

3.- Planteados las especificaciones y parámetros del proceso se procede a

29

Page 40: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Fipir* 2.7 Dirruí de f lojo del proceso de diseño de ui ce ¡di cstíndir

30

Page 41: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

realizar el diseño que involucra un diseño a nivel lógico y de

transistores.

4.- Se realizan las primeras pruebas al diseño, mediante simulación, si los

resultados son satisfactorios se continúa en el proceso, sino tse debe

rediseñar hasta obtener los resultados deseados.

5.- Cumplidas las primeras pruebas, debe continuarse con el diseño a nivel

físico, preparando el "layout" del circuito.

6.- Con el "layout" se deben evaluar nuevos parámetros, tales como:

elementos parásitos y dimensiones reales de los transistores.

7.- Especificada la celda completamente, con todos los elementos

involucrados en su descripción física, se realiza una segunda

simulación, si los resultados obtenidos no son satisfactorios,

nuevamente se debe rediseñar el layout, si no se mejora de esta manera

la respuesta, se debe rehacer el trabajo desde el inicio.

8.- Pasadas estas pruebas procede realizar la caracterización de la celda,

evaluar el desempeño dinámico de la celda, la respuesta de la celda en

el peor caso, las características energéticas y el desempeño de la celda

en condiciones estáticas(DC).

Se anal iza a continuación en detal le a cada una de los procesos

indocados que deben realizarse a las 4 celdas ha diseñarse que se asignaron

a nuestro país, utilizando un inversor en los pasos en los que se necesite un

ejemplo para visualizar de mejor manera la teoría planteada.

2.4 NIVELES DE DISEÑO DE UNA CELDA

2- 4. .1 Diseño a nivel lógico

En este nivel de diseño se pretende encontrar una representación a nivel

de estructuras lógicas para el circuito ha diseñarse; dichas estructuras

pueden ser compuertas lógicas o inclusive sistemas más complejos como son

31

Page 42: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

. ciertos circuitos combinacionales, multiplexores, sumadores o ciertos

circuitos secuenciales como flip-flops, registros.

En el caso de una celda estándar, normalmente se utilizarán compuertas

elementales ya que el objetivo del diseño de la celda es que estas sirvan de

subsistemas en circuitos más complicados.

Se debe buscar la manera de que el circuito ha diseñarse quede descrito

por ecuaciones lógicas, esto facilitará encontrar el mejor diseño, puesto que

para un mismo circuito surgirán múltiples soluciones.

Un circuito puede diseñarse a partir de tablas de verdad, vale recordar

que eri lógica CMOS se habla de dos estructuras complementarias: el pull-down

y pull-up, el pul.l-up formada por transistores p-MOS y el pull-down por

transistores n-MOS; si se diseña el pull-down por ejemplo, el pull-up también

queda diseñado por ser su estructura complementaria, es decir si se tiene dos

transistores n~MOS en el pull-down conectados a través de sus drenajes y

fuentes en paralelo, se tendrá dos transistores p-MOS en serie en el pull-up.

Sin embargo, no siempre está técnica de diseño resulta eficiente, si se

involucran demasiados transistores, la experiencia recomienda evitar diseños

en que las estructuras pul1-up o pul1-down tenga más de 5 transistores en

serie, ya que por el efecto de cuerpo la respuesta de este tipo de circuitos

es poco menos que mala; además se involucran demasiados elementos parásitos.

Gomo alternativas se tienen diseños a nivel de compuertas, debe recordarse que

compuertas e1ementales tales como: nand, nors de dos entradas e inversores

tienen estructuras circuitales equivalentes elementales.

En el caso del ejemplo del inversor, la ecuación lógica es:

32

Page 43: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

2-4.2 Diseño a nivel de transistores

Una vez obtenida la representación a nivel lógico de la celda o circuito

ha diseñarse, se debe proceder a reemplazar cada una de las estructuras

lógicas por sus respectivos circuitos equivalentes a nivel de transistores.

En un proceso CMOS típico el número de transistores n-MOS en el pull-down es

iguai al número de transistores p-MOS en el pull-up.

En el diseño a nivel de transistores radica vital importancia ya que el

mismo permite preparar el archivo para simulación SPICE, el cuál permitirá

realizar todas las simulaciones preliminares.

2.4.3 Simulaciones preliminares

En las simulaciones preliminares se hace una primera evaluación del

circuito diseñado hasta ese instante, a cada transistor se le asocia una

dimensión L (largo del canal) y W (ancho del canal), siendo estos dos los

únicos parámetros especificados en este paso del diseño.

Para adquirir un criterio para la elección correcta de W y L se deben

recordar las ecuaciones que rigen el comportamiento de un transistor MOS en

las tres regiones de trabajo.

Si Vgs-Vt<=0 (región de corte):

JTds-0 [Ec. 2.1]

Si 0<Vds<Vgs-Vt (región lineal):

[Ec. 2.2]

33

Page 44: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Si 0<Vgs-Vt<Vds (región de saturación):

Zds=-£(Vgs-Vt)2 [Ec. 2.3]

En las ecuaciones; Ids es la corriente drenaje-fuente, Vgs es el voltaje

compuerta-fuente, Vt es el voltaje umbral y fi es el factor de ganancia del

transistor. Matemáticamente fí se define como:

En esta última expresión u, es la movilidad de los electrones o huecos

en el canal, e es la permitividad y tox el grueso del aislante de la compueta

(Si02). En el caso de un circuito digital que utilice dispositivos MOS, un £

mayor produce mejores efectos debido a que el crecimiento de Ids produce

mayores velocidades de conmutación por ende una mejor respuesta de frecuencia,

ft se relaciona en forma directa con W y en forma inversa con L, un mayor W o

un menor L produce un mayor J3, L no puede disminuir desproporcionadamente ya

que esto producirá que se viole la regla de diseño que limita el largo del

canal a 2A según ES2,como consecuencia W es el parámetro ha ser manipulado,

un mayor ancho de canal mejorará la respuesta del circuito; sin embargo

existen limitantes de espacio que impiden anchos de canal excesivamente

grandes.

Utilizando estos criterios se puede asignar valores correctos de L y W,

siendo L fijado al valor de 2X.

Desde el punto de vista de simulación con SPICE son varios los

parámetros que permiten evaluar la calidad del diseño de un C.I., siendo los

fundamentales, los tiempos de retardo, márgenes de ruido y tensión de

inversión.

34

Page 45: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Util izando el gráfico 2.8, se definen los tiempos de conmutación;

te* - *•1 i

DEFMaON DE TffWPOS DE CONMUTACIÓN

tds

NT

Mb

\

i>í

1 ^ t b '11

yf

'*)

F*imte)M fe Vrk»

tfrN^qM brateii em h v^Ut*•'• fc^i é> rete* CT kfc^A

Figia 2,8 Tieipos de contutícíón

Para calcular los tiempos de subida ( t s ) y de bajada ( tb ) se procede de

la siguiente manera: se evalúan los tiempos para los cuales la señal se

encuentra en el 10% y en el 90% de Vmax. La diferencia de estos tiempos son

ts o tb dependiendo del caso.

Para el cálculo de los tiempos de retardo de propagación se evalúa el

35

Page 46: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

tiempo en el que la entrada está en 50% de Vmax y el tiempo en el que la

salida igualmente se encuentra en el 50% de Vmax, la diferencia de esos

tiempos da el retardo de propagación tanto de subida como de bajada,

dependiendo de cual de estos se analice.

Para definir los márgenes de ruido y la denominada tensión de inversión

se utiliza la Fig 2.9.

V «al Ida

de rti Ido y terne ion de

Inuerori6n

Figsri 2.3 Há^eaes de nido j yolUje de iiíersió»

El punto en el que Vin=Vsal, se define como tensión de inversión. Para

los márgenes de ruido, se encuentra los puntos donde las tangentes a la curva

de 3a figura 2.9 forman 45", definiéndose dichos márgenes de la siguiente

manera:

. NMH=Margen de ruido para alto.

NMH-VDD-V2 (segunda tangente a 45°) [Ec. 2.5]

36

Page 47: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

NML=Margen de ruido para bajo.

,WMZ>V1 (primera tangente a 45°) [Ec. 2.6]

2.4.4 Elaboración del layout

El nivel físico de diseño de un circuito integrado es la elaboración del

layoutj procedimiento en el cual se representa geométricamente las diferentes

capas que forman él circuito integrado.

Las capas típicas que intervienen en un proceso CMOS son: pozo N,

implantes p+ y n+, área activa, metal, vías, contactos y polisilicio. El

proceso CMOS 12 de la casa ES2, utiliza dos capas de metal (metal 1 y metal

2),y solo una de poíisilicio, se utiliza como consecuencia de esto la capa de

vías para interconexiones entre las dos capas de metal. En la figura 2.10 se

presenta el "layout" de un inversor con las diferentes capas que lo

conforman.

Las funciones de las principales capas de un circuito integrado son:

i.- El área activa define los sectores donde se implantarán los transistores

en eJ proceso de fabricación.

2.- La capa de implante define el tipo de transistor implantado.

3.- El poiisilicio define las compuertas de los transistores. El cruce de

una área activa y de una tira de polisilicio genera un transistor, si

la área activa soporta un implante p-f- se genera un transistor PMOS y si

soporta un implante n+ se genera un NMOS.

4.- El pozo es del tipo N, dicho pozo soporta todos los transistores PMOS

y se ubica en la parte superior del layout.

iDetalle lajoit inversor, 'Principies oí CMOS VLSI desip', Eshraigaa K, pag 8! a 85

37

Page 48: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

C*piu» ±iw»]«cT*áiM en el Alte fíe detota tetó* cotiridix <imtTtoi)

mvtal 1

;p«,l jy II (crin.

contacto

¿re a activa

Figira 1.10 Inversor 7 cap» inrolucridaa ei se diseoo

5.- El método utilizado para contrarrestar el efecto del LATCH-UP es la

utilización de los plugs a VDD y a GND. Un plug a VDD es un implante n+

y el plug a GND un implante del tipo p-K

6.- .Para interconexión entre diferentes niveles se utilizan contactos y

vías; para interconexión polisi Licio con metal 1, área activa pozo o

sustrato se utilizan los contactos y para la interconexión entre los dos

niveles de metal se utilizan las vías.

El layout permite obtener parámetros geométricos tales como: la área de

fuente, drenaje, el perímetro de fuente y drenaje y la relación ancho/largo

para la fuente y para el drenaje.

El simulador SPICE calcula automáticamente los parámetros que quedan

definidos únicamente por los valores de L y W, tales como capacitancias y

resistencias parásitas intrínsecas en el transistor; por ejemplo la

38

Page 49: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

capacitancia generado por el aislante, el polisilicio y el sustrato (cfc ).

Otro tipo de elementos parásitos tales como resistencias y capacitancias

asociados a los caminos de polisilicio, metal1, meta!2 necesariamente deben

ser calculados fuera del programa SPICE utilizando un software adecuado o en

su defecto manualmente.

2.4.5 Simulación considerando los elementos parásitos

Las primeras simulaciones permiten evaluar idealmente el circuito

diseñado considerando únicamente los modelos para transistores n y p que

entrega la casa fabricane ES2 y que incluyen parámetros del proceso pero no

elementos parásitos por lo que debe completarse el análisis calculando los

diferentes elementos parásitos de la celda, principalmente resistencias y

capacitancias.En el anexo D se presenta los cuadros de valores de resistencias

y capacitancias para las diferentes capas para la casa fabricante ES2.

La resistencia asociada a una capa uniforme de un material conductor se

expresa de la siguiente manera:

.:*-(-£) *( —) [Ec. 2.7]t w

Donde:

p = resistividad

t ** grueso de la capa

1 « largo de la capa

v - ancho de la capa

Esta expresión puede ser reescrita tal como:

/?=» /?—* ( — } fFr ? fi 1rj > ^' i. •'~'*- • í6. o j

39

Page 50: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Donde:

[Ec. 2.9]

La última ecuación define la resistencia por cuadro para un material

cualquiera.

Toda casa fabricante de circuitos integrados tabula estas resistencias

por cuadro para cada uno de los niveles de diseño ya que conoce cuales son la

características eléctricas y el grosor del material que utiliza.

En el caso de las capacitancias debe recordarse que la misma se expresa

de la siguiente manera:

2.10]tox

Donde:

A=Area de las láminas que forman el capacitor

e =permitividad relativa del material

ert=permitividad del vacíou Ktox=grueso del dieléctrico

Esta ecuación puede ser reescrita de la siguiente manera:

C=CA*A [Ec. 2.11]

Siendo C. la capacitancia por área para una capa determinada,al igual

que la resistencia por cuadro esta capacitancia por área es tabulada por la

40

Page 51: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

o

casa fabricante.

En el diseño de un circuito integrado, la evaluación de las resistencias

y capacitancias parásitas se las hace a partir del layout.

Para el cálculo de las resistencias parásitas se procede de la siguiente

manera:

i _El camino, al que asociamos una resistencia, sea de polisilicio, metall

o meta!2 tiene dos dimensiones:

- La transversal al flujo de la corriente: ancho del camino (a).

- La que está en dirección del flujo de corriente: largo del camino(l).

(figura 2.11).

2.-

3 —

w.t le n C«BHM u»ti*d»a ua mofará pañtibi

Figm 2-11 Definido* Óifteasiotes de cniio il qoe se MOCU m I parí si La

Se encuentra la relación largo/ancho lo que proporciona el número de

cuadrados, la cual se multiplica por el dato correspondiente de las

tablas, las cuales nos entregan resistencia laminar es decir Q/cuadrado.

En el caso de contactos y vías las resistencias ya tienen un valor fijo;

41

V44

Page 52: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

cuando se conectan varios contactos o vías, las resistencias de estos

contactos o vías se colocan en paralelo produciendo que la resistencia

equivalente disminuya, esto desde el punto de vista de funcionamiento

de la celda es ventajoso ya que la resistencia parásita disminuye

mejorando la respuesta del circuito,

4.- Para los caminos de metal 1 y metal 2 las resistencias asociadas a

dichos caminos resultan despreciables en comparación con las

.resistencias de los caminos de polisilicio por lo que es recomendable

en lo posible realizar enrutamientos en metal 1 y metal 2 dentro de las

celdas estándar y en general en todo circuito.

Para el cálculo de las capacitancias parásitas se procede de la

siguiente manera:

Se calcula el área de la zona de la cual se desea obtener la

capacitancia parásita, cabe anotar que aquellas áreas de polisilicio que

estén sobre el pozo y no intercepten áreas activas generan una

capacitancia con respecto a V™ (Fig 2.12), y aquellas que igualmente

estén sobre el substrato y no intercepten áreas activas generan una

capacitancia con respecto a GND. (Las zonas que están sobre área activa

también generan capacitancias parásitas, pero el modelo Spice ya las

considera).

2,- Calculada dicha área, se multiplica por la capacitancia por unidad de

área del polisi licuó, los caminos de metal igualmente generan

capacitancias pero de valores despreciables frente a los generados por

los caminos de polisilicio.

42

Page 53: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

••*EJen l» gráfle* 4a

Figura 2.12 Ejeiplo gráfico de capacitancia ptrísita

Ejemplo de cálculo de elementos parásitos

• t!-1. ' '

Utilizando el layout1 a escala del inversor (Fig. 2.13) se indica a

continuación la forma de calcular sus resistencias y capacitancias parásitas.

El transistor sobre el pozo N es un transistor p-MOS, el mismo tiene un

ancho(W) de 9 p- y un largo (L) de 1.5 U-> el transistor sobre el substrato es

del tipo n-MOS, dicho transistor tiene L=1.5|i y W=3n.

Las compuertas de los dos transistores se conectan a través de una tira

de polisilicio (en el gráfico es la tira sobre el cual está la palabra

entrada), dicha tira tiene una resistencia parásita asociada, ia cual se

calcula de la siguiente manera: desde el punto medio de la área activa del

transistor pMOS se mide el largo del camino hasta el punto medio del área

activa del transitor nMOS obteniéndose llp., el ancho del camino es la

dimensión transversal es decir l,5m evaluando el cociente I/a del camino se

obtiene 7.33 cuadros la cual se multiplica por el valor de 25 Q/cuadro que

43

Page 54: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

1 1

a•*:>

C

cc

r\7

B«_XD«

ENTRADft

r^DZC

D

na

N

n

nni — It 1

u

uu

vcx

1 1

Figura 1.13 Ujout del. lumsoí

entregan las tablas de la ES2 (ANEXO D) para caminos de polis i 1 icio

obteniéndose una resistencia de 183.3 Q.

La tira de metal 1, que une los drenajes de los dos transistores para

producir la salida del inversor, tiene una resistencia asociada bajísima ya

que la relación I/a (llu/3u=3.66) debe multiplicarse por el valor de

60mQ/cuadro lo que da una resistencia de 220 mQ, dicha resistencia está en

serie con las resistencias de los contactos de los implantes p+ y n+. En el

caso del. transistor p-t- son tres contactos; los cuales entre sí están en

paralelo, la resistencia de estos tres contactos es de 50 Q (el paralelo de

tres resistencias de 150 Q, que es la resistencia para contactos implante p+

dada por ES2) . Los 220 mQ, son despreciables frente a los 50 Q de los

contactos, la resistencia equivalente de estas resistencias en serie es

prácticamente la resistencia de los tres contactos. La resistencia equivalente

está en serie con la resistencia del contacto del transistor nJvfOS (R de 75 Q),

obteniéndose un resitencia equivalente total de 125 Q, que es la resistencia

que une finalmente los drenajes de los dos transistores.

44

Page 55: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Igual procedimiento se utiliza para el cálculo de las resistencias que

conectan las fuentes de los transistores con VDD (pMOS) o con GND (nMOS).

Para el cálculo de la capacitancias parásitas, se deben evaluar áreas,

en el caso del layout la tira de polisilicio que conecta los gates, la parte

de la misma sobre el pozo forma un capacitor respecto a VDD, y el resto de la

tira sobre el substrato genera una capacitancia respecto a GND, no se toman

en cuenta 1as áreas de po 1 isi1icio sobre áreas activas; e1 programa SPICE

calcula automáticamente dicha capacitancia. Calculadas dichas áreas se

multiplica por los valores dados por ES2 obteniéndose 0.72ÍF para la

capacitancia que une la compuerta del transistor pMOS con VDD y de 1.37 fF

para la capacitancia que une la compuerta del transistor nMOS con GND.

De igual manera se calculan las capacitancias generadas por los caminos

de metal 1 en la salida, obteniéndose 0.59fF para las capacitancias que se

une a VDD y de 1.15ÍF la que se une con GND.

El circuito equivalente con todos los parámetros calculados se presenta

en la Fig. 2.14.

riN E»ITO«DO sur»

D

I.^f3 '

d d9O-XDA INT

CRXJDA INVERSOR

Figiu 2.14 IiTersor y sis eleieatoa parásito»

45

Page 56: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

.2.5 CARACTERÍSTICAS DINÁMICAS DE UNA CELDA

2.5,1 Disipación dináaica de potencia

Las señales de entrada de un circuito CMOS digital no permanecen en un

solo estado lógico, más bien están conmutando constantemente entre los dos

estados lógicos. Este constante cambio de estado lógico produce que el

circuito disipe potencia que, por su origen toma el nombre de disipación

dinámica de potencia.

Una medida de la potencia de disipación de un circuito CMOS elementa]

como una función de la frecuencia puede ser obtenida del modelo presentado en

la figura 2.15.

V tn

Vout

Vi. V«

Vav< Va i

To

IX [\5 Kodelo gráfico pan enlucían de U Poteicii diiíiici disi

O

La potencia promedio de la señal cuadrada de entrada de frecuencia

fo=l/To es:

46

rur ejempio ei tiempo de

subida en función de la carga puede ser expresada por la siguiente ecuación:

47

Page 57: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

2'12]

En esta ecuación tsO es el corte con el eje Y (eje ts) y m es la

pendiente de la curva; esta ecuación permite evaluar la respuesta de la celda

para valores fuera del rango de simulación.

En cada una de estas simulaciones paramétricas se debe evaluar la

capacitancia de entrada que presenta cada una de las entradas a prueba.

Para evaluar la capacitancia de las entradas a una celda se procede de

la siguiente manera:

La corriente se expresa como i= dQ/dt de donde se tiene que

f±dt-Q ÍEc. 2.13]

La capacitancia se expresa como C= Q/V.

Se evalúa la corriente que proporciona cada señal de entrada, se íntegra

dicha corriente y el resultado se divide para el voltaje. Luego se evalúa el

valor medio de dicho cociente.

En el capítulo 3 se visualiza de mejor manera este análisis para las

cuatro celdas asignadas a nuestro país.

Capacitancia de carga

En estos ensayos se mantiene la temperatura en 25"C, la tensión de

alimentación Vnn en 5 V. Se presentan lo modelos típicos de los transistores.

48

Page 58: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Temperatura

En estos ensayos se mantiene la carga en 0.5 pF, que es igual a 5 veces

la capacitancia de entrada aproximada de uri inversor típico, la tensión de

alimentación en 5V, la temperatura toma valores de -25 O 25 55 85°C. Se

emplean los modelos típicos de los transistores.

Voltaje de polarización

En estos ensayos se mantiene la carga 0.5 pF, la temperatura en 25°C,

la tensión de alimentación toma valores de 4.5 4.75 5 5.25 5.5. Se utilizan

lo modelos típicos de los transistores.

2.5.3 Simulación del peor caso

La simulación del peor caso se la realiza con las siguientes

especificaciones: temperatura de 85°C, tensión de alimentación de 4.5V y la

capacitancia de carga variando de O a IpF en pasos de 0.1 pF. Los modelos de

los transistores que se utilizan son los "lentos".

Se definen tres modelos de transistores, el modelo rápido, el típico y

el modelo lento.

Las diferentes casas fabricantes no aseguran el 100% de las

características de los transistores fabricados, algunos parámetros propios del

transistor como tox (grueso del aislante SÍ02) capacitancias internas no

siempre son iguales. Además si se recuerda las ecuaciones [2.1] [2.2] y [2.3]

si el L teórico es menor aJ L del circuito fundido, el circuito es de menor

velocidad de conmutación, si L teórico es mayor, en cambio el circuito real

es de mayor velocidad de conmutación. Toda casa fabricante tiene evaluado los

rangos de variación que puede sufrir un circuito real del circuito diseñado.

El transistor de peores características es el lento (menor velocidad de

conmutación), sobre todo considerando que el principal parámetro de evaluación

49

Page 59: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

de Ja calidad de un circuito integrado es la respuesta de frecuencia.

2.5.4 Características energéticas

Se deben realizar otras simulaciones a fin de completar la

caracterización de la celda desde el punto de vista energético y controlar las

corrientes que intervienen en el circuito. Estas especificaciones son

necesarias ya que permitirán conocer los límites de temperatura y de densidad

de corriente que deberá suministrar la alimentación. Los parámetros que se

deben evaluar en este análisis son:

-Corriente pico positiva entregada por la fuente V™, Inn(D;coi]

-Corriente pico negativa entregada por la fuente V™, !m)[0¡cn_i

-Corriente promedio entregada por la fuente V™, lnn[Droa)

-Potencia pico disipada por la celda, PD(D¡CO)

-Potencia promedio disipada por la celda, jPn(pr0[l]

Evaluando dichos parámetros, se sabrá si las dimensiones

fundamentalmente de los caminos de polarización son adecuadas. Uno de los

efectos que se debe considerar en este análisis es la electromigración, que

es el transporte de iones de meta] a través de un conductor como consecuencia

del paso de una corriente directa (DC), esto deforma los caminos y por lo

tanto causa mal funcionamiento del circuito, las principales causas de la

electromigracióri son:

-densidad de corriente

-temperatura

-estructura cristalina

Para determinar el ancho necesario de los caminos de polarización se

debe evaluar el consumo de corriente que tiene Ja celda de acuerdo a la

temperatura de funcionamiento del circuito.

De acuerdo a las reglas de diseño de la ES2 para CMOS1.2 se tienen los

siguientes valores para el cálculo de las corrientes máximas que pueden

circular por un camino de metal 2 de ancho W:

50

Page 60: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Para 70°C:

2.4[Ec. 2.14]

Para 85 °C:

[Ec. 2.15]

Para 100°C:

[Ec. 2.16]

Para 140°C:

[Ec. 2.17]

En todas estas ecuaciones W está en \m, I en mA.

De las especificaciones anteriores se desprende que para una ancho de

10 A (7.5um) que poseen los caminos de metal 2 usados para las líneas de

polarización para todas las celdas, la máxima corriente DC que puede pasar por

ellos es de 7,95 mA (85°C), corriente que muy difícilmente se alcanzará en un

circuito CMOS, por lo que la dimensión elegida para los caminos de

polarización es suficiente.

51

Page 61: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

2.6 CARACTERÍSTICAS ESTÁTICAS DE UNA CELDA

2.6.1 Disipación estática de potencia

Una compuerta "ideal" (3*33, como se indica en la figura 2.16, puede

tener en la entrada en condiciones estáticas, cualquiera de los dos estados

lógicos, OL ó 1L, en cualquiera de los dos casos, existe un transistor en

corte "OFF". Para el caso de tener un O lógico en la entrada, el transistor

en "OFF" es el nMOS, y en el otro caso, entrada a 1 L, el transistor en "OFF"

es el pMOS, por la tanto la potencia estática de disipación (Ps) es igual a

cero.

A H "OFF"

Figín 2.1C Coipiertí 003

Sin embargo en una compuerta CMOS "real" se forman diodos parásitos.

Vale recordar que la corriente en el diodo se define por la siguiente

ecuación:

52

Page 62: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

[Ec. 2.18]

donde:

is - corriente inversa de saturación

V = voltaje en el diodo

q = carga del electrón

K = constante de Boltzman

T = temperatura

Por lo tanto cada uno de los diodos parásitos polarizados inversamente

(Figura 2.17), tendrán una corriente parásita asociada, por ende, la potencia

estática de disipación real se presenta en la Ec 2,19

PB = corriente parásita*voltaje polarización

[Ec 2.19]

ri = número de diodos parásitos existentes en el dispositivo.

. . . . Pigín 2,17 Trusintor CMOS j diodos parásitos

Una potencia típica de disipación estática para un inversor operando a

5 voltios, está entre 1 y 2 nW.

53

Page 63: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Por ende la potencia real de disipación si bien no es igual a cero, en

un caso práctico como del inversor es despreciable.

2.6.2 Deseapeffo estático

Dentro del desempeño estático de una celda interesa caracterizar

básicamente ios niveles lógicos de salida y los márgenes de ruido. Si el

circuito va a ser usado en el ambiente completamente CMOS, las corrientes en

condiciones estáticas de entrada y de salida son prácticamente nulas, por ende

Ps tienede a O, por lo que no interesará estudiar que ocurre con diversas

situaciones de carga. Basados en esta situación, se estudia solo los márgenes

de ruido.

Temperatura

El rango de variación de la temperatura entre -25 °C y 85 "C la tensión

de alimentación debe permanecer en 5V,la carga fija a 0.5 pF.

Tensión de alimentación

En estas simulaciones se mantienen la temperatura a 25 °C la carga fija

en 0.5 Pf y la tensión de alimentación debe variarse en el rango especificado

de 4.5 a 5.5 V.

54

Page 64: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

CAPITULO 3

LAS CELDAS ESTÁNDAR

£n el presente capítulo se presenta el diseño en detalle de las cuatro

celdas asiganadas a nuestro país siguiendo el procedimiento detallado en el

capítulo 2. Las celdas asignadas a nuestro país son: Mux2-l, Mux8-i, Sumador

Completo y Medio Sumador, para complementar el trabajo al final del capítulo

se hace una referencia breve de las celdas típicas de una biblioteca estándar.

3.1 MUX2-J.

3-1.1 Diseño a nivel lógico

Un.MUX 2-1 es un circuito digital que contiene tres entradas, dos de

datos y una de control, y una salida; el control permite elegir cual entrada

irá hacia la salida (Fig 3.1).

o

Mw MSafiái (Y)

Pipra 3.1 fti 2-1

La ecuación booleana que representa al MUX 2-1 es la siguiente;

Y - II. C + X0.C

55

56

Page 65: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

elementales del circuito de la figura 3.2 por su circuito a nivel de

transistores figura 3.3 se obtiene el circuito que se detalla en la Fig 3.4.

El MUX 2-1 tiene 14 transistores en total.

ENTRADA 2

Pigín 3,2 Diseáo Lógico del Mnil-t

E INVERSOR T SU EQUIVALENTE A NIVEL D€ THAMSISTt»6S

1£o

-^ rTl

NWO DE Z EKTRATM&

Figín 3.3 tíaiá e iwersor j si eqiirtleite i ihcl de tiuiialores

57

Page 66: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Figura J.4 Diseno i nml de transistores

3-1.3 Simulaciones Preliminares

En este paso se utilizó el programa SPICE-NET, para la edición gráfica

del MUX 2-1 y el PSPICE para simulación. En la edición gráfica se especificó

en cada uno de los transistores solamente L y W ya que los otros parámetros

físicos, tales como área de drenaje, área de fuente, perímetro de drenaje}

perímetro de fuente, relaciones de aspecto del drenaje y de la fuente, se

obtienen una vez realizado el layout. Los parámetros eléctricos proporcionados

por la casa fabricante de estos transistores se encuentran en el archivo

MODEL12.1ib (características del modelo típico de los transistores nmos y

pmos).

El largo del canal en todos los transistores es de 2 A5 siendo lambda(A)

para la tecnología CMOS 1.2 de 0.75 mieras, quedando L=1.5nm. Los anchos de los

canales varían de unos a otros, los transistores de mayores dimensiones son

los que forman la salida del MUX 2-1, debido a que estos transistores son los

que manejan directamente la carga, los otros transistores miran una carga

58

Page 67: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

disminuida debido a las etapas intermedias entre estos transistores y ia carga

. Para el diseño de los transistores de salida se utilizó la técnica de x

transistores en paralelo de ancho de canal W obteniéndose un transistor

equivalente de ancho de canal x*W.

DRENAJE

FUENTE

MENAJE

t IITH ,_,fc 1,3*

FUENTE

3 TRANSISTORES DE AW2O W SCN EQUIVALENTES A I DE AWCHO 3W

Fig 3.5 Trusistor eqainleEte al fonudo por nrios trusistorea

Para la elección de las dimensiones de los transistores de salida, se

siguió el procedimiento explicado en el capitulo 2, se fijó la longitud L del

canal del transistor en l,5um, y se varió las dimensiones de W hasta obtener

una respuesta satisfactoria de la celda, se partió de valores de W= 3pun para

los dos tipos de transistores, para luego de varias simulaciones finalmente

obtener el valor de W = 29.25 nm para el transistor pMOS y de 6|im para W del

transistor de salida, los valores de W son mayores para los transistores pMOS

y esto se debe a que el valor de la movilidad de los huecos es la tercera

parte del valor de la movilidad de los electrones, por lo que los transistores

pMOS son de menor velocidad de conmutación que los nMOS ya que la corriente

Ids que es función directa de la movilidad, define la velocidad de conmutación

de los dos tipos de transistores.

La señal de mayor frecuencia utilizada para las simulaciones es de

25 MHz, valor que plantearon los organizadores del proyecto con la finalidad

59

Page 68: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

de asegurar un buen valor para el ancho de banda de los circuitos diseñados.

El archivo .CIR del circuito utilizado en las simulaciones preliminares

es el siguiente:

inux2-l«SPICE_NET•INCLUDE MODEH2.LIB-MODEL PMOS PMOS LEVEL-2 LD*0.1U TOX-2.50E-8 NSUB=5E16 VTO»-1.1+UOB210 UEXP*0.33 UCRIT-51PC DELTA»0.4 XJ=0.5U VMAX«47K NEFF«0.88+RSH-75 NFS«0 JS-10U CJ»490U CJSW=590P MJ-0.46 MJSW-0.46 PB=0.78+CGDO*320P CGSO*320P GAMMA*0.87 NSS»0 LAMBDA-0.MODEL NMOS NMOS LEVEL-2 LD=0.325U TOX-2.50E-8 NSUB«2B16 VTO-0.7-tUO=510 UEXP-0.22 DCRIT-24.3K DELTA-0.4 XJ-0.4U VMAJt«34K NEFF-4.0+RBH=55 NFS-0 JS«2U CJ»130U CJSW-620P MJ-0.53 MJSW=0.53 PBn0.68V+CGBO-2E-10 CGDO-320P COSO-320P GAMMA-0.65 MSS«0 LAMBPA-0.OPTIONS LIMPTS-5000.TEMP 25.TRAN 0.1N 170N.PROBÉ.PRIHT TRAH V(12) V(7) V(10) V(75) V(4)M16 14 75 3 14 PMOS ]> 1.SU W=9UM18 4 75 14 14 PMOS L=1.5ü W-6UM19 12 8 14 14 PMOS L-1.5U W*29.25UMil 4 75 O O NMOS L-1.5U W«6UM20 3 7 5 0 NMOS L-1.5U ff"6UM21 O 75 5 O NMOS L«1,5U W«6UVI 7 O PULSE OV 5V 1H 1N 1N 39N SONV2 14 O DC 5VV3 10 O PULSE OV 5V 1N 1N 1K 19N 40N (señal de mojror frecuencia)V4 75 O PULSE O 5 1N 1N 1N 79H 160HC7 12 O .5PFM30 8 10 2 O NM03 L=1.5U W=6UM31 0 4 2 0 NMOS L«1.5U W=6üM32 12 8 1 O NMOS L-1.5U W-12UM33 0 3 1 0 NMOS L=1.5U W*12UM34 8 10 14 14 PMOS L*1.5U W=6UM35 14 3 12 14 PMOS L-1.5U W-29.25UM36 14 4 8 14 PMOS L-1.5U W-6UM17 3 7 14 14 PMOS L«1,5U W«9U.END

En las simulaciones preliminares se obtuvieron los siguientes resultados

para los tiempos de retardo.

Recordando que:

ts=tiempo de subida

tb=tiempo de bajada

tds=tiempo de retardo en la subida

, " tdb=tiempo de retardo en. la bajada

ENT 1 (11)

ENT 0 (10)

ts(ns)

1.49

1.42

tb(ns)

1.76

1.99

tds(ns)

1.94

2.01

tdb(ns)

1.69

2.27

Tibíi J.f Siiiiicio«eí p re l imina res

60

Page 69: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Para la especificación de tiempos de retardo para una ceida con varias

entradas, se recomienda analizar la entrada que produce los mayores retardos,

de esta simulación preliminar se concluye que es la entrada 10 (es decir la

entrada que pasa a la salida cuando en el control se tiene un "O" lógico).

3.1.4 Elaboración del layout

Con ayuda, del editor gráfico EMA2 que es parte del paquete de diseño de

circuito integrados TEÑIOS, se procedió a realizar el layout de la celda MUX

2-1, utilizando las dimensiones de W y L conseguidas en la simulaciones

preliminares.

Debido a que la altura de la celda es de 60 A es decir de 45u. y el ancho

del transistor pmos de la salida es de 29.25|i se procedió a utilizar la

técnica de transistores en paralelo, la cual da un transistor equivalente de

mayor ancho de canal ocupando la misma altura de celda. Otra técnica es la de

utilizar caminos en serpetín, sin embargo se tiene dificultad en evaluar el

efecto de esquina que se produce con esta técnica.

En el anexo A.l se encuentra el layout de la celda, en ella se observa

entre otras las siguientes particularidades :

-De los límites superior e inferior de la celda se han recorrido 5A,

para comenzar a dibujar los implantes p-f y n+ debido a que se debe

preveer un espacio para el diseño de los pines de acceso de la celda tal

como se indica en la figura 3.6.

-Se ha hecho enrutamiento tanto en polisilicio, metal 1 y metal 2, para

aprovechar de mejor manera el poco espacio que existe para el efecto.

-Por cada nand o inversor que forman el multiplexor, se ha hecho

contactos o plugs a Vdd y a Gnd, ES2 recomienda hacerlos por lo menos

cada lOOp,, logrando así prevenir el efecto de latch-up.

61

Page 70: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

2 A conrtacto

4 A

«u-parior- cold*

1 y

I 1 A

Figón 3.6 Pincg de acceso del Wll-í

-Para aprovechar de mejor manera el área disponible de la celda se

realizaron caminos de polisilicio verticales los cuales al cruzarse con

las respectivas áreas activas producen los transistores complementarios.

-Como ya se anotó anteriormente, las dimensiones de los transistores que

van conectados a la salida de la celda son los únicos que toman

dimensiones grandes.

-En los sitios en donde se requieren contactos, se los ha hecho

espaciados 2 A, y el mayor número posible, cada contacto tiene una

resistencia asociada, si se colocan varios contactos se colocan sus

resistencias en paralelo, por lo tanto la R equivalente es menor que la

R de cualquier contacto, esto beneficia en la respuesta de la celda,

debido a que el efecto parásito introducido por los contactos es menor.

-El número de celdas elementales utilizado en la celda del MUX 2-1 fue

de 21.

El archivo .CIF correspondiente al MUX 2-1 se presenta en el ANEXO B.l

El layout y las tablas en las que se tabulan los valores de R,C del

proceso de la casa fabricante ES2 (ANEXO D) permitieron calcular todas las

62

Page 71: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

.resistencias y capacitancias parásitas existentes en la celda, obteniendo así

el circuito completo de la celda, el que permitirá proceder con el siguiente

paso.

3.1.4 Simulación considerando los elementos parásitos

Las primeras simulaciones son satisfactorias sin embargo se debe

proceder a evaluar los elementos parásitos de la celda.

En el Anexo C.i se presenta el archivo .CIR y en la figura 3.7 presenta

el circuito con todos los elementos parásitos calculados.

Cabe anotar que el encontrar estos efectos parásitos es uno de los

trabajos más laboriosos en la descripción de una celda estándar, tal como se

lo realizó para todas las celdas del proyecto, en forma manual.

Se realizó la simulación de este circuito con el SPICE obteniéndose los

siguientes resultados: (Vnn=5V Cr=0.5pF)uu u

PARÁMETRO

Tiempo de subida (ts)

Tiempo de bajada (tb)

Retardo de propagaciónpara flanco ascendente

Retardo de propagaciónpara flanco descendente

Tensión de inversor

Margen de ruido denivel bajo

Margen de ruido denivel alto

VALOR

1.840 ns

2.410 ns

2.150 ns

2.550 ns

1.720 V

1.645 V

3.150 V

Tabla 3.2 He saludos considerando efectos parásitos

63

Page 72: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

a •a s

Page 73: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

3.1.5 Deseapeño dinámico

El desempeño dinámico queda caracterizado por los tiempos de retardo

el consumo de corriente y la disipación de potencia.

Para evaluar dicho desempeño se deben variar diferentes parámetros de

simulación, es decir realizar simulaciones paramétricas. Se debe realizar el

análisis variando la capacitancia de carga, la temperatura y la tensión de

alimentación.

Capacitancia de carga

En estos ensayos se mantiene la temperatura en 25 "C, la tensión de

alimentación Vnn en 5 V. Se presentan lo modelos típicos de los transistores.

CL

PF

0.0

0.1

0.2

0.3

0.4

0.5

0.6

0.7

0.8

0.9

1.0

ts

ns

0.73

0.91

1.15

1.40

1.60

1.84

2.10

2.42

2.61

2.86

3.00

tb

ns

1.12

1.38

1.57

1.86

2.04

2.41

2.62

2.87

3.14

3.46

3.80

tds

ns

1.62

1.74

1.88

2.05

2.08

2.15

2.35

2.48

2.59

2.64

2.83

tdb

ns

1.79

1.97

2.13

2.29

2.40

2.55

2.65

2.82

2.98

3.04

3.15

Cin 11

fF

38.48

39.04

38.80

39.32

38.92

38.44

38.12

38.68

39.72

40.40

40.4

Cin C

fF

64.00

63.60

63.20

62.80

64.40

62.80

64.00

63.60

63.60

64.80

65.20

CinlO

fF

20.04

20.52

20.88

19.00

21.36

20.52

21.12

19.60

19.64

20.48

21.24

Tibí i 3.3 Descipeío diníiico.Variidói de li capacidicii O,

Se aprecia que las diferentes capacitancias de entrada prácticamente son

65

Page 74: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

independientes de la carga de salida, debido a la extensión de la celda, es

decir mientras más larga sea la celda muclio menor efecto producirá la carga

en el valor de la capacitancia de entrada,las capacitancias promedios

obtenidas son las siguientes:

Cin Il(prora)=39.12 fF

Cin C(prom)=63.81 fF

Cin I0(prom)=20.40 fF

Los gráficos correspondientes a la variación de los diferentes tiempos

de retardo se encuentra en la figura 3.8. Se puede observar, en esta figura,

que los tiempos de conmutación (ts, tb, tds y tdb) aumentan al incrementarse

la capacitancia de carga, lo cual resulta lógico pues al aumentar dicho valor,

el tiempo de carga es mayor.

DESEMPEÑO DINÁMICO NOMINALVariación de la capacitancia de carga

o O.3 0.4 as ae 0.7Capacitancia de carga (pF)

as O.9

Fignrt 3J Vimcifa capacitucíi de

66

Page 75: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Utilizando el programa QPRO se obtuvo los parámetros de linealización:

ei corte con el eje Y y la pendiente de las curvas.

Los valores obtenidos se presenta en la tabla 3.4:

tO(ns)

m(ns/pF)

ts

0,680

2.370

tb

1.060

2.630

tds

1.631

1.171

tdb

1.845

1.358

Tibia 3.4 Pifítetros de liteiliuciÓa

Los valores tO y m permiten la extrapolación, ya que se puede estimar

aproximadamente la respuesta del circuito para valores fuera del rango de

prueba, las curvas quedan definidas por la ecuación y=mX + tO, siendo X el

valor del parámetro que se está variando en la simulación,en este caso la

carga C^.

Teaperatura

En los ensayos concernientes a la influencia de la temperatura, se

mantienen la tensión de alimentación y la capacitancia de carga en valores

nominales. La temperatura se varía entre -25°C y 85°C. Los resultados

obtenidos se resumen en la tabla 3.5.

T

°C

-25

0

25

55

85

ts

ns

1.43

1.70

1.84

2.03

2,38

tb

ns

1.91

2.16

2.41

2.58

3.01

tdsȖs

1.92

2.05

2.15

2.48

2.71

tdb

ns

2.09

2.31

2.55

3.14

3.14

Cinll

fF

39.08

38,84

38.44

38.88

38.32

Cin C

fF

64.40

63.60

62.80

62.40

62.00

CinlO

fF

20.92

21.24

20,52

19.64

20.52

Tiblí 3.5 Denetpeüo di i í i ico.Vir iacióf de La teiperttiu

67

Page 76: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Las capacitancias de entrada promedios son las siguientes:

Cinll(prom)=38.71 fF

CinC(prom)=63.04 fF

CinIO(prom)=20.57 fF

Las curvas correspondientes a las variaciones de los tiempos de retardo

en función de la variación de temperatura se presentan en la figura 3.9.

Del gráfico se concluye que cualquiera de los tiempos de conmutación

se incrementa con el aumento de la temperatura, se puede entonces estimar el

funcionamiento del circuito ya fabricado en condiciones extremas de

temperatura.

3.2

1.4-40

DESEMPEÑO DINÁMICOVariación de la temperatura

o 20 4OTemperatura ( C)

6O 8O 1OO

te H> fds -®- tdb

Pigui 3.9 Vtmción de [i Uvperitm

68

Page 77: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

De estos gráficos se obtienen ios parámetros de lineal ización que se

presentan en la tabla 3.6.

tO(ns)

n(ps/*C)

ts

1.640

8.10

tb

2.147

9.53

tds

2.050

7.36

tdb

2.310

9.46

Tablí 3.6 Parí tetros de Liiuliuciót

Tensión de alimentación

En este paso se varió el valor de V™ entre 4.5 y 5.5 V en pasos de 0.25

V como se detalla en la tabla 3.7.

Igualmente se evaluaron los tiempos de retardo así como las

capacitancias de entrada obteniéndose los siguientes resultados:

DD

V

4.50

4.75

5.00

5.25

5.50

ts

ns

1.98

1.91

1.84

1.60

1.60

tb

ns

2.60

2.60

2.41

2.15

2.11

tds

ns

2.53

2.41

2.15

2.12

2,01

tdb

ns

2.80

2.65

2.55

2.49

2.39

Cin 11

fF

40.40

40.00

38.44

37.96

38.40

Cin C

fF

64.80

63.60

62.80

63.20

63.20

CinlO

fF

20.44

19.64

20.52

22.80

20.40

Tibí i 3.7 Deseipeio diuíiico.Vinicióa fócate de poLiriucióí

Las capacitancias de entrada promedio son las siguientes

Cin Il(prom)=39.04 fF

Cin C(prom)=63.52 fF

Cin I0(prom)=20.76 fF

69

Page 78: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

El gráfico de variación de los tiempos de retardo en función de la

variación del voltaje Vnn est'á detallado en el figura 3.10.

DESEMPEÑO DINÁMICOVariación de la fuente de polarización

1.64 5 4.6 4.7 4.8 4.9 5 5.1 5.2 5.3 5.4 5.5

Voltaje o> polarización (V)

tds -e-tdb

Pigiri 3,10 Variación del fo l l a j e de poliri licita

En este gráfico se observa que los tiempos de conmutación decrecen al

tener un valor mayor de voltaje de polarización, esto se debe a que

manteniendo fijo el valor nominal de la capacitancia de carga existe una mayor

corriente que le permite cargarse más rápido. De los valores obtenidos se

concluye que el funcionamiento del circuito en condiciones de disminución o

aumento del valor de la fuente de polarización sufre pequeñas variaciones en

los tiempos de conmutación; la celda es prácticamente independiente de la

variación de la fuente de polarización, dentro de los límites simulados, vale

recordar que no se puede alimentar a un circuito integrado con valores de

fuente DC que no se encuentre en un rango aceptable, para la lógica positiva

utilizada, el. estado de 1 lógico se asocia con 5V, y el de O lógico con OV .

Los parámetros de linealización son los presentados en la tabla 3.8.

70

Page 79: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

tO(ns)

m(ns/V)

ts

3.92

-0.428

tb

5.23

-0.572

tds

4.90

-0.532

tdb

4.53

-0.392

TabU 3.8 Parámetros de linealiíicióa

3.1.6 Simulación del peor caso

La simulación del peor caso se llevó a cabo con una temperatura de 85°C,

tensión de alimentación de 4.5V y la capacitancia de carga variando de O a

IpF. Los modelos de los transistores que se utilizaron son los "lentos". Los

resultados obtenidos se presentan en la tabla 3.9.

CL

PF

0.0

0.1

0.2

0.3

0.4

0.5

0.6

0.7

0.8

0.9

1.0

ts

ns

1.50

1.90

2.40

2.72

3.31

3.39

4.07

4.18

4.86

5.22

5.51

tb

ns

2.48

2.93

3.62

4.15

4.81

5.46

5.97

6.50

7.13

7.73

8.61

tds

ns

3.40

3.69

3.89

4.24

4.49

4.81

4.87

5.12

5.22

' 5.42

5.64

tdb

ns

3.50

4.00

4.30

4.59

5.00

5.85

5.58

5.90

6.27

6.52

6.85

Cin 11

fF

43.60

43.20

43.60

42.80

42.80

43.60

43.60

42.80

43.60

43.60

43.60

Cin C

fF

62.80

62.40

62.00

62.00

62.00

62.00

62.80

62.80

62.00

62.00

62.00

CinlO

fF

21.90

20.08

19.44

20.08

20.40

20.00

20.52

20.12

19.52

20.08

21.48

TibU 3.9 Sinliciót del peor cuo

En la figura 3.11 se presentan los gráficos de la variación de los

tiempos de retardo en función de la variación de la capacitancia de carga para

el peor caso.

71

Page 80: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

•sr

SIMULACIÓN PEOR CASOVariación de la capacitancia de carga

O O.1 O.2 O.3 Q.4 0.5 O.6 O.7Capacitancia de carga (pF)

O.9

•tb •fdb

3.H SinltciÓR peor ciso

Los datos presentados en el gráfico permite observar el comportamiento

de la celda en condiciones extremas, se concluye que para estas condiciones

de funcionamiento los tiempos de conmutación aumentan en un 80% a 120%

respecto a los presentes en condiciones nominales (Tabla 3.3). Los parámetros

de linea]ización son los siguientes:

to(ns)

n(ns/pF)

ts

1.533

4.035

tb

2.390

6.020

tds

3.520

2.200

tdb

3.610

3.260

Tibí i 3.10 Piiiietroa de lineal iucíói

72

Page 81: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

3.1.7 Características energéticas

Se realizaron otras simulaciones a fin de completar la caracterización

de la celda desde el punto de vista energético y controlar las corrientes que

intervienen en el circuito. Parámetros tales como:

-Corriente pico positiva entregada por ia fuente VDD,IDDÍpico+)

-Corriente pico negativa entregada por la fuente VDD, lDD(pico_)

-Corriente promedio entregada por la fuente VDD, IDD(proiB)

-Potencia pico disipada por la celda,PD(pico)

-Potencia promedio disipada por la celda,PD(proin)

De las especificaciones técnicas para evaluar el ancho del camino de

polarización se desprende que para una ancho de 10X (7.5|im) que poseen los

caminos de metal 2 usados para las lineas de polarización, la máxima corriente

DC que puede pasar por ellos es de 7,95 mA.

La forma de calcular estas corrientes es utilizando el programa

INTUSCOPE del SPICE de INTUSOFT, el cual permite evaluar valores máximos

mínimos, y promedios de cualquier función temporal (voltaje o corriente), en

base a resultados numéricos que se obtienen como resultado de simular un

circuito con SPICE.

La corriente pico máxima obtenida en las simulaciones es de 2.01 mA,

como se observa en la tabla 3.11 . Este valor de corriente es menor que el

valor de corriente máxima que puede circular por los caminos de polarización,

el efecto de electromigración por ende no influirá en el funcionamiento de la

celda.

En la tabla 3.11 se tabula los valores obtenidos en la simulación.

73

Page 82: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

CL

pF

0.0

0.1

0.2

0.3

0.4

0.5

0.6

0.7

0.8

0.9

1.0

lDD(p+)

mA

0,332

0,340

0.328

0.327

0.326

0.345

0.327

0.331

0.334

0.337

0.341

IDD(p-)

mA

1.37

1.12

1.33

1.50

1.63

1.72

1.80

1.86

1,92

1.96

2.01

IDD(pro)

MA

47.8

57.8.

68.9

80.0

91.3

103.0

115.0

126.0

138.0

149.0

161.0

PD(pico)

mW

6.85

5.60

6.65

7.50

8.15

8.60

9.00

9.30

9.60

9.80

10.00

PD(pro)

uw239

289

344.5

400

456.5

515

575

630

690

745

805

Ubi» J.ll Características eaergéticas.Variación de CL

En la figura 3.12 se presentan los gráficos de variación de corrientes

y potencias en función de la variación de la capacitancia de carga.

De la figura 3.12 se determina que los valores de las corrientes pico+

permanecen constantes en la mayoría de evaluaciones, mientras que los valores

de las potencias pico y promedio aumentan de acuerdo al incremento de la

capacitancia de carga, las potencias involucradas eson bajas, la respuesta

energética de la celda por ende debe ser buena.

3.1.8 Desempeño estático

Dentro del desempeño estático interesa caracterizar básicamente los

niveles lógicos de salida y los márgenes de ruido. Para este análisis se hace

uso del comando .DC del SPICE mediante el cual se varía el voltaje de entrada

en 10 entre O y 5 V en pasos de 0.1 V.

74

Page 83: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

"C

1OOOO

10OO

CARACTERÍSTICAS ENERGÉTICASVariación de la capacitancia de carga

O O.1 0.2 0.3 0.4 0.5 O.6 O.7 0.8 0.9 1Capacitancia de carga (pF)

-D0(pro)-PD(píoo)

3.Í2 CmcterísticM Ewrgéticis. bpacitucn de

Teaperatura

En un rango de variación entre -25 °C y 85 "C, y con una tensión de

alimentación 5V, los resultados obtenidos son los siguientes.

T

"C

-25

0

25

55

85

N(v)

1.645

1.647

1.645

1.600

1.575

N,™

(V)

3.154

3.155

3.156

3.155

3.140

IPV

(V)

1.750

1.730

1.720

1.720

1.670

Tibí i 3.12 Deseipeío es tá t ico .Vir i ic ióa de U Teiperitnri

En la figura 3.13 se presentan ios gráficos que indican la variación de

75

Page 84: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

los márgenes de ruido en función de la variación térmica, observándose que

prácticamente son independientes de la temperatura.

DESEMPEÑO ESTÁTICOVariación de la temperatura

O-xí-

O fi-

¿A>

O A-

2.2

Ift-

1.6-

-1 A-

* 1 — : — T~~ *"*; ¡ ii t ij | J

! i1 tt !t !

' i T ""

i , 11 1

' Í T

I t

w — P— — -im-\—

1 T

1- í , —4

i «~í—

1

J

i

1 --.

L

...

— «.

— **(~~~ — j — mi

-40 -20 O 20 40Temperatura ( C)

8O 1OO

M M L — • — N M H -m-V (tnv)

Fipra 3.Ü Des cipe no estítico. Variación de li Icipentira

Tensión de ali»entación

En estas simulaciones se mantuvo la temperatura a 25 °C y se varió la

tensión de alimentación en el rango especificado de 4.5 a 5.5 V. Se generó la

tabla de valores 3.13

En la figura 3.14 se presentan los trazos correspondientes a la

variación de los márgenes "de ruido en función de la variación del voltaje VDD.

Contrariamente a lo que ocurre en la figura 3.13, donde los valores de los

márgenes de ruido permanecen constante frente a las variaciones de

temperatura, en este gráfico se ve que existe un crecimiento del margen de

ruido en alto un poco acelerado y aumento del margen de ruido en bajo y de

76

Page 85: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

la tensión de inversión lento. El margen de ruido para alto es el más afectado

y esto se debe a que sí se varía la fuente de alimentación se da un mayor

margen para la señal en alto.

vwV

4. 50

4.75

5.00

5.25

5.50

X*

V

1.492

1.560

1-645

1.680

1.730

%

V

2,930

3.000

3.156

3.320

3.450

VT1Í7

V

1.500

1.630

1.720

1.800

1.840

Til U 3.13 DeseipeSo estítico.ytriicióa de VDO

as-

3;

O fl~¿L-O

2-

1.5*

„ — , — —

i

iT """"i

L_cx=s=L^=^=z*

4.5 4.6 4

DESEMPEÑO ESTÁTICOVariación del Voltaje

í i

i i

•'•• "

_^~- — —

i iI I: i

,„., i ,.

__-*— 1— - -rrrrrít=3t~\ - — T~"~ "[ I " T

¡r

! i ^_4—- — -i_— -*— r í— — -j-- — * ' '

• I I ! !íiiiíII

It. — ^~ — ~~~~

r i i! ii i' iu i i., „i |

""" 1 i... ! i

"~í*~ ! ! •r i i ¡ i

iiii

1! íi i

.7 4.8 4.9 5 5.1 5.2Voltaje VDD (V)

-»-NM L ~^-NM H -*- V (Tw)

5.3 5.4 5.

Pi'gm 3,H Degeipeío estático. Variaciód VolUje de poliriucióa

77

Page 86: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

3.2 MEDIO SUMADOR

3.2.1 Diseño a nivel lógico

El medio sumador es un circuito que permite obtener el resultado de la

suma booleana de 2 entradas digitales, es decir de dos señales binarias que

se las va a especificar como 10 e II. El resultado de la suma se lo tiene que

representar en dos salidas digitales (dos bits) que se denominan CARRY (C) y

SUMA (S).

En álgebra dé Boole el medio sumador se representa de siguiente manera:

Donde:X0: antradalT¿: entrada2S: salida SUMAC: salida. CARRY

Se puede apreciar de una mejor forma el funcionamiento del circuito

mediante su tabla de verdad:

110

0

11

10

0

10

.1

C

0

0

0

1

S

0

110

Tibi í J .H TabU de fcrdid del IOIO SUItADOÍ,

Emp1eando 1 as 1eyes de 1 algébra de Boole se puede encontrar una

expresión que permita utilizar la función correspondiente al CARRY para

obtener el bit de SUMA:

78

Page 87: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

En los pasos anteriores se observa que se puede utilizar la expresión

del CARRY para obtener la salida SUMA. Además se ha logrado encontrar una

expresión que es más fácil de implementar con compuertas ÑOR y NAND. La razón

para este procedimiento es por un lado la reducción del número de transistores

a utilizarse en el circuito y por otro la sencillez de las configuraciones de

las compuertas NAND y ÑOR con transistores MOS. En la figura 3.15 se presenta

el circuito a nivel de transistores de la compuerta ñor de 2 entradas, ei

circuito equivalente a nivel de transistores tanto del inversor como el de la

compuerta nand de dos entradas ya se presentó en la figura 3.3.

ÑOR DE 2 ENTRADAS Y SU EQUIVALENTE A NIVEL DE TRANSISTORES

IN1 <y.3

Fijan J . I5 Cnpoertí ÑOR y si eqiinlente i aivel de [fasistores

En la figura 3,16 se presenta el circuito del medio sumador realizado

con compuertas elementales:

79

Page 88: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

EKTTODfl 0

OPRRY

ENTTtflOfl i

Figan 3,16 Circuito lógico tedio Siiador

3.2.2 Disefk) a nivel de transistores

La compuerta NAND de 2 entradas está compuesta por 4 transistores, la

compuerta ÑOR de 2 entradas por 4 transistores y el inversor por 2

transistores. En la figura 3.17 se ha reemplazado las compuertas elementales

de la figura 3.16 por su esquema a nivel de transistores.

3.2.3 Simulaciones Preliminares

Haciendo uso del programa SPICE-NET del ICAPS para la edición gráfica

del esquemático del MEDIO SUMADOR, y del PSPICE para las simulaciones

correspondientes, se determinaron las dimensiones geométricas básicas que

permiten el mejor funcionamiento del circuito. Las consideraciones hechas en

la celda MUX2-1 para este paso son también válidas en esta celda.

El archivo .CIR (que contiene la descripción de modelos de transistores)

del circuito utilizado en las simulaciones preliminares se detalla en las

página 81 y 82.

80

Page 89: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Figura J . I 7 El tedíosmiíor j so c i rcui to equ iva len te i l i v e i de transistores

med lo Bilmador*SPICE NET

•MODELOS DE LOS TRANSISTORES

MNCLUDE MODEL12 .LIB

.MODEL PMOS PMOS LBVEL«2 LD*0. 1U TOX-2.50E-8 NSUB«=5E16 VTO*-1. 1 U0=210 UEXP=0.33 UCRIT*51KDELTA=0.4 XJ = 0 . 5 U VMAX=47K HEFF = 0 .88 RSH-7S HFSsO J S ^ I O U CJ»490U CJSff=590P - t -MJt=0.46M J S W = 0 , 4 6 P B = 0 . 7 8 CGDO=320P COSO=320P GAMMA=0.87 NSS=0 LAMBDA=0• MODEL NOS NMOS LEVEL=2 LD«>0.325U TOX-2.50E-8 NSUB = 2B16 VTO = 0 .7 UO*510 U E X P = 0 . 2 2 UCRIT«24.3K:DEI,TA = 0 . 4 XJ = 0 , 4 U VMAX=54 NEFF = 4 . 0 RSH = 55 NFS = 0 JS-2U CJ=130U CJSW=620P +MJ»:0.53M J S W t O . 5 3 P f l=0 .68V CGBO«2E-10 CODO=320P COSO=320P GAMMA-0.65 NSS-0 LAMBDA«0•COMANDOS DE CONTROL.TRAN 0. 1N 90H

-OPTIONS LIMPTS«50QO.TEMP 25. P R O B É* G I R C U I T O P R I N C I P A LM20 2 5 1 1 PMOS L a l . T?«Í2U

81

Page 90: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

M5 2 4 6 O NMOS La 1.5U ff=6UM6 6 5 O O NMOS L=1.5U W=6UM21 7 2 1 1 PMOS L a l . S U W=36UM8 7 2 O O HMOS L = 1 . 5 U W = 1 0 . 5 UM22 15 4 1 1 PMOS L = 1 . 5 U W»12UM Í O 9 5 15 1 PMOS L = 1 , 5 U W=12UM i l 9 4 O O iíMOS L = t . 5 U W = 7 . 5 UM 1 2 9 5 O O NMOS L = 1 . 5 U ff=7.5UM14 19 14 1 I PMOS J>1.5U W = 1 5 UM15 19 2 1 Í PMOS L=1.5U ff=l5UMI6 19 2 22 O NMOS I,-1 . 5U W=9UM I S 22 14 O O NMOS L = 1 . 5 U W=9UM23 14 9 1 1 PMOS L = 1 . 5 U W=I2UM24 14 9 O O NMOS L=1.5U W=3UM25 3 19 1 1 PMOS L*1.5U ff=36UM2G 3 L9 O O 1TM08 L» I . 5U W=9UMI 9 2 4 1 1 PMOS L«1.5U W=12U'CAPAC7TANCTAS DE CARGACIO 3 O .5PCJ1 7 O .5P«FUENTESVJ '1 O PULSE OV 5V 1K 1H 1N 19H 40hfV2 5 O PULSE OV 5V JN 1N IH 39N 80N.EHDV3 1 O DC SV. BND

En las simulaciones preliminares se obtuvieron los siguientes valores

de tiempos de conmutación:

CARRY

SUMA

ts(ns)

1.52

1.42

tb(ns)

1.28

1.30

tds(ns)

1.50

1.45

tdb(ns)

1.57

1.56

Tabla 3.15 Siiulicioncs prcl¡linares

Es aconsejable utiJizar, para las simulaciones restantes, la salida que

posee peores retardos. Por lo tanto se usará la salida CARRY.

3.2.4 Elaboración del layout

El editor gráfico EMA2 del TENTOS permitió realizar el layout de la

celda utilizando las dimensiones de W y L definidas en la simulación

preJiminar . El layout del medio sumador se presenta en el Anexo A. 2, el medo

sumador utilizó 24 celdas elementales es decir tiene una longitud de 144 UJTI

por 45 |im de alto. El archivo .CIÉ correspondiente al MUX 2-1 se presenta en

el anexo B.2.

Utilizando las tablas de especificaciones de capacitancias y resitencias

del proceso de fabricación correspondientes a la ES2 (Anexo O) se calculó las

82

Page 91: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

.resistencias y capacitancias parásitas existentes en el layout de la celda

para obtener el circuito completo con el que se realizan las demás

simulaciones. La forma en la que se calculan los valores de elementos

parásitos se detalla en la celda del MUX2-1.

3.2.5 Simulación considerando los elementos parásitos

A pesar que las simulaciones preliminares realizadas, las cuales

entregan información muy importante respecto al comportamiento del circuito,

es necesario especificar ciertos valores con mayor precisión y esto se lo hace

al datallar el funcionamiento del circuito con elementos parásitos bajo

condiciones de operación tanto normales como extremas. El archivo .CIR que

incluye todo los elementos parásitos se presenta en el anexo C.2. En la

figura 3.18 se presenta el medio sumador con elementos parásitos.

Se realizó la simulación de este circuito con el SP1.CE obteniéndose los

siguientes resultados (VDD=5V CL=0.5pF Modelos=Típicos Temp=25°C):

PARÁMETRO

Tiempo de subida (ts)

Tiempo de bajada (tb)

Retardo de propagaciónpara flanco ascendente

Retardo de propagaciónpara flanco descendente

Tensión de inversor

Margen de ruido denivel bajo

Margen de ruido denivel alto

VALOR

1.68 ns

1.47 ns

1.88 ns

1.95 ns

1.98 V

1.86 V

2.88 V

Tibia 3.16 Resillados coosidcnndo efectos parásitos

83

Page 92: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Figart 3.18 Kediosuiador ; sos ekíentos parís i los

84

Page 93: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

3.2.6 Desempeño dinámico

Variación de la capacitancia de carga

En la siguiente tabla se presentan los resultados obtenidos (VDD=5VTemp=25C Modelo=Típico).

exPF

0.0

0.1

0.2

0.3

0.4

0.5

0.6

0.7

0.8

0.9

1.0

ts

ns

0.623

0.81

1.01

1.25

1.49

1.68

1.92

2.11

2.40

2.58

2.75

tb

ns

0.57

0.78

0.94

1.12 •

1.32

1.47

1.67

1.87

2.02

2.24

2.40

tds

ns

1.18

1.35

1.50

1.64

1.76

1.88

1.99

2.13

2.23

2.36

2.44

tdb

ns

1.27

1.45

1.59

1.71

1.84

1.95

2.07

2.18

2.28

2.40

2.48

Cin VI

fF

87.6

87.2

87.6

86.0

88.0

87.6

88.4

87.6

86.8

87.2

87.2

Cin V2

fF

89.2

89.2

89.2

89.2

88.8

89.2

89.2

88.8

88.8

89.2

89.2

Tib i a 3.17 De se • pe ña diaíiíco.Variación de U cipuitucu CL

Las diferentes capacitancias de entrada prácticamente son independientes

de la capacitacia de carga y sus valores promedios son los siguientes:

Cin Vl(prom)= 87.38 fF

Cin V2(prom)= 89.09 fF

En la figura 3.19 se presentan los gráficos correspondientes a la

variación de los tiempos de conmutación respecto a la capacitancia de carga.

Como se observa los tiempos de conmutación se incrementan con el creciemiento

de la capacitancia de carga, esto se debe a que el tiempo de carga es mayor.

También se presentan los valores de lineal ización de los gráficos.

85

Page 94: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

DESEMPEÑO DINÁMICO NOMINALVariación de la capacitancia de carga

O O.1 0.2 O.3 O.4 0.5 O.6 O.7

Capacitancia de carga (pF)0.8 0.9

tete -&- tdb

Figart 3.19 Viriición de la cípacitincii de urgí

to ( ns )

m(ns/pF)

ts

0.6

2.15

tb

0.578

1.82

tds

1.23

1.24

tdb

1.32

1.18

Tibí» 3.Í8 Par¿»etros de Itneilhicióa

Variación de la temperatura

La tabla 3.19 muestra los resultados obtenidos en las simulaciones;

(VDD-5V CL=0.5pF Modelo:Típico)

86

Page 95: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

T

°C

-25

0

25

55

85

ts

ns

1.30

1.48

1.68

1.94

2.16

tb

ns

1.22

1.36

1.47

1.67

1.83

tds

ns

1.55

Í.72

1.88

2.09

2.30

tdb

ns

1.60

1.80

1.95

2.14

2.36

CinV2

fF

82.8

85.2

87.6

86.4

86.4

Cin V4

fF

88.8

88.8

89.2

89.6

91.2

Tibia J.19 Deseipefio dináiico.Variación de la teiperatura

Las capacitancias de entrada promedios son las siguientes:

CinVl(prom)= 85.70fF

CinV2(prom)= 89.50fF

Las curvas de las variaciones de los tiempos de conmutación en función

de la variación de temperatura se encuentran en la figura 3.20. Se concluye

que cualquiera de los tiempos de conmutación se incrementa con el aumento de

la temperatura. También se realizó la linealización de los gráficos y sus

valores se presentan en la tabla 3.20.

to(ns)

. m(ps/"C)

ts

1.84

7.93

tb

1.35

5.55

tds

1.717

6.804

tdb

1.804

9.986

Tabla 120 ParÍKtros de l i o e a l í u c i ó n

87

Page 96: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

00

CO

c/i

c/1 o en CO

1— *

00 í— '

-o CO )— '

CO

CO

CO o «0 o

C/l to Ln H- o o 00 LJ h- C

O00

CO -^ CO ^

Ul

o o G\0

-0 h-

CO CO I-1 Ul

CO

-0 to CO to

^ en 1— '

-o OJ

t— '

en (-*• 5 10 o CO Ln to 0

0CO "^

A Ln o I-1

CO o\n

to o o to h-* 00 to CO

CO

0\O

g CO CO >-*)

•-*)

< => rí-

w rr 0*

rí-

Cu

CO rr cr o H- 2 o H-

to

Tiem

pos

de c

onm

utad

or)

(ns)

b 05 H íí CO C 23 di

O CO CD £" CO 1 ' ' w H*-

3 £ 03 O r--

O 3 en CO CO o 3

0? •J H«

P8 O c> Cu

C5 ? rt- 2 w K-

Os

=) Cu

Í5 & >— H- a o 3 rr 50 O H- o.

o CO 01 H-

8- 8-

Page 97: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Las capacitancias de entrada promedio son :

Cin Vl(prom)= 85.92ÍF

Ciri V2(prom)= 89.36ÍF

Los gráficos de los tiempos de conmutación en función de la variación

del voltaje VDD está detallado en la figura 3.21. Los parámetros de

linealización se presenta en la tabla 3.22.

to(ns)

m(ns/V)

ts

3.292

-0.324

tb

1.148

0.084

tds

2.986

-0.22

tdb

3.566

-.0.32

Tabla 3.22 Parámetros de linealízacíón

oo

73

Ec8<D•o00o

DESEMPEÑO DINÁMICOVariación de la fuente de polarización

4.6 4.7 4.8 4.9 5 5.1 5.2j"-' ' •'•, /

Voftaje do polarización (V)5.3 5.4 5.5

tb fds

Fijara J . 2 I Var iac iói de It faeate de polar i íac ión

89

Page 98: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

3.2.7 Simulación del peor caso

Condiciones de test: VDD=4.5V Temp=85C Modelo=Lento.

CL

PF

0.0

0.1

0.2

0.3

0.4

0.5

0.6

0.7

0.8

0.9

1.0

ts

ns

1.09

1.34

1.82

2.11

2.48

2.88

3.26

3.6

4.01

4.38

4,81

tb

ns

1.18

1.56

2.11

2.48

3.01

3.44

3.98

4.46

5,03

5,57

6.02

tds

ns

4.46

4.69

4.86

5.13

5.43

5.64

5.9

6.16

6.46

6.61

6.92

tdb

ns

3.61

3.89

4.15

4.39

4.57

4.77

4.98

5.16

5.47

5.60

5.77

CinVl

fF

88.8

88.0

88.0

90.4

89.2

87.6

88.8

87.2

89.2

86.8

89.2

CinV2

fF

94.0

94.8

94.8

94.4

93.6

94.8

94.8

93.6

94.4

94.0

94.8

Tibia 3.23 Siwlicífa del peor caso

En la figura 3.22 se presentan los gráficos de la variación de los

tiempos de retardo en función de la variación de la capacitancia de carga para

el peor caso. Los datos presentados son importantes para observar el

comportamiento de la celda en condiciones extremas, se concluye que para estas

condiciones de funcionamiento los tiempos de conmutación aumentan en un 50%

a 70% respecto a los presentes en condiciones nominales.

. Los parámetros de linealización son los siguientes:

to(ns)

m(ns/pF)

ts

1.021

3.735

tb

1.079

0.405

tds

4.418

2.482

tdb

3.689

2.141

Tabla 3.24 Paritetros de uncí I incita.

90

Page 99: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

wS-^§E

8o•ov>O

SIMULACIÓN PEOR CASOVariación de la capacitancia de carga

<X3 0.4 a5 O.6 O.7Capacitancia de carga (pF)

3.22 Simlacióa del peor caso

3-2.8 Características energéticas

Las simulaciones que completan la caracterización de la celda desde el

puntio de vista energético y determinan las corrientes que intervienen en ei

circuito. Estas permiten conocer los limites de temperatura y de densidad

de corriente que deben proveer las fuentes de polarización.

En la siguiente tabla se tabula los valores obtenidos en la simulación.

91

Page 100: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

CL

pF

0.0

0.1

0.2

0.3

0.4

0.5

0.6

0.7

0.8

0.9

1.0

IDD(p+)

mA

0.439

0.439

0.439

0.439

0.439

0.439

0,439

0.439

0.439

0.439

0.439

IDD(p-)

niA

1.890

1.950

2.060

2.190

2.270

2.330

2.340

2.370

2.390

2.410

2.420

IDD(pro)

HA

70.7

80.2

91.0

102.0

114.0

125.0

137.0

148.0

160.0

171.0

183.0

JPD(pico)

mW

2.195

2.195

2.195

2.195

2,195

2.195

2.195

2.195

2.195

2.195

2.195

PD(pro)

uW

176.75

200.5

227.5

255.0

285.0

312.5

342.5

370.0

400.0

427.5-

457.5

Tibia 3.25 Caracíerííticts energéticas.Variación de (X

La forma de calcular estas corrientes es utilizando el INTUSCOPE del

SPICE de INTUSOFT, el cual permite evaluar valores máximos mínimos, y

promedios de cualquier función temporal (voltaje o corriente).

La corriente pico máxima obtenida en las simulaciones es de 2.42 mA, que

es menor que la corriente máxima que puede circular por los caminos de

polarización, el efecto de electromigración por ende no influirá en el

funcionamiento de la celda.

En la figura 3.23 se presentan los gráficos de variación de corrientes

y potencias en función de la'variación de la capacitancia de carga. De estos

se determina que los valores de las corrientes pico y promedio permanecen

constantea en la mayoría de evaluaciones, mientras que los valores de las

potencias pico y promedio aumentan de acuerdo al incremento de la capacitancia

de carga.

92

Page 101: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

"EOO

10000g-_

1

1000=

í

5

-

"1 O"

CARACTERÍSTICAS ENERGÉTICASVariación de la capacitancia de carga

í— -i— --i •( i ^ --:::::::::::?::::::::::]:::::::::::

-í- \ i

::::::::::t::::::::::á::::::::::;

r ^¿" fc! í

: i

ii

-í ----* -T •^_L^^--y

^f -T^••x..:— ap-H-TT....

— r

i

i i

j-

— — -r

«^ -St — >

í

_ <

, .

ii:::::::a

j .11 ^

— i —

0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0,6 0.7 0.8 O.9 1Capacitancia de carga (pF)

-Q- FO(plco) -H- PO(pro)

Figora 3.13 CracterísticíS Energéticas

3.2 .8 Desempeño estático

Temperatura

Condiciones de test: VÜD=5V CL=0.5pF Modeios=Típicos

T

°C

-25

0

25

55

85

Nm

(V)

1.90

1.88

1.86

1.83

1.82

IV

(V)

2.85

2.88

2.88

2.92

2.93

IH?

(V)

2.02

1.98

1.98

1.96

1.96

Tabla 3.26 Deseipeio estítico.Variaciói de Li Tciperitan

En la figura 3.24 se presentan los gráficos que indica la variación de

93

Page 102: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Jos márgenes de ruido en función de la variación térmica, observándose que

prácticamente son independientes de la temperatura.

coo>

o>

DESEMPEÑO ESTÁTICOVariación de la temperatura

3-

¿.0

2.6-

2-

1 0-

•*—

•^U„ _ .ÍW..J1

m~

-L

—m

• -^i

_^— '

1

1 — , • • • • *

r- m 1

t

h— •-40 -2O O 20 40

Temperatura ( C)&O 10O

»- N M L M H -m- V (ínv)

Figura 3.24 ReseipeSo Estítico. Ví r iac iÓB de li TeipenUn

Tensión de alimentación

Condiciones de test: CL=Ü.5pF Temp=25C Mode.los=Típicos

DO

V

4.50

4.75

5,00

5.25

5.50

N

V

1.67

1.77

1.86

1.94

2.03

Nffl

V

2.89

2.98

2.88

2.75

2.64

IKV

V

1.76

1.86

1.97

2,07

2.18

Tabla J.27 Deserpeéo es t í t i co .Var iac ión de

94

Page 103: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

2.6

s3Io

DESEMPEÑO ESTÁTICOVariación del Voltaje

4.5 4.6 4.7 4.8 4.9 5.1 5.2 5.3 5.4 5.5

M M L N M H V (tnv)

Figura 3,25 Deseipeio Estático. Variación follaje polarización

En la figura 3.25 se encuentran los gráficos correspondientes a la

variación de los márgenes de ruido en función de la variación del voltaje VÜD.

Contrariamente a lo que ocurre en la figura anterior, donde se tienen valores

prácticamente constantes en los márgenes de ruido frente a las variaciones de

temperatura, en este gráfico se ve que existe una reducción del margen de

ruido en alto y u aumento del margen de ruido en bajo y de la tensión de

inversión, al incrementarse el voltaje de polarización; además se observa que

el margen de ruido para alto es el más afectado y esto se debe a que estamos

variando la fuente de polarización es decir,se da un menor o mayor rango para

alto dependiendo de que VDD sea menor o mayor al valor de 5V.

95

Page 104: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

3.3 SUMA]X>R COMPLETO

3.3.1 Diseño a nivel lógico

Un sumador completo es un circuito combinacional que forma la suma

aritmética de tres bits de entrada. Dicho circuito consiste en tres entradas

y dos salidas. Dos de las entradas 12, II representan los bits más

significativos que se agregan. La tercera entrada 10 es el bit de arrastre de

alguna operación aritmética anterior. Las salidas se designan por los simbolos

S para la suma y C para el bit de arrastre. La variable S da el valor de la

suma del bit menos significativo. La variable binaria C da el bit de arrastre

de sal ida,La tabla de verdad del sumador completo se presenta en la tabla

3.28.

ErtrifeB

Swnfcr

Cmy

Figura J.16 Smdor Coipleto

12

00001111

1100110011

..10

01010101

C

00010111

S

01101000

Tibia 3.28 Tibia de verdad del amador completo

96

Page 105: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

<*

Existen diferentes técnicas para el diseño de este circuito, muchas de

las cuales se presentan en varios libros, sin embargo estas no dieron buen

resultado en pruebas preliminares realizadas con el SPICE, otras si bien

funcionaron a nivel de simulación el instante del diseño del layout

presentaron serios inconvenientes siendo el principal la falta de espacio para

enrutamiento dentro del espacio disponible para enrutaraiento.

Surgió entonces la idea de un diseño individual del carry y de la suma

con la condición de que solo las entradas 12, 11 y 10 sean comunes para los

diseños. Aislando el carry y la suma en diseños individuales se procedió de

la siguiente manera:

3-3.1.1 Diseño del carry

Se diseñó el carry negado, para e] efecto se utilizó la siguiente tabla, . ! '-'-..

de verdad:

12

00001111

1100110011

10

010i0101

-c11101000

Tablí 3.29 TaHí del curj

Dicha tabla se la subdividió en 2 tablas menores, para está subdivisión

se utilizó como criterio los,dos, valores de 12.

La primer subtabla se da cuando 12 está en "O" lógico la segunda para

cuando 12 está en "1" lógico.

97

Page 106: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Para el primer caso se obtiene la siguiente tabla de verdad.

110011

10

0101

-c1110

Tabla 3,30

La tabla 3.30 es la tabla de verdad de la compuerta nand de dos entradas,

la ecuación booleana que se genera de este cuadro es:

C=Z1.10

Para el segundo caso se obtuvo la siguiente tabla de verdad.

110011

10

0101

ci000

Ttblí 3.31

La tabla 3.31 es la tabla de verdad de la compuerta ñor de dos entradas,

la ecuación booleana que se genera de este cuadro es:

+ 10

Se debe unir estas dos condiciones en un solo circuito combinacional,

para el efecto se utilizó un MUX2-Í, el cual tiene como señal de control a 12,

cuando 12 está en "O" lógico, la señal que se tiene a la salida es la generada

por la nand y para la otra condición I2="l", la señal de salida es la generada

por la ÑOR.

En la figura 3.27 se detalla el circuito lógico para el carry.

98

Page 107: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ÑOR H

IN2

INO

INI

3

1 1_

S

L^ i

v^t>—^x

1J.CONT

0

MUXH-1

1

INV

NONO 2

CPlRRY

Figu» 3.27 Carrj

3.3.1.2 Diseño de la suma

Para el efecto se utilizó la tabla 1, iguaímente se la subdividió en dos

tablas menores con iguales condiciones a las del diseño del carry. La primera

para 12 en "O" lógico, la segunda para 12 en "1" lógico.

Para el primer caso se obtuvo la tabla de verdad 3.32.

110011

10

01

o "-i

s0110

Tabíi JJ2

La ecuación booleana generada de esta tabla de verdad es la de una or-

exclusiva:

99

Page 108: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

S = II © 10

Para el segundo caso la salida S es la negada del primer caso

es decir :

S = II W 10

Utilizando igualmente un MUX2-1 cuya entrada de control sea también 12,

para I2="0" la salida del mux es la generada por la or-exclusiva y cuando II

está en "1" lógico la señal que se tiene a la salida es la negada de la or-

exclusiva.

En la figura 3.28 se detalla el circuito lógico para la suma. En dicho

gráfico se observan dos inversores adicionales, esto se debe a que la sal ida

se acopla con la carga .Necesariamente el último inversor será de grandes

dimensiones.

OR-EX

3

L^ 11CONT

1

SUMR

MUX2—1

3.28 SDM

3.3.2 Diseño a nivel de transistores

El diseño a nivel de transistores del sumador se realizó en módulos

100

Page 109: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

individuales, las compuertas elementales que forman parte del sumador : nand,

ñor, or-exclusiva, inversor y el mux2-l tiene su representación individual

a nivel de transistores.

Para el mux2-l y para la or-exclusiva se utilizó una nueva técnica de

diseño, la de las compuertas de transmisión (dos transistores el uno de tipo

pMOS y el otro del tipo nMOS conectados fuentes y drenajes entre si, siendo

el control las compuertas de dichos transistores , las que normalmente son

alimentadas por señales de estado lógico inverso). Esta técnica tiene como

principal ventaja la de disminuir la cantidad de transistores necesarios para

el diseño de circuitos integrados y su principal desventaja, es que no tienen

muy buena respuesta de frecuencia es decir a frecuencias altas, no responden

adecuadamente.

Con lógica convencional el MUX2-1 tiene 14 transistores, y la or-

exclusiva 12, si se utiliza estos equivalentes se produce los mismos problemas

que en los primeros diseños deshechados, es decir falta de espacio para

completar el diseño.

t» ex

Pipirt 3.29 Or-Btclisiio

Con compuertas de transmisión cada uno de estos circuitos tiene 6

transistores, reduciéndose los problemas de espacio. En las figuras 3.29 y

101

Page 110: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

3.30 se presentan los circuitos a nivel de transistores del mux2-l y de la or-

exclusiva.

Fipra 130 fti 1-1

Tanto en el Mux 2-1 como en la compuerta Or-Exclusiva, las compuertas

de transmisión funcionan como interruptores, que dependiendo de la señal de

control, se abren o cierran, impidiendo o permitiendo pasar una determinada

señal lógica.

El sumador completo tiene 34 transistores detallados de la siguiente

manera:

4 inversores

2 muxs

1 nand

1 ñor

1 or-ex

8 transistores

12 transistores

4 transistores

4 transistores

6 transistores

total 34 transistores

102

Page 111: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

3.3.3 Simulaciones preliminares

Al igual que en el diseño a nivel de transistores, las simulaciones

preliminares se realizaron primero por módulos, es decir se simuló

individualmente al mux 2-1, al or-exclusivo, a la nand, a la ñor y a los dos

tipos de inversores, grande y pequeño. El motivo de esta última subdivisión

se debe a que se necesitan dos variantes del inversor, el primero tipo

encargado de acoplar la carga (grande) y el segundo tipo de inversor cuando

es parte interna del circuito (pequeño).

La carga que se utilizó en la simulación de los diferentes módulos (a

excepción del inversor grande) fue de O.lpF; el inversor grande se simuló con

una carga de 0.5pF.

La razón por la que se utilizó la carga de O.lpF se debe a que las

celdas caracterizadas hasta este punto presentan en sus entradas una

capacitancia que fluctúa en ios lOOfF.

Para las simulaciones de cada módulo se uti lizó el SP1CE-NET en la

edición gráfica, y en la simulación el PSPICE, se especificó solo L y W. Se

obtuvieron los siguientes tiempos de retardo en cada uno de los módulos;

Compuer ta

Mux 2-1

Or-ex

Nand

Ñor

Inv Grande

Inv Pequeño

ts(ns)

0.80

0.75

0.70

.0.90

1,50.

0.95

tb(ns)

0.75

0.95

0.65

0.92

1.92

0.80

tds(ns)

0.92

0.85

0.75

0.70

1.50

0.65

tdb(ns)

0.96

0.93

0.85

0.95

1.62

0.75

Tablt 3.1} Siiilaciraes prel¡linares (nódilos)

Los resultados de cada módulo resultaron completamente satisfactorios

por lo que se procedió a la edición del archivo .CIR del sumador completo,

archivo que se presenta a continuación:

103

Page 112: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

suma*SPICE_NET*INCLUDB MODBU2.LIB.MODEL NMOS NMOS LEVEL=2 LD*Q.325U TOX=2.50E-8 NSUB«2E16 VTO=0.7-fUO = 510 UEXP»0.22 UCRIT=24.3¿ DELTA«0 . 4 . XJ = 0 . 4U VMAX»54K NEFF-4.0+RSH=55 NFS«0 JS = 2U CJ=130U CJSff=620P MJ*0,53 MJSW=O.S3 PB-0.6SV+CGBO=2E-10 CODO*320P CGSO=320P QAMMA-0.65 NSS = 0 LAMBDA=0.MODEL PMOS PMOS LEVEL=2 LD=0.iU TOX=»2,5QE-8 NSUB=5E16 VTO«-1.1í-UO = 210 ÜEXP = 0.33 UCRIT=51K DELTA=0.4 XJ = 0.5U VMAX-47K NEF.F-0.88+RSH=75 NFS=0 JS=10U CJ=490U CJSW-590P MJ*0.46 MJStf*0.46 PB-0.78+ CGDO=>320P COSO=320P OAMMAaO.87 NSS = 0 LAMBDA-0.OPTTONS LIMPTS^SOOO.TEMP 25.TRAN 0,]N 170N.PROBÉ.PRINT TRAN V(8) V(9) V(10) V(6) V(7) V(4) V(5)VI 1 O DC 5VV2 2 O PULSE OV 5V 1N 1N 1N 19N 40NV3 3 O PULSE OV 5V 1N 1N 1N 39N 80NV4 11 O PULSE OV 5V 1N 1N 1N 79N 160N.Cl 21 O 0.5PFC2 10 O 0.5PFXI 6 7 U 9 1 MUX21X2 4 5 11 8 I MUX21X3 2 3 6 1 NAND2X4 2 3 7 1 NOR2X5 2 3 4 I EXORX6 4 5 1 rNVCIIICOX7 9 10 1 TNVBIGX8 S 20 1 IHVCHICOX9 20 21 1 TNVBIG.SUBCKT 1NVBIO 2 1 3M6 O 2 1 O NMOS L-1.5U W=12UM5 1 2 3 3 PMOS L-1.5U W=36U.ENDS.SUBCKT INVCHICO 2 1 3M6 O 2 I O NMOS L-l.SU ff»3UM5 1 2 3 3 PMOS L-1.5U ff=9U. RNDS.SUBCKT EXOR 4 6 1 14M2 1 6 2 O NMOS L»1.5U W=3UM3 6 2 1 O NMOS L-1.5U W->9UM4 2 4 o o NMOS L-i.su w*3ü : ,;:M14 1 6 4 14 PMOS L=1.5U W-12ÚM15 2 4 14 14 PMOS L*1.5U W=3UM17 6 4 1 14 PMOS L*1,5U ff-9U, ENDS.SUBCKT NAND2 3 7 4 1M U 4 3 1 1 PMOS L«1.SU W = 9 UM Í O 4 7 1 1 PMOS L - l . S U V=9UM6 2 3 O O NMOS L- l .SU W=6üM? 4 7 2 O NMOS L = 1 . 5 U ff»6U. ENDS.SUBCKT NOR2 5 7 3 4MU 3 7 1 4 PMOS L-1.5U W-12UM Í O 1 5 4 4 PMOS L*1 .5U W-12UMG 3 7 O O NMOS L - J . 5 U W-GUM7 3 5 O 6 NMOS L-1 .5U W-6U.ENDS.SUBCKT MUX21 4 6 2 12 1

M2 12 10 4 O NMOS L*1.3U W-9UM12 10 2 1 1 PMOS L-1.5U W=9UM5 10 2 O O NMOS L - J L . 5 U W=6U ' .MU 12 10 6 1 PMOS L*I .5ü Wa6UM7 12 2 6 O NMOS L - 1 . 5 U W-9U 'M Í O 12 2 4 1 PMOS L=1.5U tf=9U .. ENDS.END

104

Page 113: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

La principal característica de este archivo es el uso de subcircuitos,

cada uno de estos subprogramas representa el .CIR de cada uno de los módulos

que forman parte del sumador completo.

Con la finalidad de evaluar cuál entrada produce los mayores retardos

para las simulaciones preliminares se procedió de la siguiente manera

-Con la suma, se fijó dos de las tres entradas a O lógico y en la

tercera se introdujo una señal cuadrada.

-Con el carry se fijó una de las entradas a 1 lógico, la otra a señal

a cero y en la entrada ha ser analizada se introdujo una señal cuadrada.

En ambos casos se pasa la señal que está bajo prueba a la salida.

Recordando 1 as tab 1 as de verdad de 1 sumador comp 1 eto si se suma O a una

entrada se obtiene de suma la misma entrada, y si se suma 1 a una entrada, se

obtiene de carry dicha entrada.

En las siguientes tablas se presentan ios datos obtenidos de las

simulaciones.

Suma:

ENTO (10)

ENT1 (11)

ENT2 (12)

\)

1.48

1.52

1.50

tb(ns)

1.17

1 .19

1.15

tds(ns)

1.54

1 . 75

1.72

tdb(ns)

1 .58

1.75

1.73

Tibia 3,34 Sudaciones pre l ¡linares.Sin

Carry:

ENTO (10)

ENT1 (11)

ENT2 (12)

ts(ns)

1.57

1.57

1.40

tb(ns)

1.35

1.40

1.35

tds(ns)

1.47

1.74

1.14

tdb(ns)

1.81

1.93

1 . 63

Tabla 3.35 Simlaciones preliiinares,Carry

105

Page 114: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

En estos cuadros se observa que la entrada que produce los mayores

retardos es la II; cuando se analiza la salida dei carry. Las siguientes

pruebas se harán siempre respecto a la pareja Il-carry, ya que esta es la

combinación entrada-salida de mayores problemas y por ende definirá las

características de la celda.

3.3.4 Elaboración del layout

Igual que en la caracterización de las celdas anteriores se utilizó para

la elaboración el layout el editor gráfico EMA2 .

Se dibujó individualmente el layout de cada uno de los subsistemas que

forma el sumador: nand, ñor, inversor grande, inversor pequeño, or-ex y mux

2-1, en los casos que se necesitaban más de una vez dichos módulos con

comandos propios del EMA2 se repitió la edición de estos bloques, se empleó

2 veces el mux, el inversor pequeño y el inversor grande y una sola vez los

otros tres módulos. Los módulos se ubicaron de tal manera que en la parte

central del layout se encuentren las tres entradas del sumador, hacia la

izquierda se dibujó la parte correspondiente a la suma y hacia la derecha la

correspondiente al carry, esto con la finalidad de que los enrutamientos

internos de la celda resulten más simples y no existan limitaciones de

espacio.

Se utilizó en total 60 celdas elementales, dando una longitud de la

celda del sumador de 480 u.m recordando que toda celda estándar tiene una

altura de 45 tun*

Igualmente para la edición gráfica del inversor grande se utilizó Ja

técnica de transistores en paralelo, cu3'o equivalente es un transistor de

ancho igual a la suma de los anchos de los transistores parciales.

Para el diseño del layaout de las compuerta de transmisión se conecto

las fuentes y los drenajes entre sí, teniendo sumo cuidado en no conectar por

equivocacióna Vdd o a Gnd.

106

Page 115: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

En el diseño del layout se utilizó los mismos criterios utilizados en

las celdas anteriores fundamentalmente respecto al diseño de los pines de

acceso, al número de contactos, y a los plugs a Vdd y a Gnd.

Debido a la limitación de espacio se debió hacer rutas en los sectores

que se ubican normalmente los pines de salida, teniendo cuidado que no exista

necesidad de estos en los sectores utilizados.

Igualmente rutas de gran extensión se las diseñó en metal 1 o metal 2

con la finalidad de disminuir los efectos parásitos asociados a dichos

caminos.

En el anexo A.3 se presenta el Ia3rout del sumador completo, en el anexo

B.3 el archivo .CIF correspondiente.

3.3.5 Simulación considerando los elementos parásitos

Utilizando los métodos explicados en el capitulo 2, a partir del layout

se evaluó todos los elementos parásitos existentes en la celda; igual que en

los pasos anteriores, se evaluó dichos parásitos por bloques, en las figuras

3.26 y 3.27 se presentan todos los circuitos parciales con sus elementos

parásitos correspondientes, faltando por evaluar simplemente los parásitos que

se producen por los caminos de interconexión de los diferentes módulos.

En el anexo C.3 se presenta el archivo .CIR correspondiente al circuito

que incluye todos los parásitos, en el mismo se observa la descripción de

parásitos de cada uno de los módulos, y Ja de los elementos parásitos

externos, es decir de las resistencias o capcitáñela parásitas que conectan

los diferentes bloques de diseño.

107

Page 116: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

INVERSOR PEQUEÑO

C1!«.73F _

RIO <13. S <

H 1

L cu-|-D.63f

<

S.5Í

L

t

L>>

4 "r

' 111 > 17 3

í< nt

, CIOr- o.irrn

C13

1

T""u

HAMO

> mj<

C1) ,

.Í.1ÍF -(=

Lil

<

<<

>• 1)D

U

-•

• J7.3

• R11•• 15

** <<

H

' Kíl•- 71

"» L <n

"íl10í

1 " *

*cu

"

"%:

BitHB

» 150

M

""4" I7S 1 > 17S

k ÜLJ.a1-*-i

<•

.

If ^

- M

-

C1I

'BU^IM.Í

— v^Rtl73

^"17

Leí.s.isr

INVERSOR GRANDE

Figura JJ1 Parlaitos de sor nand ÍBTeraor

108

Page 117: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

60T

aoo oiisnpijHÜ í HMH ÍC 'C

oAisn iaxa no

-z xnn

Page 118: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Se realizó la simulación de este circuito con el SPICE obteniéndose los

siguientes resultados:(VDD=5V CL=0.5pF)

PARÁMETRO

Tiempo de subida (ts)

Tiempo de bajada (tb)

Retardo de propagaciónpara flanco ascendente

Retardo de propagaciónpara flanco descendente

Tensión de inversor

Margen de ruido denivel bajo

Margen de ruido denivel alto

VALOR

4.140 ns

3.190 ns

3.450 ns

3.470 ns

2.17 V

2.09 V

2.70 V

Tabla J.Jí Resu l tados considerando electos parásitos

3-3.6 Desempeño dinámico

Capacitancia de carga

CL

PF

0.0

0.1

0.2

0.3

0.4

0.5

0.6

0.7

0.8

0.9

1.0

ts

ns

0.89

1.55

2.08

2.92

3.40

4.14

4.63

5.34

5.97

6.43

7.45

tb

ns

0.96

1.34

1.88

2.31

2.82

3.19

3.82

4.29

4.47

4.80

5.24

tds

ns

1.60

2.04

2.45

2.85

3.16

3.45

3.78

4.08

4.57

5.01

5.27

tdb

ns

1.88

2.24

2.59

2.90

3.21

3.47

3.73

3.98

4.23

4.48

4.72

Cin 12

fF

120

120

120

120

120

120

120

120

120

120

120

Cin 11

fF

82

82

82

82

82

82

82

82

82

82

82

CinlO

fF

65

65

65

65

65

65

65

65

65

65

65

Tabla J.J7 Dcseipeño díníiico.Variación de la capacitancia &

110

Page 119: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

o

DESEMPEÑO DINÁMICO NOMINALVariación de la capacitancia de carga

0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7Capacitancia de carga (pF)

0.8 0.9

tb tete -&- tdb

Figura JJJ YariiciÓB de la Capacitaicia de carga

En la figura 3.33 se observa que los tiempos de retardo aumentan en

forma proporcional con el aumento de la capacitancia de carga siendo" el de

mayor tasa de crecimiento el ts (tiempo de subida).

Utilizando el programa Q-PRO se calcularon los parámetros de

lineaiización:

tO(ns)

m(ns/pF)

ts

0.88

6.37

tb

1.01

4.37

tds

1.67

3.60

tdb

2.00

2.79

Tabla 3.37 Psráietros de linealizaciófl

Tal como se anotó, el de mayor pendiente es ts, con 6.37 ns de

crecimiento por cada pF de carga adicional.

111

Page 120: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Las capacitancias de entrada permanecen fijas, ya que debido a la

extensión de las celdas prácticamente la carga ya no le afecta.

Temperatura

Se mantiene la tensión de alimentación y la capacitancia de carga en

valores nominales .La temperatura se varía entre -25 y 85 grados centígrados.

Los resultados obtenidos se resumen en ia siguiente tabla.

T

°C

-25

0

25

55

85

ts

ns

3.05

3.54

4.14

4.62

5.18

tb

ns

2.63

2.89

3.19

3.54

3.90

tds

ns

2.87

3.15

3.45

3.87

4.40

tdb

ns

2.92

3.11

3.47

3.84

4.19

CinI2

fF120

120

120

120

120

Cin 11

fF

82

82

82

82

82

CinlO

fF

65

65

65

65

65

Tabla 3.38 Des e • pe ño dináiico.Variación de la IcipeuUra

Los parámetros de linealización para este caso son:

tO(ns)

m(ns/°C)

ts

3.56

0.019

tb

2.90

0.014

tds

3.16

0.014

tdb

3.17

0,012

Tabla 3.39 Parásctros de lincaliuciÓH

Igual que en el caso anterior el tiempo de subida es el de mayor

pendiente, teniendo un crecimiento de 0.019 ns por "C. Los tiempos de retardo

varían en forma directa con la temperatura según lo que se observa en los

gráficos.

En la figura 3.34 se presentan los gráficos obtenidos.

112

Page 121: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Ln Ln O -O to 0, to to.

ÍO o co to L/l

LO to Oí U) -o o o co u. U)

LO vo 'to o co to LO

LH O O - LO Í-*

VD OJ -p*

en to -P- -J to O CO to CA LO

-P»-

-o Ln H* co Lo to u -~j to LO O\J

to o co to CA

-P* Ln O to CA LO O i- vo \ LO -J h- to O co to Ln

" co co 3 CO w 'Ti

*3

í?

<

=3

f*

rt cr rt-

Oí CO rt cr o H- a M to O H- 3 - O H- M O

P co H\

O o 1 — >

P co o P ^3 P O H-

P O H1-

P CO CU re re 3

O O 3 O CO o Cb

CD rt-

EL £n p Cu a P r+ P cr p'

Lo ! O

tt co 0] n> *T3 P CO O co CD <- P H M-

O CD <í

Tiem

pos

de c

onm

utac

ión

(ns)

P

5—<

O

Cu

OQ

H^

i-1

O I S

°"

3

<r^

co ^

O CO re o co 00 c íí CO re co o Cfl

co re c o o co CD I W H re

CD Ln LO CD D W o co 10 en

8-

Page 122: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

DESEMPEÑO DINÁMICOVariación de la fuente de polarización

2.84.5 4.6 4.7 4.8 4.9 5 5.1 5.2

Voltaje de polarización (V)5.3 5.4 5,5

ts tb tete

Figura 3J5 Variación del T o l t a j c de polaruación

En los gráficos se observa que el crecimiento de la fuente permite

una disminución de los tiempos de retardo,debido a que el aumento de VDD

permite tener una mayor corriente la cual permitirá una rápida conmutación.

tO(ns)

m(ns/V)

ts

7.57

-0.72

tb

5.43 '

-0.45

tds

7.32

-0.76

tdb

6.01

-0.50

Tabla J.íl Parátelros de lineiliución

El tds es el de mayor variación con el cambio del voltaje de

polarización.

3.3.7 Simulación del peor caso

La simulación del peor caso se realiza a una temperatura de 85 grados

114

Page 123: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

centígrados, tensión de alimentación de 4.5 V y una capacitancia variable en

el rango de O a IpF. Se obtuvieron los siguientes resultados:

CL

PF

0.0

0.1

0.2

0.3

0.4

0.5

0.6

0.7

0.8

0.9

1.0

ts

ns

1.38

2.08

3.01

3.82

4.59

5.30

6.15

7.05

7.70

8,49

9.27

tb

ns

1.30

2.15

3.08

3.64

4.55

5.22

5.94

6.88

7.49

8.11

8.82

tds

ns

2.76

3.38

3.96

4.48

4.86

5.37

5.88

6.28

6.73

7.07

7.53

tdb

ns

2.78

3,52

4.12

4.58

5.03

5.51

5.95

6.33

6.76

7.13

7.61

CinI2

fF

120

120

120

120

120

120

120

120

120

120

120

Cinll

fF

82

82

82

82

82

82

82

82

82

82

82

CinlO

fF

65

65

-65

65

65

65

65

65

65

65

65

Tabla 3.42 Siíalación del peor caso

SIMULACIÓN PEOR CASOVariación de la capacitancia de carga

0.1 0,2 0.3 0.4 as 0.6 0.7Capacitancia de carga (pF)

0.8 0.9

-»-t3 tt> • h±s -a- tdb

Figura 3.36 Síwlación peor caso

115

Page 124: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Las pruebas para 1 as s imu 1 aciones de Í peor caso dan como resu 11ado

crecimientos de los tiempos de retardo mayores que con los modelos típicos de

transistores,aumentándose dichos tiempos en un 60%.

Los parámetros de linealización se presenta en la tabla 3.43.

to(ns)

m(ns/pF)

ts

1.38

7.92

tb

1.44

7.50

tas

2.95

4.68

tdb

3.07

4.63

Tabla 3.43 Parámetros de lineal nación

3-3.8 Características energéticas

Variando la capacitancia de carga entre O y 1 pF y evaluando las

corrientes entregadas por la fuente de 5V, se obtuvieron los siguientes

resultados:

CL

PF

0.0

0.1

0.2

0.3

0.4

0.5

0.6

0.7

0.8

0.9

1.0

IDD(iH-)

mA

0.407

0.407

0.407

0.407

0.407

0.407

0.407

0.407

0.407

0.407

0.407

IDD(p-)

mA

0.804

0.782

0.800

0.800

1.200

1.080

1.100

1.160

1.200

1.200

1.230

IDD(pro)

uA

111

118

126

126

143

151

158

165

172

178

184

PD(pico)

raW

4.02

3.91

4.00

4.00

6.00

5.40

5.50

5.80

6.00

6.00

6.15

PD(pro)

uW

555

590

630

630

715

755

790

825

860

890

920

Tabla 3.44 Características energét icas .Var iac íÓR de CL

116

Page 125: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

73c:4>•wO

"EoO

oooc

100C

10C

CARACTERÍSTICAS ENERGÉTICASVariación de la capacitancia d© carga

)_, ,_

»-

j

»-(

— — — ->-— ••-f--

!

i-

pÜ :

T

t_ !jt-

) O.l

_ >,., ,

I

-íjk- H

::::::::t:::::;::[:::::::::í:;::::::::::;:::±;;:::;::t;::::::::¡:::::::::

>r^rr.__.^ í 4.p - -* f - . T-h ^ ¡ 4

E ! '_, j i Li '• 'i i ¡

' Jt- \— — H

Ks^dtiJiii: ^

+1

— i —":Í. "":"_

*~~~-^3*-~- — ¿ — — < iJ —4_.___i

i.... — j. —

uz. ~Wf""

1

-i.. j

í

J^ IE

— f"*" "" "" ; ' ~¡ i "" ; " ~j : ~ ~

T T : T T T

^

i t rÍ i i

*L—J< — -*t- — *i< ^*T t i

r T!.„.

0.2 0.3 0.4 O.5 O.6 0.7 0.8Capacitancia de carga (pF)

-«-DDGH-) — •— D0(p-) -^-D0(pro)— B~ PD(píco) — M— P0(pro)

|"T"

^JP^ (

i

0.9 1

Figura 3.37 Cinctcrístícas Energéticas

En la figura 3.37 se presentan las variaciones, la ip+ permanece

prácticamente constante, las otras sufren un ligero crecimiento; sin embargo,

la mayor corriente que es de 1.230 mA es inferior a los 7.95 mA que pueden

soportar los caminos de polarización.

3.3.9 Desempeño estático

Temperatura

En un rango de variación entre -25 °C y 85 °C y Ja tensión de

alimentación es 5V. Se obtuvieron los siguientes resultados:

117

Page 126: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

T

°C

-25

0

25

55

85

*V

(V)

2.1

2.1

2.09

2.09

2.10

NKfl

(V)

2.7

2.7

2.7

2.7

2.7

VIHV

(v)2.27

2.27

2.17

2.16

2.15

Tabla 3.45 Desempeño estítico.Variación de la Teipentori

-40 -20 20 40

Temperatura ( C)6O

N M H

DESEMPEÑO ESTÁTICOVariación de la temperatura

2.8-

2.5

2.4-

2.2-

' ! " r:ií

i ^^^^i j.......! ^ii

• i •ii.-.

, ^

• "

"-*<

" H

T1....

>«..i.—

i

>—-'-—— -.™8O 100

Figura 3,38 Deaeipeño Estítico. Variacióii de la Uiperatnra

Los márgenes de ruido y la tensión de inversión, permanecen

prácticamente constante con la variación de temperaturas esto es un indicativo

que dichos parámetros normalmente no se ven afectados por variaciones de

temperatura.

Tensión de alimentación

En estas simuJaciones se mantuvo la temperatura a 25 °C y se varió la

118

Page 127: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

tensión de alimentación en el raiigo especificado de 4.5 a 5.5 V.

vnt)

V

4.50

4.75

5.00

5.25

5.50

N*

V

1.90

2.00

2.09

2.25

2.35

Nm

V

2.47

2.61

2.70

2.57

2.94

vin

V

1.94

2.04

2.17 .

2.33

2.40

Tabla 3.46 Dcseipeño estí t ico.Variación de

1.0-

DESEMPENO ESTÁTICOVariación del Voltaje

4.5 4.6 4.7 4.8 4.9 5.1 5.2 5.3 5.4 5.5

N H L

Figura 3J9 De.ieipcño Es tá t ico . Var iac ión del v o l t a j e de polar ización

La variación de voltaje afecta en el desempeño estático de la celda ya

que los márgenes de ruido como la tensión de inversión son función del valor

de la fuente de alimentación, teniendo siempre mayor influencia, sobre NMH.

119

Page 128: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

3.4- MUX 8-1

3.4,1 Diseño a nivel lógico

Un raultiplexor digital 8 a 1 es un circuito que posee 8 entradas para

señales digitales y 3 entradas para señales de control digitales que permiten

seleccionar cual de las señales de entrada pasa a la única salida del

circuito.

En el álgebra de Boole, un MUX 8-1 se representa de la siguiente

manera :

M =C0 . C2 • -£4 _¿5 + C0 . CJL . C2 C0 . CA - C2

Donde:INi entrada NCH: entrada, de control MM i salida MUX

Se puede apreciar de una mejor forma el funcionamiento del circuito

utilizando su tabla de verdad:

C2

0

0

0

0

1

1

1

1

Cl

0

0

110

0

11

co

0

10

10

10

1

M

1.0

1112

13

14

15

16

17

Tablí JJ5 Tabla de verdad del fez 8-1

Para la impJementación de este circuí to se real izaron varias

configuraciones de compuertas buscando la que disponga del menor número de

120

Page 129: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

transistores y la que sea más fácil de implementar. Se busco la forma de

implementar el circuito a través de muí tiplexores 2 a 1 y se utilizó la celda

MUX 2-1 diseñada al inicio de este capítulo, como circuito básico del MUX 8-1,

pero el número de transistores era muy alto, así que se optó por el diseño de

otro MUX 2-1 basado en compuertas de transmisión, con lo que se redujo

considerablemente el número de transistores y se obtuvo también una

distribución geométrica sencilla.

En la figura 3.40 se presenta el circuito del muitiplexor S a l

realizado con, celdas MUX 2-1 como componentes elementales y además se incluye

una etapa de salida compuesta por dos inversores que permiten acoplar

adecuadamente la capacitancia de carga:

COMTROL 1

ENTRADAS

ENTfMDAG

EN7RADA7

ENTRADAOMUX21M)

Figura HO fti 8-1 en base de Hoxs 2-1

3.4.2 Diseño a nivel de transistores

El Mux2-l utilizando copmuertas de transmisión tiene un equivalente

circuital de 6 transistores, 2 de los cuales son parte del inversor de entrada

para la señal de control, que está presente en todas las celdas para tener la

opción de elegir el lugar de conexión a lo largo de toda la celda. Además para

el manejo de la capacitancia de carga de la celda se diseñaron 2 inversores

121

Page 130: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

que se encuentran conectados en cascada y que forman parte de la etapa de

salida del circuito. El circuito basado en transistores pertenenciente al MUX

2-1 se presenta en la figura 3.41 y en la figura 3.42 se aprecia el circuito

correspondiente a los transistores de la etapa de salida.

ENTRADA)

CCMTFKX

«

Figura 3.41 ftx 2-1

^

¿

J -

"1 ».mi

1-1. W

n

uJ "rf •$

S*l If>»

]

Figura 3 .42 Etapa de sa l ida ftx 8-1

3.4.3 Sima]aciones Preliminares

Haciendo uso del programa SPICENET de ICAPS para la edición gráfica del

archivo .CIR del MUX 8-1, y del PSPICE para las simulaciones correspondientes

Page 131: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Se determinaron las dimensiones geométricas básicas que permiten el mejor

funcionamiento del circuito. Las consideraciones geométricas hechas en las

celdas anteriores son también válidas en esta celda.

El archivo .CIR ( que contiene los modelos de los transistores

utilizados) del circuito empleado en las simulaciones preliminares se detalla

a continuación:

rouxS—1»SPÍCE_NET•INCLUDH MODEL12.LIB.MODEL PMOS PMOS LBVEI>2 L0=0.1U TOX«2.50E-8 NSUB=5E]6 VTO = -1 . 1tUO=210 UEXP=0.33 UCRITaSlR DELTA*0.4 XJ*0.5U VMAX=47K NEFF=0,8SfRSII=75 NFS = 0 JSalOU CJ=490U CJSW*590p MJ>=0.46 MJSW=0.46 PB»0.78+CGDO=320P COSO=320P GAMMA=0.87 NSS=0 LAMBDA*0.MODEL HMOS KMOS LEVEL*2 LD=0.325U TOX=2.50E-8 NSUB=2E16 VTO=0.7•t-UOaSlO UEXP = 0.22 UCRIT«24 . 3K DELTA-0,4 XJ-0.4U VMAX=54fC NEFF"4 . O+RS11=55 HFS=0 JS"2U CJ*130U GJSW»620P MJ«0.53 MJSW-0.53 PB»O.G8V4-CGnO*2E-lO GGDO=320P CGSO-320P OAMMA»0.65 H8S»0 LAMBDA-0.OPTJONS LIMPTS=5000.TEMP 25•TRAN 0.1H 165N.PROBÉ

««•CIRCUITO PRINCI.PAL:mux81

XI 50 1.0 U 20 1 MUX2.113 21 1 MUX21

MUX21MUX21MUX21MUX21MUX21

M43 41 40 1 1 PMOS W°9U L-1.5Uí^47 41 40 O O HMOS W=3U L-1.5UM44 42 41 1 1 PMOS W*12U X=1.5UM45 42 41 I 1 PMOS ffil2U L-l.SUM46 42 41 1 1 PMOS W=12U L-1.5UM48 42 41 O O NMOS ff=12U L-1.5U

*SUBCIRCUTO MUX2-1.SUBCKT I«JX21 2 5 6 4 1M I 3 2 1 I PMOS Í,».l.5U ff=9UM2 4 3 6 1 PMOS Lal.SU W=9UM3 4 2 5 1 PMOS L*1.SU W=9UM4 3 2 O O IJ140S Lal.SU ff«6UM5 4 2 6 O HMOS L=1.5U W=9UMfi 4 3 S O HMOS L=1.5U W«9U,ENDS MUX21

* FUENTES DE ENTRADAVIO 10 O DC OVV i l U O DC 5VV12 12 O DC 5VV13 13 O DC OVVI4 J4 O DC 5V

V15 15 O DC 5VVI6 Ifi O DC OVVI7 17 O DC 5V*FUEHTE DE POLARIZACIOHVCC 1 O DC 5V«FUENTES DE CONTROL

123

Page 132: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

VA 50 O PULSE OV 5V 5H 1N 1H 19N 40NVB 5 1 O PULSE OV 5V 5H 1N I.N 39H 80NVC 52 O PULSE OV 5V 5K 1N 1.N 79H 160H«CAPACITANCIA DE CARGACl 42 O 0.5PF. EHD

En las simulaciones preliminares se obtuvieron los siguientes valores

de tiempos de conmutación:

viovil

VI 2

VI 3

VI 4

VI 5

VI 6

VI 7

ts(ns)

1.46

1.44

1.46

1.43

1 . 45

1.44

1.47

1.42

tb(ns)

1.17

1.16

1.14

1.16

1.15

1.18

1.16

1,13

tds(ns)

1.76

1.72

1.70

1.76

1.73

1.73

1.74

1.75

tdb(ns)

1.75

1.70

1.74

1.73

1.75

1.74

1.70

1.74

Tabla 3.48 Simíaciones preliiinares

Es aconsejable utilizar, para las simulaciones restantes, la entrada

respecto a la cual se produce los mayores retardos de la salida. Por lo tanto

se realizará el análisis utilizando la entrada 10.

•3-4.4 Elaboración del layoul

El editor gráfico EMA2 del TENTOS permitió realizar el layout de ,1a

celda utilizando las dimensiones de W y L definidas en la simulación

preliminar .

El layout del nnrx8~l se presenta en el Anexo A.4.

El archivo .CIF correspondiente al MUX 8-1 se presenta en el anexo B.4.

Utilizando las tablas de especificaciones de capacitancias y

124

Page 133: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ressitencias de] proceso de fabricación correspondientes a Ja ES2 se calculó

ias resistencias y capacitancias parásitas existentes en el layout de la celda

para obtener el circuito completo con el que se realizan las demás

simulaciones.

3.4,5 Simulación considerando los elementos parásitos

A pesar que las simulaciones preliminares realizadas entregan

información muy importante respecto al comportamiento del circuito, es

necesario especificar ciertos valores con mayor precisión y esto se lo hace

al datallar el funcionamiento del circuito con elementos parásitos.

ENTRADAS ENTRADA 1

Figura 3.0 Elévenlos parásitos del WJI 2-1

125

Page 134: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

PARÁMETRO

Tiempo de subida (ts)

Tiempo de bajada (tb)

Retardo de propagaciónpara flanco ascendente

Retardo de propagaciónpara flanco descendente

Tensión de inversor

Margen de ruido denivel bajo

Margen de ruido denivel alto

VALOR

1.69 ns

1.38 ns

2.66 ns

2.56 ns

2. 18 V

2.03 V

2.65 V

Tabla J.49 Resal tados considerando cfeclos parísitos

3.4.6 Desempeño dinámico

Variación de la capacitancia de carga

(Condiciones de test: VDD=5V Temp=25C Modelo=Típico)

a.PF

0.0

0.1

0.2

0.3

0,4

0.5

0.6

0.7

0.8

0.9

1.0

ts

ns

0.73

0.94

1.12

1.28

1.51

1.69

1.95

2.10

2.34

2.59

2.77

tb

ns

0.58

0.69

0.84

1.00

1.20

1.38

1.47

1.65

1.80

1.99

2.17

tds

ns

2.01

2.19

2.30

2.44

2.56

2.66

2.78

2.86

2.98

3.11

3.20

tdb

ns

2.00

2.11

2.23

2.36

2.47

2.56

2.62

2.76

2.86

2.92

3.03

Cin 10

ÍF

352

352

352

352

352

351

351

.351

351

351

352

Tabla 3,50 Dcscapcio d i í i áHÍco ,Var iac ión de 1a capaci tancia CL

126

Page 135: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Las diferentes capacitancias de entrada prácticamente son independientes

de la capacitacia de carga y sus valores promedios son los siguientes:

Cin JO(prom)- 351.6 fF

A continuación se presentan los gráficos correspondientes a la variación

de los tiempos de conmutación respecto a la capacitancia de carga. Como se

observa los tiempos de conmutación se incrementan con el creciemiento de la

capacitancia de carga, esto se debe a que el tiempo de carga es mayor. También

se presentan los valores de linealización de los gráficos.

-B-

Ec8o•o(Ooo.E

3.5

2.5-

1.5

0.5-

DESEMPENO DINÁMICO NOMINALVariación de la capacitancia de carga

0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7Capacitancia de carga (pF)

0.8 0.9

ti> ** ~ tete ~^— fdb

Figura m Variación, de U capaci tancia de carga

to(ns)

m(ns/pF)

ts

0.701

2.05

tb

0.543

! . 60

tds

2.06

1.15

tdb

2.03

1.03

Tabla J.M Paráielros de l incalización

1.27

Page 136: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Variación de la temperatura

La siguiente tabla muestra los resultados obtenidos en las simulaciones:

Condiciones de test: VDD=5V CL=0.5pF ModelorTípico

T

"C

-25

0

25

55

85

ts

ns

1.32

1.51

1.69

1.93

2.16

tb

ns

1.06

1.16

•1.38

1.51

1.63

tds

ns

2,17

2.42

2.66

2.99

3.30

tdb

ns

2.08

2.34

2.56

2.87

3.15

CÍTIV2

fF

345

346

351

353

354

Tabla 3.52 Descipcño dioái ico.Variación de la letperatua

Las capacitancias de entrada promedios son las siguientes:

CinVl(prom)= 349.8 fF

Las curvas de las variaciones de los tiempos de conmutación en función

de la variación de temperatura se encuentran en la figura 3.45. Se concluye

que cualquiera de los tiempos de conmutación se incrementa con el aumento de

la temperatura.También se realizó la linealización de las gráficas y sus

valores se presentan en la tabla 3.52.

to(ns)

m(ps/"C)

ts

1.508

7.64

tb

1.19

5.43

tds

2.41

10.3

tdb

2.32

9-71

Tabla J.5J Psríictros de Lincilizición

128

Page 137: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

o oTi

empo

s de

con

mut

aclo

'n (n

s)

to

w.

f-^

o o

o Oí

'O í— '

to t— -

bJ to to • to 4>

U Í-J

ts>

i— i

i- to <\o

to • -f^

H~ o 4^-

o o í-i

1— '

CJ

CO to CV to G\)

í— *

4^ -J Oí

1— »•

r (jj

--J to CO

1 — tsJ

• — J

-£>•

OJ

CO

-E*

o 1— L

CO

Oí - -íl. c^ CO to • vo ^ CJ

-~J o

^ 3 0) u g 3 Oí

*— 1

*Tj

3^

3

LT rr O*

r-r

0,

CO rt-

Cj

cr 0 3 í

3

CO

O CO

>•)

enfi)

rr

rt-

Pw

o,-i.

1rr

- u CO

O

CL

C^

fi>|¡ O

>—

hq

« w,.

CU

tí3

i—

'O

PII

0to

t*

-oí

OO

3 fD

3:

cflo G

J

CO

0

O—

d

o CO

)—II

OH

W

*b

wj-..

M

-

n

OQo

c 1 — !

o — t

ri-

co

sr

Page 138: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Las capacitancias de entrada promedio son las siguientes

Cin I0(prom)= 352.6 fF

La gráfica de los tiempos de conmutación en función cíe la variación del

voltaje Vdd está detallado en la figura 3.46. Se observa que los tiempos de

conmutación decrecen al tener un valor mayor de voltaje de polarización, esto

nos indica que el funcionamiento del circuito en condiciones de disminución

o aumento dej valor cíe la fuente de polarización es aceptable.

DESEMPEÑO DINÁMICOVariación de la fuente de polarización

4.6 4.7 4.8 4.9 5 5.1 5.2Voltaje do polarización (V)

5.3 5.4 5.5

•-hí fb ftfa

Figura 3 .4S Viciación del vo l t a j e de polariíacíón

130

Page 139: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Los parámetros de linealización son los siguientes:

to(ns)

m(ns/V)

ts

3.107

-0.279

tb

2.52

-0.236

tds

5.38

-0.54

tdb

6.101

-0.7036

Tabla 3.55 Paríietros de lineal i nación para la tabla 8.

3-4--7 Simulación del peor caso

Condiciones de test: VDD=4,5V Temp=85C Modelo=Lento.

CL

pF

0.0

0.1

0.2

0.3

0.4

0.5

0.6

0.7

0.8

0.9

1.0

ts

ns

1.72

1.73

2.13

2.46

2.86

3.18

3.59

3.94

4.42

4.76

5.06

• tb

ns

1.19

1.51

1.84

2.29

2.54

2.99

3.29

3.63

4.02

4.33

4.79

tds

ns

5.19

5.59

5.88

6.14

6.37

6.64

6.86

7.04

7.39

7.51

7.73

tdb

ns

5.07

5.26

5.53

5.82

5.93

6.21

6.40

6.52

6.69

6.87

7.11

CinlO

fF

436

436

436

436

436

436

436

436

436

436

436

Tabla 3.56 Siinlación del peor caso

Eri la figura 3.47 se encuentran los gráficos de la variación de los

tiempos de retardo en función de la variación de Ja capacitancia de carga para

el peor caso. Los datos presentados son importantes para observar el

comportamiento de la celda en condiciones extremas, se concluye que para estas

condiciones de funcionamiento los tiempos de conmutación aumentan en un 70%

a Í00% respecto a los presentes en condiciones nominales.

Page 140: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

SIMULACIÓN PEOR CASOVariación de la capacitancia de carga

0.1 0.2 0.3 O.4 0.5 O.6 0.7Capacitancia de carga (pF)

0.8 0.9

•tb • tds -e— fdb

Figura 3.(7 Sí inlación Peor Caso

Los parámetros de linealización son los siguientes:

to(ns)

m(ns/pF)

ts

1.469

3.58

tb

1.163

3.568

tds

5 . 34

2.472

tdb

5.128

i - 994

Tabla 3.57 ParÍRCtros de lineal ilación

3.4.7 CaracterísLicas energéticas

Las siguientes simulaciones completan la caracterización de Ja celda

desde e] punto de vista energético y determinan las corrientes que intervienen

en el circuito. Estas perini ten conocer Jos límites d.e. temperatura y de

densidad de corriente que deben, proveer las fuentes de polarización.

1.32

Page 141: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

En ,1a siguiente tabla se tabula los valores obtenidos en la simulación.

CL

PF

0.0

0.1

0.2

0.3

0.4

0.5

0.6

0.7

0.8

0.9

1.0

IDD(p-i-)

mA

0.726

0.726

0.727

0.727

0.727

0.727

0.727

0.727

0.727

0.727

0.727

IDD(p-)

mA

1 . 170

1.170

1.300

1.430

1.610

1 -.700

1.770

1.840

1.900

1.950

2.000

ÍDU(pro)

HA

41.7

49.3

58.4

69.2

79.6

90.2

101.0

112.0

123.0

133.0

144.0

PD(pico)

niW

3.63

3.63

3.64

3.64

3.64

3.64

3.64

3.64

3.64

3.64

3.64

PD(pro)

MW

104.25

123.25

146.00

173.00

199.00

225.50

252.50

280.00

307.50

332.50

360.00

Tabla 3.58 Características energéticas.Variación de CL

La forma de calcular estas corrientes es utilizando el INTUSCOPE del

SPICE de INTUSOFT, el cual permite evaluar valores máximos mínimos,y promedios

de cualquier función temporal (voltaje o corriente)* La corriente pico máxima

obtenida en las simulaciones es de 2.0 mA,que es menor que la corriente máxima

que puede circular por los caminos de polarización, el efecto de

electromigración por ende no influirá en el funcionamiento de la celda.

En la figura 3.48 se presentan los gráficos de variación de corrientes

y potencias en función de la variación de la capacitancia de carga. De estos

se determina que los valores de las corrientes pico y promedio permanecen

constantes en la mayoría de evaluaciones, mientras que los valores de las

potencias pico y promedio aumentan de acuerdo al incremento de la capacitancia

de carga.

133

Page 142: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

CARACTERÍSTICAS ENERGÉTICASVariación de la capacitancia de carga

10OOOq

CTJ75co*-*o

1OOO:

2 100Jc

.52fcoO

10-1

:::*::3™:::::ín=n=r::E:H

O O.1 0.2 0.3 O.4 O.5 0.6 0.7 0.8 0.9Capacitancia de carga (pF)

-"-oXp-0 •DOÍP-)

Fignra J.Í8 Caracteríslicas Diniíius.

3.4.8 Desempeño estático

Dentro del desempeño estático interesa caracterizar básicamente los

niveles lógicos de salida y los márgenes de ruido.

Temperatura.

Condiciones de test: VDD=5V CL=Q. 5pF Mocíelos=Típicos

T

"C

-25

0

25

55

85

Nw

(V)

2.09

2.07

2.03

2.02

2.00

NW

( V )

2.66

2.68

2.65

2.67

2.67

VIHV

(V)

2.22

2.21

2.18

2.17

2.17

Tabla 3,59 Dcscapcño e s t á t i c o , V a r i a c i ó n de la Tenpentura

134

Page 143: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

En la figura siguiente se encuentran los gráficos que indica la

variación de los márgenes de ruido en función de la variación

térmica,observándose que prácticamente son. independientes de la temperatura.

o

2.7-

2.6-

2.5-

2.4-

2.3-

o *>-

2.1-

O-

m — ,

" H — .

DESEMPEÑO ESTÁTICOVariación de la temperatura

, —

—T^TTT^rrrr^

— ,

•- __- — -

_^.

,...„,

— Mí— — "~" • — M< —

m—

— w

h— mt

-40 -2O O 2O 40Temperatura ( C)

60 80 1OO

• N M L M H

Figara 3.49 DeseBpeiio Est í t ico. Var i ac ión de U tcipcratnra

Tensión de alimentación.

Condiciones de test: CL=0.5pF Temp=25C Modelos=Típicos.

pp

V

4.50

4.75

5.00

5.25

5.50

*vV

1.85

1 - 95

2.03

2.15

2.24

N^

V

2.93

2.80

2.65

2.53

2.40

V!HV

V

1.95

2.07

2.18

2.32

2.42

Tabla J.60 Dcseipeüo es t í t ico .Var iac ión de

135

Page 144: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

En la figura siguiente se encuentran los gráficos correspondientes a la

variación cíe los márgenes de ruido en función de la variación del voltaje VDD.

Contrariamente a lo que ocurre en la figura anterior, donde se tienen valores

prácticamente constantes en los márgenes de ruido frente a las variaciones de

temperatura, en este gráfico se ve que existe una reducción del margen de

ruido en alto y u aumento del margen de ruido en bajo y de la tensión de

inversión, al incrementarse el voltaje de polarización; además se observa que

el margen de ruido para alto es el más afectado y esto se debe a que estamos

variando la fuente de polarización es decir,se da un menor o mayor rango para

alto dependiendo de que VDD sea menor o mayor al valor de 5V.

DESEMPEÑO ESTÁTICOVariación del Voltaje

4.5 4.6 4.7 4.8 4.9 5.1 5.2 5.3 5.4 5.5

N M L N M H V (my)

Figura 3.50 Deseipeño Est í t ico. Variación de la f u e n t e de pol i r izac i fa

136

Page 145: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

3.5 ESPECIFICACIONES DE LAS CELDAS TÍPICAS DE LA BIBLIOTECA

En las celdas anteriores se han utilizado celdas. básicas para la

elaboración de las célelas más complicadas así se tiene por ejemplo la celda

mux2-l utiliza compuertas nand de 2 entradas e inversores; el mediosumador

utiliza compuertas nand de 2 entradas, ñor de 2 entradas, inversores; el

sumador completo utiliza mux2~l, or exclusivas, nand de dos entradas, ñor de

2 entradaSj e inversores; el mux8-l utiliza mux2-l e inversores.

De todas estas celdas se llega a una conclusión muy importante: la

necesidad, de elaborar un conjunto de celdas básicas para tenerlas en

biblioteca, una biblioteca de celdas estándar típica tiene como celdas básicas

todas las compuertas elementales, a saber: and, nand, or, ñor, or exclusivo,e

inversor, en el caso de las and, nand, or y ñor debe tener de 2 3 y 4

entradas.

Para completar la elaboración, de la biblioteca de celdas estándar se ha

realizado el diseño de todas las anteriores celdas mencionadas, de las mismas

se presenta a continuación los resultados finales, es decir las dimensiones

de los transistores utilizados, para la elaboración de los layouts se utiliza

al igual que en las celdas anteriores en el editor EMA2 del paquete TENTOS.

3.5.1 Inversor

Para el caso del inversor, se ha procedido al diseño de dos tipos de

inversores, uno denominado chico y otro denominado grande, nombres dados en

función del tamaño del ancho d.e los transistores utilizados, el primero para

ser utilizado en pasos intermedios de diseño, y el segundo para diseñar las

salidas finales de un circuito digital cualquiera, el primero acopla cargas

de O.lpF y el segundo de 0.5pF, las simulaciones de estos inversores se

realizó en la caracterización del sumador completo.

En la figura 3.51 se presentan los inversores con su respectivos

equivalentes a nivel de transistores con .las dimensiones correspondientes.

137

Page 146: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

DIMENSIONES DE LOS TRANSISTORES

i! L=1.5U W=9U

NMOS

L=1.5U W=3U

.! L=1,5U W=:

hWOS

L=1.5U W=12U

INVERSORREQUEMO

INVERSORANDE

Figura 3.51 Ditensiones de los transistores de los inrcrsorca Ót la biblioteca.

3.5.2 Compuerta Nand de varias entradas

Otras celdas importantes que deben ser diseñadas en una biblioteca

estándar son las compuertas nand de 2 3 y 4 entradas, las mismas se diseñan

utilizando el mismo patrón, es decir todo Jos transistores que conforman el

pull-up (pMOS) tienen las mismas dimensiones entre si y los transistores del

pull-clown (nMOS) tienen las mismas dimensiones si.

En la figura 3.52 se presenta una compuerta nand general con las

dimensiones de los transistores tanto del pull-up como del pull-down.

Las dimensiones de los transistores pMOS son: L=1.5U W=9U y de los nMOS:

L=1.5ü W=6ü.

3-5.3 Compuerta And de varias entradas

La and debe ser diseñadas en una biblioteca estándar,and de 2 3 y 4

entradas, las mismas se diseñan utilizando la nand correspondiente y el

.138

Page 147: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

] JJ.

, 1

"

ir

ffrrl

•EHTWDA. .1

MAMO Di VARIAS EHTIWIAS

FÍRBH. 152 Coipnerlis Hand de yarias entradis

inversor grande como salida.

En la figura 3.53 se presenta una and general con las dimensiones de los

transistores tanto del pull-up como del pull-down.

Las dimensiones de los transistores pMOS son: L=1.5U W=9U y de los nMOS:

L=1.5U W=6U, la parte que corresponde a la nand, y para el inversor, pNfOS

L=1.5ü W=36U; nMOS L=1.5Ü W=12U .

3.5.4 Compuertas Ñor Y Qr de varios entradas

Para las ñor y or de varias entradas se procede de igual manera que en

la nands y ands descritas anteriormente, tanto el pull-up como el pull-down

de estas celdas se diseña con transistores de las mismas dimensiones, en el

caso de la. or se acopla el inversor de salida, el circuito se presenta en Ja

figura 3.54.

139

Page 148: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Figura 3.53 Coapucrtas And de tres entradas

^

rwOS L*1.5U *-12U

ENTRADA H

M-OS L-I.5U W-12U

Y oo ne VARIAS

Figura 3.54 Cotpnertas HOR j OR de Tarias entradas

JMO

Page 149: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

3.5-5 Or Exclusiva

En el diseño del sumador completo se hace referencia al diseño del or-

exclusivo utilizando compuertas de transmisión, figura 3.29, el mismo como un

diseño individual se lo integra también a Ja biblioteca.

El archivo .CIR de la OR-EX es:

orcx*SPT.CE_NET•ÍNCLUDC MODEL12,Lin.OPTIONS LIMPTSsSOQO.TEMP 25.TRAH 0.LN 85N.PROBÉC2 2 O .1PFVI 4 O PU.LSE OV 5V 1N 1N 1N 19N 40NV2 5 O PULSE OV 5V 1H 1N 1N 39N ROMV3 1 O DC 5VM U Í 3 5 2 0 NMOS L = 1 . 5 ü V=3 .0UMP2 4 5 2 1 PMOS L = 1 . 5 U f f = 1 2 . 0 UMP3 5 4 2 1 PMOS L=1 .5U W = 9 . 0 UMH4 5 3 2 0 NMOS L-1.50 W = 9 . 0 UMP5 3 4 1 1 PMOS L = 1 . 5 U W « 3 . 0 UMH6 3 4 0 0 HMOS L » 1 . 5 U W = 3 . O U.EHD

En es te archivo se observa, 1 os trans istores de J inversor ut i 1 i zado

tienen dimensiones similares a la del inversor pequeño (MN1 MP2), los de la

compuerta de transmisión (MP3 y MN4) tiene anchos similares, y los otros dos

transistores (MP5 y MN6) son de dimensiones pequeñas.

14.1.

Page 150: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

CAPITULO 4

EL TANNER TOOLS

En el presente capítulo se realiza un análisis detallado del nuevo

software utilizado en el diseño de circuitos integrados, el paquete Tanrier-

Tools.

Se inicia realizando una breve descripción del hardware requerido por

el principal programa de este paquete, el editor de máscaras L-Edit, ya que

este programa es el de mayor exigencia en el equipo ha utilizarse.

4.1 REQUERIMIENTOS DE HARDWARE DEL SISlTiMA

Para correr el L-Edi t se necesitan cumplir con los siguientes

requerimientos de hardware y software:

a.-PC IBM AT o compatible con procesador 80386 o superiores.

b.-Un drive de alta densidad de 3.5" y un disco duro con por lo menos

2 MB de espacio libre.

c.-4 MB de RAM,configurada como memoria extendida.

cl.-Un ratón Microsoft o compatible, se recomienda un ratón de tres

botones.

e.-Una tarjeta de video EGA o VGA con por lo menos 256KB de RAM.

f.-Sistema operativo DOS versión 3.0 o superiores.

g.-LLave de hardware que será conectado al puerto paralelo de la

computadora.

El L-Edit puede correr además bajo el sistema operativo IBM OS/2 2.0 y

142

Page 151: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

bajo Windows de Microsoft 3.1.

Cabe anotar que el programa tiene una protección contra copias que es

la llave de hardware, sin la misma no se puede utilizar el paquete, la llave

de hardware se conecta al puerto paralelo, con el lado que dice "computer"

hacia la máquina, se puede conectar en el otro lado de dicha llave la

impresora sin que se altere el funcionamiento ni del programa ni de la

impresora.

4.2 CARACTERÍSTICA GENERALES DEL SOFTWARE

La compañía Tanner Research Inc. ofrece un conjunto de herramientas de

diseño de circuitos integrados que pueden correr en estaciones cíe trabajo y

PCs de bajo costo. El sistema de diseño consiste tanto de herramientas de

nivel de archivos de nodos como de nivel de máscaras.

El conjunto de herramientas y librerías presentes en esta versión del

programa se presentan en la figura 4.1, en la que muestra también el flujo del

proceso general de creación de un circuito integrado.

4.2.1 Herramientas a Nivel de Archivos de Nodos

Las herramientas a Nivel de archivos de nodos consisten de la librería

SchemLib de esquemáticos independientes de la tecnología, un paquete de

captura esquemática que puede elegirse, puede usarse el ORCAD, TANGO , VIEW

LOGIC entre otros; el traductor de netlist NetTrari, un librería cíe elementos

para fabricantes, el simulador a nivel de compuertas GateSim y el comparador

entre esquemático y layout a nivel de netlist LVS.

SchemLib es una librería de esquemáticos independientes de la tecnología

para uso con el paquete de captura esquemática, contiene iconos para más de

1400 símbolos lógicos. NetTran toma el netlist del esquemático obtenido con

el paquete mencionado anteriormente y lo traduce a elementos de otra librería

y con formato distinto, formato que permita reconocer el editor L-Edit.

NetTran puede usar librerías para fabricantes específicos y se dispone de

librerías para gate arraya programables de Actel y Xilinx, y librerías para

143

Page 152: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ScticüRLfbLibreríaIndependiente deI o Tecnología

OrCflB TañosIM e ID Logic

Prograna de CapturaEsquemática

LUSComparador d«archivos de nodosLayout vs Esquemático

Librería deManeo

ACTELXfUnxHarrísNati o nal

TI NCR OKISCMOS

NetTranTroductor dearchivos de nodos

L-EtfitEntrad

ExtroctordeElemento» y

Simulador a nivelde compuertas

Formatos deNetlisl

Actel XlllnxHarriaNatfonolNCROKITI

Ni veJ de Archí vos de Nodos

¿ veJ deMascarasL-Edit/srnPoslclonador gEnrutador Autométlcode Celdas

t-EditEditor de Layout

L-Edlt DRCVerificador de reglwdedlwfw

SCMOSLIbAnaCMOSLIb

DAC-ADCRAM/ROM

Formatosde Máscaras

ES2GouldHPMOSI3OrbltYLSIUS2

Figura 4.1 Bloques de Síntesis de Circuitos Integrados de Tanner Tools.

gate arrays y celdas estándar de Tlarris, NCR y Texas Instruments; también está

disponible una librería de celdas estándar para Tanner Research Inc que

permite realizar diseños para la casa MOSIS.

GateSim es un simulador lógico para PC, que permite obtener resultados

en forma de tablas o en forma gráfica; además, se pueden incluir resultados

para diferentes retardos de cada elemento del circuito. Puede simular 7000

compuertas con 640 KB de memoria o 250000 compuertas con 16MB de memoria en

144

Page 153: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

una computadora 286 o superior.

LVS es un comparador de archivos netJist en formato Spice de distintas

fuentes, por ejemplo se puede comparar un archivo netlist obtenido con e.l

programa NetTran con otro producido por un extractor de Jayout, es decir el

programa, permite ai usuario realizar una comparación, entre lo que diseñó

utilizando el editor de máscaras y lo que puede diseñar si utiliza, las

librerías de Schemlib.

4-2-2 Herramientas a Nivel de Máscaras

Las herramientas a nivel de máscaras están compuestas de] editor de

layovt L-Edit, eJ módulo de posicionamiento y enruteamiento automático de

celdas estándar L-Eclit/SPR, el chequeador de reglas de diseño L-Edit/DRC y el

extractor de layovt L-Edit/Extract. Adicionalmente a estas herramientas, hay

algunas librerías de celdas con su layovt. Estas herramientas están

disponibles para correr tanto en estaciones de trabajo como en PCs o

Macintosh, y además en plataformas UNIX.

El editor de layovt L-Edit soporta diseño de máscaras fvll-custom y la

generación de máscaras completamente automático con metodología de celdas

estándar, siendo posible la combinación de ambas técnicas. Este editor de

máscaras es rápido a pesar de su gran interfaz gráfica interactiva, es fácil

de usar y totalmente jerárquico; soporta formatos CIF y GDS II y se puede

realizar impresiones tanto en lenguaje PostScrip, plotters HPGL o en

impresoras matriciales.

El L-Edit/SPR es un módulo integrado con el L-Edit para posicionamiento

y enruteamiento automático de celdas estándar, incluye un posicionador de

celdas, un optimizador y un enrutador, un generador de pad.frame y un enrutador

de pads. Las librerías de Jayout están disponibles para uso con este módulo.

El L-Edit/Extract es un módulo extractor de elementos genéricos,

transistores, resistencias y capacitancias, integrado al ambiente del L-Edit.

Los elementos a extraerse son definibles por el usuario y los resultados son

entregados en formato SPICE estándar, útil para la comparación realizado con

145

Page 154: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

el módulo LVS.

El L-Edit/DRC es el módulo que realiza Jos chequeos geométricos para

determinar violaciones de las reglas de diseño para un determinado proceso y

una determinada casa fabricante (en presente caso CMOS12 para ES2). El

conjunto de reglas de diseño el usuario puede definir para la tecnología que

esté utilizando.

SCMOSLib contiene celdas lógicas y pads de entrada/salida digitales.

DAC/ADCL.ib es un conjunto de celdas de conversor.es analógico/digitales y

digital/analógicos. AnaCMOSLib contiene celdas analógicas y pads de

entrada/salida analógicos. RAM/ROMLib es un generador de 1 ayout combinado con

un conjunto de celdas de memorias primitivas RAM y ROM. Estas librerías no son

de máscaras, sino de esquemas lógicos, por ejemplo una compuerta AND tiene su

equivalente en la librería SCMOSLib, en la misma se define en un lenguaje

propio cíe la librería las entradas y salidas del circuito.

4.3 DESCRIPCIÓN DE LOS PRINCIPALES BLOQUES DE SÍNTESIS DEL TANNER-TOOLS

4.3.1 Generación del circuito esquemático

E] primer paso dentro del proceso de diseño de un circuito integrado es

la creación del circuito esquemático correspondiente al diseño que se esté

realizando. El Tanner Tools no incluye dentro cíe su software un programa

específico para la creación de un esquema circuital, sin embargo permite el

uso de uno de los siguientes programas: OrCAD, Tango o ViewLogic, para la

generación de un archivo del listado de ñoclos o netlist. Dentro de las

herramientas computaciona1 es que vienen en el paquete se encuentran librerías

de iconos para edición de circuitos con los programas mencionados

anteriormente. El conjunto de iconos SchemLib viene dividido en 4 librerías

disponibles para su ut i. l.i zación con OrCAD, desde compuertas simples como

inversores ybuffers hasta f lip-flops, decodi.f icadores, contadores y registros

de desplazamientos, también se incluyen iconos correspondientes a pads de

entrada, de salida y bidireccionales. Una vez creado el circuito esquemático,

que puede incluir pads, se debe generar el archivo de nodos que describe la

interconexión eléctrica, en el presente caso se utiliza eJ OrCAD, en este

146

Page 155: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

programa se debe utilizar el utilitario NETL.TST para obtener el archivo de

nodos, el mismo que debe tener la extensión .WIR, con el siguiente formato.

Para generar el netlist con el programa NETLIST del OrCAD se ejecuta el

siguiente comando:

NETLIST archivo_esquemático archivo__nodos.WIR /P

El modificador /P se debe incluir para que el programa entrege los nodos

en forma numérica.

Una vez que se disponga del archivo de nodos del circuito, se debe

utilizar el programa NETTRAN para cambiar el formato de presentación de manera

que se pueda hacer uso de los demás programas del Tanner Too.ls. El programa

NETTRAN es un traductor de archivos que utiliza librerías de mapeo disponibles

para definir las conexiones eléctricas en otra formato e incluso con otros

elementos.

NETTRAN lee el archivo de ñoclos y substituye las cejdas utilizadas con

otras de acuerdo a la información de la librería de esquemáticos que se use.

Una celda puede ser convertida en otra de igual función o ser reemplazada por

un grupo de celdas que estén interconectadas para cumplir con la función

deseada. Así mismo se puede utilizar este programa para convertir el archivo

resultante del mapeo al formato de un vendedor específico y para obtener

listados en formato de entrada para el simulador GateSim. El programa NETTRAN

se utiliza con la siguiente línea de comando desde el prompt del DOS.

NETTRAN -m nombre_J ibrería.MAC archivo_nodos.W!R archivo_salida

Para el uso del módulo de posicionamiento y erirutamierito automático

perteneciente a.l L-Edit, se debe generar un archivo de salida con extensión

TPR, utilizando la librería ES2TPR.MAC que contiene información de las celdas

diseñadas para el proyecto, librería que fue construida como parte de este

trabajo (ver ANEXO E).

147

Page 156: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Para el uso del programa GateSim se debe generar un archivo de salida

con extensión NET, utilizando la librería genérica SIMMAP.MAC.

4.3-2 L-EDIT

L-Edit es un editor gráfico para, la creación de máscaras geométricas

correpondientes a la etapa de generación del layout en el diseño de un

circuito integrado. Mediante la interfaz "point-and-shoot" que trabaja con el

ratón es posible realizar muchas operaciones gráficas sin problema. Los

comandos pueden se invocados a través de menúes descendientes, con el ratón

o con el teclado.

.El layovt diseñado con L-Edit se describe mediante archivos, ce.I das,

instancias y primi tivas de máscaras. Una instancia es una referencia

geométrica del layout que no es editable, si realiza un cambio en el layout

original, este cambio se refleja en todas sus instancias, esto simplifica

muchos procesos de actualización de los diseños y reduce memoria utilizada ya

que las instancias solo son referencias de ubicación de las celdas usadas. Las

primitivas de máscaras consisten de rectángulos, esculos, polígonos, caminos

y etiquetas en una capa determinada. Las celdas pueden estar relacionadas

jerárquicamente como es lo típico o pueden ser independientes como en una

biblioteca. Las celdas pueden contener cualquier número o combinación de

primitivas de máscaras e instancias de otras celdas.

L-Edit es un editor a nivel de máscaras rápido y muy fácil de usar

debido a su interfaz gráfica versátil pudiendo hacer estructuras especiales

apropiadas para una tecnología, sin que el programa haga suposiciones acerca

del diseño, lo que se refleja en la rapidez de su ejecución.

L-Edit es una herramienta de plan de piso de alto nivel,, es decir que

se puede elegir la aparición de instancias de manera bosquejada y faciJmente

reconocible, .Esto es vital en la manipulación de los elementos del diseño

hasta obtener la mejor ubicación de los mismos.

1.48

Page 157: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

El programa puede manejar 2 tipos de formato de intercambio; GDS II y

CIF, de la misma manera que lo hace con el propio formato de Tanner Research

TDB (Tanner Data Base); este último es mucho más rápido para leer y almacenar

que los otros y por eso se lo usa en el momento del diseño. El formato GDS II

corresponde al estándar de la industria. Los archivos con formato CIF (Caltech

Intermedíate Format) se usan para intercambio de datos con casas fabricantes,

aunque este formato posee una sintaxis bien definida, algunos programas usan

sus propias extensiones, lo que puede influir en la interpretación de los

archivos que estén bajo este formato.

L-Edit soporta impresc-ras PostScript, plotters HPGL, impresoras

matriciales Epson y la IBM Proprinter. La opción de imprimir un diseño que

uti1 ize varias páginas permite imprimir pruebas de diseños grandes en

impresoras no muy costosas.

La interfaz gráfica permite diseños basados en unidades lambda, mieras

o mils.

4.3.2.1 Manejo del programa

Arranque del L-Edit

Para arrancar el programa debe ingresarse al directorio en el que se

encuentran los archivos instalados de L-Edit y luego ingresar:

C:\>led:it

o

C: \ 1 ed i t «nombre_arch ivo»

La pantalla del. L-Edit

Para un mejor manejo de los comandos de edición y de los módulos de

síntesis la pantalla, como se muestra en la figura 4.2, se divide en 4 partes

principales: la Barra de Modo, la Barra de Menú, la Barra de Estado y el Área

de Trabajo.

149

Page 158: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Nombf»d«l Nombf

Archivo de laOWa

Figura 4.2 L-Edit y sns pan t a l l a de presentación

La Barra de Modo contiene información de Ja operación actual del

programa y ocupa el espacio vertical ubicado a la izquierda de la pantalla.

La información presentada en este sector incluye: el nombre del archivo de

trabajo abierto, el nombre de la celda que se está editando, el nombre de la

máscara utilizada, la paleta de capas, la paleta de objetos 3 por último las

funciones asignadas a los botones del ratón que dependen de Ja operación que

se esté ejecutando.

La Barra de Menú contiene el menú de grupos de comandos y el indicador

de locaiización de ratón. La barra de menú se encuentra en la parte

horizontal superior de la pantalla y presenta las siguientes opciones que

permiten acceder a un grupo de comandos con funciones relacionadas:

150

Page 159: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

- L-Edit : contiene comandos que informan el estado actual del

programa,

- File : contiene comandos que permiten leer y archivar diseños, así como

imprimirlos o graficarlos en un plotter.

- Edit : contiene comandos para realizar las operaciones de edición de los

objetos

- View : Jos comandos de este submenú facilitan las tareas de

manipular y modificar la visualización del diseño.

- Cell, : provee comandos para abrir, cerrar y manipular las

celdas y su jerarquía.

- Arrange: contiene comandos para realizar operaciones de rotación, división

y unión de objetos.

- Setup : provee cornados para personalizar y configurar el entorno de

diseño.

- Special: con los comandos de este submenú se pueden utilizar algunos cíe los

módulos de síntesis de circuitos integrados como: el chequeador

de reglas de diseño, el extractor de elementos y el posicionador-

enrutador de celdas.

La Barra de Estado puede ser presentada opcionalniente e indica el estado

de actividades en ejecución. Se encuentra en la parte inferior a todo lo largo

de la pantalla. Entre la información que presenta están: la descripción del

objeto que se está dibujando, los comandos disponibles en el menú y los

objetos seleccionados.

El Área de Trabajo es el espacio de la pantalla que dejan libre los

anteriores elementos mencionados y se podría decir que es una "ventana" a

través de la cual se pueden realizar las operaciones disponibles de edición.

Esta ventana muestra solo una parte del área denominada Área de Layovt y que

151

Page 160: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

es el plano X-Y en el que se realiza el diseño, el tamaño de ésta se determina

por un número expresado con 30 bits y por la relación entre unidades internas

(ui) y mieras. Por ejemplo si lui equivale a una milésima de \m, el área

disponible de diseño es de 1.073.742 um de largo, o sea alrededor de 43

pulgadas por cada eje: para una mejor presentación se dispone tanto de

coordenadas positivas como negativas en forma simétrica para cada eje.

Uso del ratón

El ratón es el control principal del programa, las técnicas básicas de

apuntar, un click, doble click y arrastre, permiten crear, mover, editar y

seleccionar objetos además de la posibilidad de elegir ios comandos de la

barra de Menú.

Cuadros de Diálogo

Algunos comandos requieren mayor información que otros para ejecutarse,

esta información es pedida mediante los cuadros de diálogo. Se puede usar el

ratón para seleccionar los ítems, desplegará una lista de comandos o invocar

acciones. Si existen textos o datos numéricos que deban ser ingresados a

través del teclado el ratón es útil para posicionar el inicio de los datos a

ingresarse. Dentro de un cuadro de diálogo se puede encontrar varios

elementos que proporcionan utilidad para Ja ejecución del comando invocado,

estos elementos pueden ser:

Botones de acción que se ejecutan a través de un click con el ratón,

como ejemplo están los botones de OK y Cancel.

Campos de texto que son espacios para jngreso de datos a través del

teclado y se puede saltar de un campo a otro con el comando Return del

teclado.

Botones radiales que sirven para marcar cierta condición específica que

anula las demás opciones, haciendo un click en la figura circular se define

su activación (relleno) o su desactivación (vacío).

152

Page 161: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Switches cuya función es similar a los botones radiales, pero no

excluyen la elección de otras características, cuando se hace un click e n

estos elementos se produce una X en la figura cuadrada que los representa.

4.3.2.2 Configuración del programa

Información del estado de ejecución (Menú: L-Edit)

Dentro del menú L-Edit se encuentran comandos que son muy útiles para

determinar el funcionamiento, del programa en relación al hardware del

computador. Bajo el comando About L-Edit se encuentra la presentación técnica

del programa) esto incluye la versión y el número de serie, así como los

números telefónico y de fax y la dirección del e-mail para soporte técnico.

Con el comando Status se presenta un resumen estadístico del estado actual del

programa, esta información esta compuesta por: la cantidad de memoria usada

por los archivos, celdas, y objetos; tanto para la celda que se edita como

para el archivo o para todos ios archivos. Esta información también se puede

obtener con Ja tecla F9.

Personalización del ambiente de ejecución

Bajo el menú Setup se tiene el comando Palette (Figura 4.3), que

facilita el cambio de los colores de presentación de la pantalla. Para esta

modificación se dispone de 16 colores mostrados en forma vertical dentro del

cuadro de diálogo, con su correspondiente representación en código de 4 bits.

A la derecha se encuentran botones radiales para controlar la proporción de

combinación de cada color primarlo (rojo,azul y verde) en el color elegido.

Por tanto eJ programa permite definir los 16 colores con 16 posibilidades de

combinación de colores primarios.

En eJ comando Environmenfc se encuentra información que permite controlar

otros elementos de presentación de la pantalla. Este comando contiene Jas

paletas de color para los siguientes elementos: fondo de los meriús, letras de

los meriús, comando seleccionado de un menú y fondo para los mensajes de

alerta.

153

Page 162: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

L-Editr

File!)Cellff

H-íxja•fi'íKD' "Eró••PP»• -«

{*!

• |«*

Iíflfp]u uL LL L

1 »0 0U V15) c

* rile Edlt Mira Cal! ftmive

+Chanjc Seluj-,

fcM&sr«;iiiP«lett«...

UEr««...

DBrlvti4 tayarv».

Tbcfmolagy».CrM...B»l«ctlimm

cir_.cas ti

MIC...

SW !!«*.„

1U Houto...

Fignra 4J Heno de Stlnp

Definición de las capas de diseño

Previo a la elaboración del layout de un diseño es necesario definir las

capas que se utilizan en la tecnología de fabricación que va a usarse. El

programa L-Edit brinda aquí la gran ventaja de no tener límite en el número

de capas de diseño así como en la definición de colores o patrones de relleno

para cada una de ellas. El comando Layers permite la creación y la eliminación

de capas, así como la definición de su aspecto al momento de editarse. En la

paleta de capas se puede apreciar el orden en que han sido creadas desde i a

izquierda hacia la derecha y de arriba hacia abajo, este orden es muy

importante porque juega uri papel determinante en el esquema de dibujo; en

cada cuadrado de Ja paleta se define el color y el patrón usados para

determinada capa. Mediante un clicken e] comando mencionado aparece un cuadro

de diálogo que permite definir ciertos aspectos de cada máscara presente en

la paleta. En este cuadro de diálogo con el botón Add After se puede crear y

154

Page 163: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

dar Je nombre a una nueva capa, con el botón Déjete se puede borrar la capa

seleccionada, si no ha sido utilizada. También se puede ingresar información

de las casas fabricantes en Jos cuadros correspondientes a capacitancia y

resistencia por área, bajo esta información se encuentran Switches que

permiten escoger si Jos objetos creados utilizando esa capa no se pueden

editar (Locked) y/o no deben aparecer en pantalla (Hiáclen). La parte inferior

del cuadro de diálogo permite definir los pasos de dibujo de cada capa en 3

objetos distintos: figuras, puertos, y texto; a cada tipo de objeto le

corresponde una lista de pasos que poseen tres elementos característicos:

color, patrón 3 modo.

Con el comando Wires se definen diferentes formas de dibujo de Jos

objetos denominados cintas o caminos, pero no necesariamente corresponden a

Ja forma, de fabricación. Una cinta es una secuencia de rectángulos de igual

ancho pero de diferente largo, unidos por junturas y poseen 2 terminales

inicial y final.

Usando el comando Special Layers se pueden controlar la apariencia de

ciertas capas que el L-Edit mantiene como especiales para uso propio. Estas

capas corresponden a varios eJementos del área de trabajo y pueden ser

alteradas como cualquier otra capa.

El uso del comando Derived Layers se explicará en el módulo Genérate

Layers,

Definición de las unidades cíe, medida para edición

Una vez definidas las capas tanto primitivas como derivadas que van a

ser de utilidad en el diseño, se debe especificar parámetros cíe tecnología,

grilla y selección, necesarios parta la edición del Jayout y para su

almacenamiento en los formatos permitidos.

Con el comando Technology se define las unidades en las que se almacenan

y presentan los objetos. L-Edit utiliza las unidades internas para definir

cualquier objeto y esa unidad es la mínima que soporta el programaj por lo

tanto para especificar otras formas de definición se debe relacionarla con la

1.55

Page 164: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

unidad interna. El cuadro de diálogo que aparece permite ingresar e.l nombre

de la tecnología con el cual se determina la compatibilidad entre 2 diseños.

Bajo el nombre se encuentran unos botones radiales que especifican la unidad

que se utiliza para relacionar con las unidades internas; además se puede

escoger una unidad propia, como lambda, y adlcionalmente dar su equivalencia

en mieras. Para el caso particular de ES2 se escogió la unidad lambda y se

definió su valor en 0.75 nm (CMOS 1.2).

Para definir parámetros de la grilla se u ti liza el comando Gríd,

mediante el cual se escogen opciones que determinan: la cantidad de unidades

internas entre cada punto de la grilla, el numero de pixels mínimo que debe

ocupar un punto de la grilla para que se presente en pantalla, el paso mínimo

que se tiene en los desplazamientos con el ratón (ratón snap grid) y la

cantidad de unidades internas que equivalen a. una unidad del localizador del

cursor.

Utilizando el comando Selection se puede definir la operación de

selección y deselección de objetos durante la edición. Esta operación es

fácilmente ejecutable con el ratón.

4.3.2.3 Archivos de diseño soportados por L-Edit

L-Edit soporte tres clases de formatos de diseño: Caltech Intermedíate

Form (CIF), GDS II y Tanner Data Base (TDB). Los dos primeros son formatos

estándares para representar circuitos integrados, mientras que el último es

un formato específico de Tanner Research Inc. que optimiza el ambiente Tanner

Tools. Las extensiones de los archivos soportados son:

.CIF Caltech Intermedíate Form

.GDS GDS II

.TDB Tanner Data Base

El programa lee el diseño desde el disco a la memoria, por tanto la

cantidad de archivos que pueden ser editados depende de Ja memoria disponible

en el computador. Los archivos TDB contienen no solo el diseño en sí, sino

contienen además información de las máscaras, configuración cíe formatos CIP

156

Page 165: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

y GDS II, reglas de diseño y otros parámetros asociados al diseño, esto

facilita el trabajo del diseñador puesto que no necesita archivos externos

para trabajar en un diseño particular.

Los archivos CIF se manejan en forma similar a Jos TDB pero tienen la

posibilidad de ser modificados en lo que tiene que ver con el nombre asignado

a las máscaras. El comando CIF permite escoger las capas o máscaras de la

paleta y asignarles un nombre determinado que usará el programa para recuperar

archivos y escribirlos. Si al ]eer un archivo en formato CIF no se encuentra

definida una capa, esa información geométrica se transfiere a la máscara

especial Icón Outllne.

L-Edit incorpora un factor de escalamiento implícito al escribir

archivos CIF, debido a la representación geométrica del lenguaje, es necesario

para el programa multiplicar por 2 toda la geometría; la razón es que el

lenguaje no acepta coordenadas fraccionarias.

Con el comando GDS II permite ingresar información para intercambio de

diseños entre diferentes sistemas CAD para circuitos integrados.

El comando DRC se explica en el módulo Design Rule Checker y los

comandos SPR Block, Pad Frame y Pad Route se explican en le módulo Standard

Place and Route.

4 - -3.2.4 Manejo de los diseños

Comandos básicos para los archivos

Una vez definida la configuración del entorno de trabajo a continuación

se explica como manejar los archivos y celdas centro de un diseño. Como se

explicó anteriormente L-Edit puede mantener varios archivos en memoria para

facilitar el trabajo del diseñador. Cada archivo de extensión TDB contiene no

solo información geométrica sino especificaciones del entorno, como

presentación gráfica, celdaSj reglas de diseño, parámetros de enrutamierito,

capas, etc. En cJ menú File (Figura 4.4) se dispone de varios comandos que

157

Page 166: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

permiten manejar archivos.

L-Edit"PiteeCellBPoly

w, ;Q

' wrá'• 1*-

\b

1,

1

i1

P-•a

*•»•7

ftmvoBulto»»

ruLL

10VN

rULL

t0Vp)

ÍJBftSkwit Uiow Cetl fVr*nír Sctüf Speclalnaw... "MOf«n... *00 *«S«Mt 0

Clow> "V

Info,.,

OVMMHI rrÍFíWir...

P«gn Seinp...IVinVFIot... ^P

fiHÜ« in BOfiQuít "

+File OpertUom, frlntlnf™

Figura Í.4 Ncnó Files

El comando New abre un archivo nuevo con el nombre FileO y se inicia con

la celda CellO, la información de configuración se obtiene del archivo que se

esta editando en forma automática. .El programa posee un buffer que es

utilizado por el archivo que se edita.

El comando Open abre un archivo grabado en disco. Antes de escribirlo

en el buffer, graba el archivo actual a memoria. Se puede

abrir un diseño tanto en formato TDB corno en GIF o GDS II, marcando el botón

apropiado del cuadro de diálogo, por tanto no se necesita especificar la

extensión del archivo. Si el archivo se encuentra en el mismo directorio del

programa no se necesita poner el directorio completo del mismo.

El comando Save graba el archivo deí buffer y lo escribe en disco. El.

archivo estará en formato TDB y si el nombre por defecto, que es FileO,

todavía no ha sido cambiado, se pregunta un nuevo nombre. En caso de existir

otro archivo del mismo nombre, se cambia su extensión a .TDO. Esto no sucede

158

Page 167: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

con los formatos CIF y GDS II.

El comando Save As permite escribir el archivo en uno nuevo en

cualquiera de los formatos soportados por L-Edit. Si no se especifica un

directorio, el archivo se grabará en el directorio del programa.

El comando Glose cierra el buffer actual sin escribir su contenido en

un archivo de disco, sin embargo entrega un mensaje de atención para

almacenarlo o no.

El comando Replace Setup se utiliza para transferir información no

geométrica de un archivo a otro, por ejemplo la definición de capas, las

reglas de diseño entre otras. Una vez que haya abierto el archivo de destino,

se puede usar este comando para especificar con varios switches la información

que se quiere transferir. La información de capas se maneja de forma un poco

distinta a las otras, puesto que es permitido no solo reemplazar ía

información presente, lo que sucede con los demás switches, sino aumentar la

existente con la que uno requiera, mediante el botón Merge.

El comando Info despliega un cuadro de diálogo que provee información

del autor del archivo, la organización a la que pertenece y una breve

descripción. También se tiene los números de versión del layout y de setup,

además se tiene un switch que no permite editar el archivo (Locked).

El comando Choose Print pemite escoger la impresora. L-Edit soporta

varios tipos de graficadores entre los cuales puede ser escogido el que tenga

a disposición el usuario.

El comando Page Setup controla la disposición y presentación de Ja

página de impresión, la información necesaria para este comando depende de la

impresora seleccionada, pero en forma general se puede elegir el ancho y alto

del papel; la orientación de la impresión, la escala y la calidad de la

impresión.

El comando Print/Pl.ot permite iniciar la impresión con las opciones

siguientes; botones para imprimir una celda o solo la vista presente en I.a

159

Page 168: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

o

pantalla, el valor de escalamiento, el rango de páginas, el. número de copias

y el dispositivo de salida (equipo o archivo).

Con el comando Push To DOS se puede salir temporalmente del programa L-

Edit para realizar operaciones con el sistema operativo. Es posible que en

o ocasiones el programa L-Edit rio funcione correctamente por errores del sistema

que son irrecuperables, el comando ~ Break permite regresar el control del

programa en estos casos, pero no es posible asegurar que 3os datos estén

todavía en buen estado.

El comando Quit regresa .el control al sistema operativo terminando la

ejecución del programa, se presenta un mensaje de alerta en el caso de correr

u el riesgo de perder datos todavía no almacenados.

Comandos para manejo de celdas

Dentro de un diseño semicustom es importante la facilidad que un

programa computacional preste para la manipulación de la celdas como elementosu

fundamentales del diseño o como bloques básicos para la creación de circuitos

integrados. L-Edit provee herramientas de mucha utilidad en cuanto al manejo

de celdas, usual mente una celda está diseñada para cumplir una función

específica y muy básica, por lo cual es. importante la capacidad de enlazar

celdas para crear bloques funcionales más complejos que permitan eliminar

desperdicio de espacio y hacer un diseño con un mejor funcionamiento

eléctrico.

£> Dentro del programa las celdas pueden ser tratadas de 2 diferentes

formas. Las celdas primitivas son las celdas normales editadas completamente

con las herramientas de dibujo y las celdas referenciales o instancias que

están formadas por relaciones con otras celdas, este tipo de celda contiene

la información que indica dicha relación en términos de orientación y

posición. Las celdas referenciales se utilizan para ubicar una celda en el

layout en una localidad específica y una orientación determinada, pero no 3a

dibuja como a las celdas primitivas, por tal razón no ocupa mucho tiempo suu

1(50

Page 169: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Open: permite abrir una celda existente. Se muestra a todas las celdas

en orden alfabético correspondientes al archivo indicado en la

parte superior del cuadro de diálogo.

Revert Cell permite deshacer los cambios hechos en una celda hasta la última

vez que fue almacenada.

Glose As: cierra la celda que se está editando después de permitir darle

otro nombre.

Delete: borra la celda que.se selecciona, en caso de celdas referencia les

no es posible realizar esta operación.

Rename: permite dar otro nombre a la celda sin cerrarla.

Instance: este comando crea una referencia de una celda selecionada en la

celda que esta abierta, algunas celdas permiten ser seleccionadas

debido a que ya son referenciales a otras celdas o es la celda

abierta.

Copy: permite copiar celdas dentro o fuera del archivo que esta abierto.

Al copiar de un archivo a otro residente en memoria, también se

copian las celdas que son parte de la jerarquía y que sean parte

de la que se copia.

Fabrícate: permite definir una celda de fabricación para archivos GIF.

Flatten: posibilita deshacer la jerarquía hasta el nivel en que se

encuentra, es decir se cambian Jas celdas referenciales por sus

primitivas.

Elaboración de los lavouts

En los 2 numerales anteriores se han descrito 2 aspectos fundamentales,

el primero es la configuración del programa de acuerdo a los requerimientos

162

Page 170: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

del diseño y el segundo es la organización de los archivos y celdas, con las

operaciones que pueden ser realizadas en ellos. El último, de los aspectos

correspondientes a la descripción del programa, es el de las herramientas que

posee L-Edit para trabajar con la interfaz gráfica. Los comandos que se

encuentran disponibles para esta función son de alto nivel y están agrupados

en 3 diferentes menús para facilitar su iDcalización, estos menús son: Edit,

View y Arrange, (Figura 4.6).

L-WU" rileRpalUimj Ccll ftrt^nyc Sgtup SgccUIUnJo Y"

Oit ^XCofy *Cr«Ktn *vCl»«r *lKlflt(UÍ« ^

SnlectAU >Dnralaci All Alt-A

Ofc>ict... tFiní tVnrt Ok>ci FFin* Prw Ottjnct P

UfffTtMf

12J15 Cut , P«l«, Select^

Figura i6 Heñí E d i l

Este conjunto de herramientas proveen gran flexibilidad al momento de

editar tanto layouts fuJl-custom como para los semi-cvstom basados en celdas

estándar y obtenidos con el posicionador-enrutador automático de celdas. Para

una mejor apreciación de las facilidades que ofrece la interfaz de diseño se

darán a continuación las funciones básicas relacionadas con el editor de

layouts y que le convierten en una herramienta poderosa para la edición de

163

Page 171: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

máscaras.

Se dispone de un paleta de máscaras y una paleta de objetos (flecha,

rectángulo, polígono, cinta, círculo y puerto) de fácil selección

mediante el ratón.

ii) Debido a la gran potencialidad que ofrece en operaciones de selección

de objetos, edición, movimiento y copiado se facilitan enormemente.

iii) Las herramientas que posee para Ja búsqueda tanto de objetos como de

puertos é incluso de texto, le dan gran funcionalidad en procesos de

corrección de errores y ubicación de pines.

iv) El programa ocupa un buffer especial para realizar copias y transferir

objetos entre celdas dentro del mismo archivo o para trasladar un

conjunto de objetos de una máscara a otra. También se debe mencionar la

existencia de un buffer que permite deshacer operaciones de edición,

movimiento o copia, así como de operaciones con celdas referenciales.

v) Permite la edición textual de objetos mediante un cuadro de diálogo

especial para cada tipo de objeto, esto es importante para realizar

cambios con una exactitud superior a la que permite el ratón.

vi) Las operaciones de acercamiento y alejamiento así como la de movimiento

dentro del área de ¡ayout son muy flexibles y dan gran ayuda en la

visualización de un diseño.

vil) Una de las mejores utilidades del editor de 1 ayout es la facilidad que

posee para ocultar y mostrar tanto capas como objetos de las celdas.

1.64

Page 172: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

4.3.3 Genérate layers

Este módulo del paquete Tanner-Tools permite definir capas de diseño que

no intervienen en el proceso de fabricación del circuito, pero que son

utilizadas por el L-Edit para correr las diferentes opciones de síntesis, por

ejemplo, en la extracción de los transistores existentes en un layout, se debe

crear una nueva capa a la que se asigna un nombre arbitrario trans, definida

por el cruce de la capa de área activa con la capa de polisilicio. El programa

"entiende" que donde encuentre el cruce de estas dos capas se "genera" la capa

trans, de esta manera se "enseña" al programa a extraer los transistores.

Operaciones sobre las capas

El proceso para Ja generación de nuevas capas involucra varios pasos,

primero se nombran a las capas nuevas a través del menú SETUP LAYERS, luego

se las definen en base a operaciones iógicas entre una o más de las capas

existentes utilizando el comando DERIVED LAYERS, finalmente para que se

ejecute la generación de la nueva capa se invoca el comando GENÉRATE LAYERS.

Existen cuatro operaciones básicas de generación de capas: AND, OR, NOT y GROW

que a continuación se describen:

AND: Esta operación crea una capa a partir de la intersección de otras dos

capas.(Figura 4.7)

Layeír C = Layer ft ftWD Laycr B

Figura 4 .7 Operación

1(55

Page 173: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

OR: La operación OR crea una capa de unión de dos capas. (Figura 4-8)

Lnyer- fl

Figura í.8 Operación OR.

NOT: Esta operación crea una capa de ia ausencia o la inversión de una

determinada capa. Como en ocasiones el editor geométrico no puede

realizar esta operación debido a ia extensión de la capa resultante, L-

Edit impone un límite exterior artificial. En lugar de rellenar la

celda, Ja operación NOT A debería extenderse desde el límite de la capo

A una cantidad igual a Ja ultima operación GROW. En el caso de que tal

operación no haya sido reí izada, NOT A deberá extender una unidad

interna hacia afuera del límite de la capa A.

GROW: La operación GROW toma cada objeto de la capa considerada y lo

incrementa o decrementa en tamaño de acuerdo a un número de unidades

especificado Figura 4.10. La operación SIÍRINK (Figura 4.11) es efectuada

el ingresar un valor negativo como parámetro de GROW. Este toma cada

objeto de la capa y contrae su tamaño de acuerdo al número de unidades

especificado. Si cualquier dimensión de un objeto no es lo

suficientemente gránele como para la operación que se quiere realizar,

el objeto será descartado.

166

Page 174: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Layer B = KOT L*

Figura 4 .9 Operación DT

C = Layor H GROW 2 ni

Figura 4 .10 Operación GRGI

Configuración de las capas derivadas

Las capas derivadas, capas que se generan con cualquiera de las

operaciones antes descritas} se configuran eligiendo la opción Derived Layers

del menú SETUP. Previamente, la capa debe ser creada mediante 1.a opción Layers

del menú SETUP. La nueva capa debe ser insertada en la lista, de capas después

de las que están involucradas en su creación. Una vez reaJizado esto se debe

setear Ja nueva capa como capa activa en el L&yer Área antes cíe elegir la

opción Derived Layers del meúu Setup.

.167

Page 175: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Lnyer C = Layer B SHRINM -2u 1

VW'iwftWtflwtWmú't'Zim*1.-.i-}i*>|t-'jttTi1fl^-rt

Sjpií^J&i-^rijitoptoffiH:'n:;i#!Í"!íi!!¡i'»í-íii4'4h4J4ittlW'H

Figara 4.10 Operación SflRINK

Cuando se ha elegido la opción Derived Layers aparece un cuadro de

diálogo presentado en la figura 4..12, en dicho cuadro se tiene las siguientes

opciones:

PrrTIn i tlon*

Poly

JL. O

2. O

3. O

r ' ÓK

Figura 4.12 Cnadro de dialogo para la generación de unacapa der ivada

JSnable Evaluatj.on: este switch permite activar o desactivar una capa

derivada particular sin cambiar Ja iriformación del setup.

Target Layer: esta capa es la que se está definiendo. Cuando la frase

Target Layer está resaltada se puede elegir la capa haciendo un click

sobre el Layer Área.

Source Layers: se puede elegir hasta 3 capas involucradas en la

generación de la Target Layer. Selecionando el Literal de la capa origen

.1.68

Page 176: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

deseada (1, 2 o 3), se puede elegir desde el Layar Área la capa que se

considere necesaria. Las capas definidas en cada literal pueden ser

cualquiera de Jas capas anteriores de la lista de capas inclusive capas

derivadas previamente definidas. Se puede eliminar una capa asignada a

cualquier literal mediante Ctrl-X.

Switch NOT: al seleccionar este switch se efecúua la operación NOT con

la capa selecionada en el correspondiente literal.

GROW: la operación GROW se efectuará de acuerdo al número entero que se

ubique en este campo. 5i es un entero positivo la capa crecerá de

acuerdo a dicha cantidad, si el entero es negativo la capa asignada a

este literal, será disminuida en esa cantidad.

Botones AND y OR: Estos botones definen, la operación que se realiza

sobre la capa ubicada inmediatamente abajo respecto a la superior.

El orden del las operaciones lógicas es el siguiente:

-La operación GROW.

-La operación NOT.

-Las operaciones AND/OR.

Por ejemplo si se especifica la operación AND entre Capal y Capa2, y se

quiere realizar la operación OR con Capa3, se debería especificar de la

siguiente manera:

(Capal AND Capa2) OR Capa3.

Generación las capas derivadas

Una vez que las capas derivadas lian sido definidas, pueden ser generadas

eligiendo la opción Genérate Layers del menú Special. Se produce la generación

en la celda que se este editando actualmente, aparece un cuadro de dialogo de

estado de la capa que se este generando. Los objetos de la capa resultante son

ubicados dentro de la celda y pueden ser manipulados como cualquier otro

objeto. Hay que tener precaución por que esta opción borra los objetos de la

169

Page 177: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

capa, derivada a menos que estos hayan sido generados con ese comando.

El comando Genérate Layers divide el Jayout en una cuadricula de bins

y realiza la generación dentro de cada bin. Se puede especificar el tamaño del

bin en el cuadro de dialogo de generación. Este técnica aumenta

considerablemente la efectividad del proceso puesto que no toma en cuenta

objetos que estén muy distantes.

Las capas son derivadas dentro de Ja región de la celda; en otras

palabras, una operación NOT sobre cualquier objeto no resultará en un polígono

irregular que se extienda por tpda la región del Layout, en su lugar el objeto

creado sera tan largo como lo es la célela procesada.

Capas Generadas Ocultas

El comando de generación de capas crea objetos completamente idénticos

a objetos normales del L-Edit. Estos pueden ser manipulados como cualquiera

de los otros, e incluso se puede ocultar su presentación usando los comandos

Show/ííide Layers. También existe el comando Ilide Generated Layers, el cual

oculta todas las capas que han sido derivadas, se lo invoca mediante la

combinación:

Ctrl-J-Hide Layers (botón del. ratón)

Eliminación de Capas Generadas

Cuando se invoca el comando de generación, todos los objetos que

actualmente residen en las capas derivadas son automáticamente borrados antes

de insertar nuevos. Sin embargo, se podría remover todos los objetos de las

capas derivadas sin crear otros nuevos, esto se lo hace con el comando Ciear

Gen'ed Layers del menú Special.

El cuadro de diálogo que aparece permite elegir el ámbito en el cual va

a ser ejecutado, se puede elegir entre: This Cell (para la celda actual), This

File (para todas las celdas del archivo) o Alí Files (para todas las celdas

de todos los archivos abiertos).

170

Page 178: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Uso con DRC y Extracción

E.I comando de generación es automáticamente invocado mediante L-Edit/DRC

y JL-Edit/Extract si las capas derivadas usadas están presentes en las

definiciones de las reglas de disfíno o en el proceso de extracción.

Previamente se realiza la operación de borrado de los objetos de las capas

derivadas, esto significas que si existen objetos antes de las operaciones de

DRC o extracción , esos objetos serán borrados. L-Edit/Extract no utiliza los

valores especificados para la operación GROW.

4.3.3 Cross Scction Viewer (Visualización de secciones transversales)

Un circuito integrado es un dispositivo de 3 dimensiones, pero en la

mayoría de sistemas CAD, la tercera dimensión es representada solo por

diferencias en color y/o patrón de relleno de las áreas sobre las pantalla de

dos dimensiones. Diseñadores con experiencia pueden rápidamente trasladar

mentalmente las representaciones planas a sus correspondientes estructuras

tridimensionales. En las clases universitarias y en discusiones entre

ingenieros, las vistas de secciones son bastante útiles para comunicar el

contenido relevante de un diseño que puede no se entendido desde su vista

superior.

Un acceso rápido a las secciones provee un método efectivo para entender

las estructuras integradas y son de ayuda tanto para diseñadores novatos como

para expertos. Los estudiantes pueden intanténeamente comprender el auto-

alineado de compuertas CMOS con una herramienta que permite simultáneamente

ver la estructura desde una vista lateral. También la diferencia entre pozo

y sustrato de un proceso CMOS se vuelve fácilmente apreciable. Desde una vista

superior el pozo y el sustrato parecen similares. Ambas definen capas que

típicamente rodean los 2 diferentes tipos de área activa. Las vistas de las

secciones laterales hacen claro que el sustrato es meramente un calificador

sobre el implante activo, mientras que el pozo corresponde a una estructura

que necesita ser conectada eléctricamente.

Los diseñadores experimentados se benefician de las vistas de secciones

171

Page 179: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

laterales cuando ellos se mueven a procesos más complejos, la tendencia a

procesos de fabricación más complejos continuará en los años venideros. Los

ingenieros hábiles pueden crear transistores muít¿compuerta, JFET,

transistores bipolares aislados, estructuras de transferencia CCD y una

variedad de estructuras de compuerta flotante. Las vistas de secciones

laterales son importantes aún para diseñadores veteranos cuando crean y

exponen estas estructuras más complejas en cursos de enseñanza.

Las secciones laterales son generalmente usadas para entender las

razones para reglas de diseño geométricas. Por ejemplo, muchos procesos CMOS

tienen una distancia mínima entre vía y el borde de polisilicio, en estas

reglas las vías pueden estar enteramente rodeadas de polisilicio o

completamente lejos del mismo, pero no pueden estar cerca de un borde. Aunque

esta regla puede parecer arbitraria para diseñadores novatos, una vista

lateral muestra claramente el terreno metálico irregular sobre los bordes de

polisilicio, esto vuelve fácil visualizar el problema de fabricación que

habría al tratar de ubicar una vía sobre el metal desigual o irregular.

Diseñadores expertos se benefician al comprender la motivación para las regias

de diseño al ser capaces de "violar" selectivamente algunas reglas de diseño

bajo condiciones que no causarán problemas en la fabricación.

ImpJementación— ^

El visual izaclor de secciones laterales simula 3 tipos de procesos para

construir una vista: crecimiento/depósito, etcg e implante/difusión. El primer

paso genera nuevo material, el segundo remueve material de la superficie y el

último modifica el material cercano a la superficie.

La implementación del visualizador está disponible para ayudar en Ja

conceptual.ización de la estructura vertical de un circuito integrado. Para

este propósito, Ja representación rio tien una precisión profesional de la

estructura física del circuito integrado. Los chips actuales tienen una

variedad de propiedades, tales como transisciones suves de nivel, que no están

modeladas en el visualizador pues la finalidad es mostrar una relación simple

172

Page 180: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

entre las capas su fabricación. En particular la implementación actual del L-

Edit no hace esfuerzo por una descripción precisa de tales procesos sino se

simula las secciones corespondientes al layout, desde el sustrato hacia arriba

y una capa a la vez.

Procesos de fabricación simulados

Crecimiento/Depósi to (Grow/Deposit)

Con este paso se generan nuevos materiales en forma uniforme como los

procesos de crecimiento de óxido o la deposición de metal. En realidad estos

procesos son distintos físicamente sin embargo para efectos de simulación se

los considera idénticos. En este paso se incluyen: un parámetro de

profundidad, una etiqueta y un comentario. La profundiad controla el grosor

de la capa en formación, la etiqueta se incluirá en la vista lateral en otras

versiones del módulo y el comentario es útil para el mantenimiento del archivo

de proceso. El color de la capa es el mismo definido en la edición del layout.

Etcli (Grabado)

Este paso permite remover en cierta profundidad el material en proceso

en toda el área que la máscara permita. Aún cuando el proceso físico Etch

remueve ciertos materiales y no otros, el módulo del L-Eclit remueve todos los

materiales uniformemente, sin embargo la simulación de este paso permite

capturar detalles importantes de los procesos de fabricación.

Impantación/Difusión (Implant/Diffuse)

El paso de implantación/difusión simuJa Ja implantación iónica o ei

proceso de difusión a altas temperaturas que modifica el tipo de semiconductor

presente en Ja superficie del material procesado. Al simular este proceso el

color de la capa involucrada cambia de acuerdo a la profundidad y a ia

especificación del proceso. Como en el caso anterior las máscaras pueden estar

basadas en capas derivadas de otras capas a través de operaciones lógicas-

Page 181: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Presentación

En la parte superior cíe la pantalla se detalla eJ circuito finai a ser

seccionado. La parte inferior muestra la correspondiente vista lateral del

circuito.

La sección se puede construir paso a paso e incluso es detenida para

mejor apreciación del proceso. Sin embargo para quienes sólo desean la

presentación final de la sección es posible definir esta forma de ejecución.

Operación.

Un archivo del proceso debe estar presente inevitablemente para generar

la sección lateral requerida. En este archivo las capas utilizadas deben

corresponder exactamente a los nombres usados en el editor de L-Edit para

editar el layout.

Primero se debe abrir ía celda que se desea observar, luego se

determina la porción del layout de interés y se la centra en la región

superior de la pantalla.

El siguiente paso es invocar el comando Cross-Section del menú Sjpecial.,

con lo que aparece un cuadro de diálogo donde se debe especificar el archivo

del proceso y se se desea un despliegue paso a paso se debe marcar el switch

correspond iente.

Al hacer un cllcken OK se pasa al editor donde se ha reemplazado

el cursor por una línea horizontal a lo largo del área de edición, que se

puede mover con el ratón. Una. vez posicionada dicha línea en el lugar deseado,

se debe presionar cualquier botón del ratón.

A continuación se inicia Ja construcción de la vista lateral paso a paso

(controlada por el ratón) o completa, de acuerdo a la elección. Al final debe

presionarse cualquier botón del ratón para que desaparezca la vista lateral

y se pueda seguir editando normalmente. En esta versión las vistas laterales

174

Page 182: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

no se pueden editar, guardar o imprimir.

Archivo de Proceso

El archivo de proceso contiene una lista de instrucciones y comentarios,

usados por el L-Edit para realizar las vistas laterales requeridas. En este

archivo no se permiten líneas en blanco puesto que el proceso de creación de

las vistas se detiene en la primera línea en blanco que encuentre.

Un comentario debe iniciarse siempre con el símbolo # y terminarse con

un código de fin de línea. El formato de una línea de instrucción es el

siguiente:

PASO NOMBRE_DE__LA_CAPA PROFUNDIDAD ETIQUETA COMENTARIO

El PASO depende del proceso a simularse, puede ser; GD si es

crecimiento/depósito, E si es Etch o ID si es Implante/Difusión.

El NOMBRE_DE__LA_CAPA es la capa involucrada que debe concordar con el

nombre usado en la edición. Sí el nombre contiene espacios en blanco se lo

debe escribir entre comillas. En procesos GD esta capa determina el color y

patrón de relleno usado, en procesos Etch se especifica el área a ser removida

y para procesos ID se especifica el área en la que se difunde el material. Uri

guión indica que no hay capa definida asociada ai proceso.

La PROFUNDIDAD indica con un número entero el grosor de la capa que

crece, para procesos GD, o la profundidad en procesos Etch o ID.

La ETIQUETA puede ser una cadena de caracteres encerrada entre comillas

si contiene espacios en blanco, si no se usa ningún carácter se debe colocar

un guión.

El COMENTARIO es información opcional y debe estar precedida por el

símbolo #.

175

Page 183: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

4-.3.5 L-EdiI/Extractor

Después de la creación de un layout se puede utilizar un extractor para

obtener el circuito que representa. El L—Edit/Extract es un extractor genérico

capaz de reconocer elementos activos y pasivos. El extractor está totalmente

integrado al editor L-JSdit y usa las capas definidas en el programa.

En Jayouts de gran área, el extractor procede a dividir en cuadrículas

de bins o unidades de proceso cuya dimensión influye en la rapidez del

programa.

La extracción del circuito también permite el uso de capas derivadas y

por consiguiente de ]as reglas de diseño que las utilicen.

Los resultados de la extracción se presentan en forma de un archivo de

texto que usa el formato SPICE (Berkeley 2G6).

Extracción del Layout

Dentro de las pruebas preliminares a la fabricación se debe efectuar la

extracción del layout para verificar que corresponda al circuito que se está

diseñando. Esta prueba genera una lista de nodos o netjist que representa

tanto a los elementos como su conectividad. Utilizando ese netlist se puede

comparar con otro generado con el esquema eléctrico del circuito que se está

diseñando para comprobar su equivalencia en conectividad y por otro Jado se

puede verificar la información paramétrica de cada elemento es decir tamaños,

manejos de corriente y otras características de ese tipo. Para configurar el

extractor se debe seguir los siguientes pasos:

1) Definir el conjunto de elementos (transistores, resistencias,

capacitancias) que se van a extraer. Este paso puede influir en .la

ejecución del programa puesto que mientras mayor sea el número de

elementos o más compleja su especificación, la extracción tomará más

tiempo.

2) Especificar Jas capas que forman los elementos y Ins interconexiones que

176

Page 184: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

se ecesita. En este paso son útiles las capas definidas con las

operaciones lógicas para diferenciar los elementos entre sí. Para

definir la existencia de los elementos se determina una capa de

reconocimiento (recognición layer) por cada uno. Además se debe disponer

de datos correspondientes a capacitancias y resistencias asociadas al

proceso de fabricación de las diferentes capas.

3) Elaborar el archivo de definición para la extracción. Este archivo debe

contener una lista de las conexiones y los elementos a ser extraídos.

Esta información se debe presentar en un formato que el L-Edit entienda

y pueda reconocer las instrucciones; a continuación se dan algunas

recomendaciones para su creación:

a) No importan la utilización de Letras mayúsculas o minúsculas, con

excepción de los nombres de las capas.

b) Los nombres de las capas deben ser 1 os mismos uti 1 izados en la

edición del layovl.

c) Para comentarios debe incluirse un símbolo # al inicio del

mismo y al final se debe poner un fin de línea.

d.) Para conectar las capas se debe utilizar este formato:

CONNECT ( Capal ,Capa2 ,Capa_de_conexión )

e) Para definir elementos se debe usar el siguiente formato:

DEVICE = Nombre_del_elemento (

RLAYER = Capa_de_reconocimiento;

Nombre_del_pin = Capa_del_piri;

MODEL = Modelo;

4) Para ejecutar el extractor se elige el comando Extract del menú Setup

177

Page 185: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

y se define los parámetros del cuadro de diálogo que aparece. Hay que

aclarar que rio se puede ejecutar la extracción de layouts que incluyan

figuras circulares.

Los siguientes parámetros aparacen en el cuadro de diálogo:

Extract Definition File: Archivo en el que se ha definido los elemento

ha ser extraídos.

SPTCE Extract Output Fi. le: Archivo de sal ida en el que se tendrá el.

netlist en formato SPICE del layout que se está analizando.

Bins Sizes: Dimensión en unidades internas de la mínima región de

extracción o mínima unidad de proceso.

Switch "Write Node Ñames": Si se selecciona este switch se traslada los

nombres de los puertos definidos en el layout al netlist SPICE.

Switch "Write Node Capacitances": Si se selecciona este switch el

extractor calcula las capacitancias entre los nodos y tierra. Esta

opción no es aconsejada en comparaciones entre listados.

Cuando la información esté correcta, se hace un click en OK para

ejecutar la extracción y el resultado es entregado en el archivo de salida con

formato SPICE, la información de este archivo contiene datos de los elementos

y sus conexiones, así como datos de las etiquetas usadas, puertos y

dimensiones físicas de las capas que conforman los distintos elementos. En el

ANEXO F se presenta el archivo para extracción de transistores para ES2.

4-.3.6 L-Edit/SPR

La técnica de celdas estándar para la generación automática de layout

combina los distintos bloques lógicos, o celdas, dentro de un diseño de mayor

tamaño y permite inüerconectarlos automática o manualmente. El diseño de Jas

celdas estándar es tal que es posible ubicarlas en forma contigua o adyacente

178

Page 186: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

para que las conexiones de polarización y tierra sea comunes a todas. Este

módulo deJ L_Edit ubica las celdas en filas con espacios para interconexión

o enrutamiento entre ellas.

El bloque SPR (Standard Place and Route) analiza el diseño y decide la

mejor disposición de las celdas a través de su Optimizador de Posicionamiento

para producir el layout más pequeño y no hacer muy compleja la interconexión

entre las celdas. A través de un Generador de Padframe se diseña el anillo de

pads que rodea el núcleo según las especificaciones del diseñador, una vez

terminado este paso se procede al ruteo entre pads y la lógica interna del

núcleo mediante un Enrutador de Pad.

RuLeo y Posicionamiento de Celdas Estándar

Generación automática de Jayout

Este método es el menos flexible ya que genera un layout completo con

la mínima información necesaria, la mayor parte de ella procede de un listado

de nodos del circuito, simiular al usado en procesos de simulación

computarizada de circuitos. Los siguientes pasos definen la metodología a

desarrollarse:

- Crear un esquemático del circuito y su correspondiente netiist. Este

esquemático debe contener los pads en Jas señales de entrada y/o salida,

también es importante las etiquetas que se asignen a los pads para el

orden en que serán enrutados por el Generador de Padframe.

-Obtener el archivo del netl.ist con fotmato TPR. Partiendo deJ archivo

del netiist generado por e 1 esquematico se obtiene el ne11isto con

formato TPR (Tanner Place and Route) por medio del. programa NetTran.

-Ejecutar el comando Place and Route del menú Specjal del L~Ed.it. Las

capas deben ser las mismas tanto en el archivo a editarse como en la

librería de celdas a usarse.

.1.79

Page 187: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

-Determinar Jas dimensiones de padfrajne y núcleo correpondientes a las

especificaciones del fabricante, si no corresponden a ellas es necesario

optimizarlas.

Generación personalizada del. núcleo

Para la interconexión entre pads y núcleo el Pad Router no toma en

consideración la lógica interna dej núcleo sino solamente elementos

denominados puertos de empalme (abutment ports) ubicados alrededor del núcleo.

Cada uno de esos puertos estará conectado a un pací y por tanto debe ubicarse

en el mismo orden de ubicación de los pads para no permitir cruces entre

señales que se fabriquen con el mismo material. Si se tienen varios bloques

que conformen la circuitería interna, se debe proceder a enrular manualmente

los mismos y encerrarlos en una estructura que poses puertos de empalme para

que se la trate como un solo núcleo al momento de enrutarlo al padframe.

Generación personalizada de padframe.

El enrutador de pad no toma en cuienta ni la circuitería interna del

núcleo ni la de los pads, ni siquiera de la disposición de ellos en el

padframe, sino que utiliza los puertos de señal ubicados en el límite interior

del padframe (puerto del núcleo) y cuya ubicación corresponde a la del núcleo,

para enrutar cada una de las señales. Los puertos de señal pueden estar en el

mayor nivel de jerarquía o un solo nivel por debajo de él, pero los pads de

polarización y tierra, deben ubicarse en posiciones opuestas.

Configuración del SPR.

Definición de bloques

Desde e.l comando SPR Block del menú Setup se designa todos los

nodos/señales a enrutarse desde los borde del riúcle del circuito integrado,

para cada señal se define la ubicación : L(izquierda), B(abajo), R(derecha)

y T(arriba)5 dicho comando tiene 3 páginas para configuración. La información

puede ser generada automáticamente desde el archivo TPR, o ser definida por

el diseñador. En la página 2 se definen los nombres de las señales de

.180

Page 188: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

polarización y tierra especificas de cada librería de celdas, loa nombres de

las celdas y puertos creadas por el SPR. En Ja página 3 se definen las capas

para los enrizamientos -verticales y horizontales entre las filas de celdas y

otros parámetros de enrutamiento en unidades internas como el routing weight

que es un peso o costo de fabricación de capa y que se usa para influir en la

optimización del posicionamiento. También hay parámetros de capacitancias por

área para extracción de capacitancias parásitas, otro valor que se debe

ingresar es el espaciamiento vertical entre las filas de celdas y el

espaciamiento horizontal por último el valor Cel l-to-Power define ia distancia

mínima desde una celda a los pads Vdd o Gnd para los límites del núcleo.

Configuración del Generador de Padframe

Escogiendo el comando Padframe del menú Setup se puede configurar este

módulo en 2 páginas de información. En la primera se designa el nombre del pad

y la ubicación en el anillo en forma similar a los puertos de serial del.

núcleo, así como si se necesita que el pad sea ubicado en forma reflejada. El

nombre de cada pad debe especificarse con los siguientes criterios:

-Debe ser el mismo del netlist.

-Si se usa el símbolo < en um pad del netlist, el nombre se puede

especificar hasta el. primer símbolo < encontrado.

-Debe ser exactamente igual al usado por el pad de la librería de

celdas.

-Debe ser "New Pad" cuando será, sustituido por uno en el netiiist.

Se puede especificar la ubicación y el orde en que se ubicarán los pads

de acuerdo al siguiente formato:

PAD_sn_x

Donde:

s puede ser L,B,R o T de acuerdo a su ubicación y se puede omitir.

n número que da el orden en sentido antihorario en que se ubican los

pads, no se puede omitir.

.181

Page 189: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

x es cualquier cadena de caracteres para identificación, y se pude

omitir.

Cuando el número de pads es menor a] requerido por el fabricante se debe

completar el padframe, aumentando localidades para pads en la configuración

del padframe o aumentar el número de pads no conectados en eJ esquemático con

puertos en localidades específicas. En la segunda página se ingresa

información para configurar el generador de padframe para el uso de una

librería de celdas, generalmente no se necesita hacer cambios en esos datos.

Configuración del Enrutador de Pad

Este es un enrutador que utiliza 2 capas para el proceso. Primero se

utiliza una capa para hacer el bus de alimentación y luego se enrutan las

señales en otra capa distinta. El método es denominado de terminal a terminal,

de arriba hacia abajo, es decir que para conectar 2 pads ubicados en e] mismo

lado del padframe la conexión debe pasar por el núcleo. Cuando este módulo se

usa con el Generador de Bloque SPR y el Generador de Padframe, la información

y los resultados se definen automáticamente, pero se puede configurar el Pad

Router con el comando Pad Route del menú Setup.

Posicionainiento y En.ruta/niento

Con el comando Place and Route del menú Special, se activa este módulo

que uti.Ji.za el archivo TPR para realizar el posicionamiento y enrutamiento de

las celdas. Se debe marcar los swítches de los módulos que se deseen ejecutar.

El switch Place Ports se debe utilizar con cuidado porque indica al

enrutador que ubique puertos con sus nombres de nodos sobre el layout mientras

está ejecutándose, pero generalmente aumenta el tiempo de ejecución y la

memoria usada.

Diseño de las celdas para el SPR

Las celdas se pueden clasificar en 2 tipos: celdas del núcleo y celdas

de pads. Cada celda debe tener un puerto denominado ABUT que define el límite

182

Page 190: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

de la celda y que se usa para ubicar cada celda ad3'acentemente a las otras.

Las celdas del núcleo deben ser del mismo alto, y sus corredores de

alimentación deben estar ubicados de tal forma que al coíocar las celdas una

a continuación de otra, los corredores coincidan en sus extremos, además solo

estas señales pueden tener sus puntos de conexión a los lados de la celda, por

lo que los puertos que indiquen sus termínales serán líneas verticales; los

nombres de estos puertos deben _ser los mismos en todas las celdas. Los puertos

de las demás señales deben ser líneas horizontales de manera que indiquen el

ancho total del pin de conexión. Los puertos ubicados en el interior de Jas

celdas son interconectado directamente desde abajo o arriba de la celda en Ja

capa vertical de interconexión. Si el puerto está ubicado en cualquiera de los

bordes superior o inferior, las capas de enrutamiento no cruzan la celda, por

lo que si una señaJ viene por la parte superior y su puerto está ubicado en

la parte inferior, se utiliza una celda denominada RowCrosser para descender

la señal y realizar la conexión. Se pueden colocar hasta 2 puertos por señal.

Con todas estas consideraciones se debe diseñar las celdas de manera que no

se produzcan violaciones a las reglas de diseño. (Figura 4.13)

OUT

VDD.

A B OUT

GM9

VDO

6MDABUT ABUT.

OUT

Figura Í.U Puertos de \.ts celdas

Page 191: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Existen ciertas celdas que deben estar presentes en la biblioteca de

celdas: una celda, de paso entre filas, una celda de conexión a Vdd y una celda

de conexión a Gnd. En la biblioteca de celdas diseñadas para la tecnología ES2

de 1.2um se les dieron los nombres de Ron'Crosserj Tiehigh y Tielow,

respectivamente Figura 4.14.

D

•nato &«

Figura 4.U Roí Crosser, Tic í,oi, Tie Righ

Las celdas de pads deben tener el mismo alto, pero pueden ser de

diferente ancho, si un pad requiere ser ubicado a continuación de otro u otros

por motivo de conect i viciad o de reglas de diseño, es posible utilizar puertos

verticales a lo largo de sus bordes laterales en el lugar que se necesite. E]

puerto de borde del'pac/ debe tener la misma altura. Los pads son ubicados en

eJ padframe en forma espaciada ¡ pero en el caso que posean puertos verticales

se los coloca en forma ad3racente.

Las señales pueden ubicarse solamente en el borde inferior del pací

184

Page 192: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

mediante puertos horizontales y se permite un puerto por señal.

Debe ex.itir un pad de esquina en la biblioteca para que el generador del

padframe construya correctamente el mismo, este pad debe tener puertos

únicamente en su borde derecho y en su borde inferior para las señales que lo

crucen. Además la altura y el ancho del puerto de borde deben ser iguales.

Para ejecutar el módulo del enrutador automático de celdas se debe

configurar la información de interconexión con el comando SPR Biock.

BfR Blooh ScUp.

IV»tli»t Fteiwo

2 -

fouar

Gratntd.

|UUd

: [Ciid

StAndfird CoH librmry flancoFile:Ro« OcMwiir:Tis-To-M»;TlB-To-OW: TULow

Fort!Partí

Crc«to Caro Coll :Crcftte Bow Ccli:Créate Chuntc I Ccli

Ooee

CoreFtou

SfR Blook (fertup, í*f»Layars

Harfcc

c«it

nininun VUUl 9

l .É

5. traeVertical

O LJ-«UC In

f faqe 1 1 [ Cancel 1

1,090B.090

Figura 4.15 Configuración del SPR block

4.3.6 L-Ed.lt/DRC

Una ventaja actual en la fabricación de circuitos integrados es Ja clara

separación entre el proceso de fabricación y el proceso de diseño de las

máscaras. Para definir las limitaciones de una tecnología de fabricación se

requiere de consideraciones geométricas que conllevan restricciones físicas

de construcción de las que depende el correcto funcionamiento de los

elementos. Bsas consideraciones geométricas se denominan reglas de diseño.

1.85

Page 193: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

En la figura 4.15 se presenta la configuración que se utiliza para ES2

del SPR block.

El módulo L-Edit/DRC permite realizar el chequeo de violaciones a las

reglas de diseño que correspondan a una determinada casa fabricante y que se

pueden crear y modificar a elección del diseñador. Los resultados pueden ser

presentados en el layout que se está editando o en un archivo de texto.

El conjunto de reglas de diseño

Si se dispone de un conjunto de reglas ya creado, es posible usarlo para

un diseño mediante el comando Replace Setup (ver menú File). Si no existe un

conjunto de reglas de diseño o si se quiere crear uno con diferentes

restricciones geométricas, se debe usar el comando DRC del menú Setup y seguir

los pasos que se enumeran a continuación:

i) Primeramente se debe organizar la información necesaria de las casas

fabricantes para definir las reglas que se necesitan.

ii) Si se necesita crear capas derivadas, estas deben ser creadas de

acuerdo a las restricciones geométricas que se quieran verificar. Por

ejemplo, el ancho de una compuerta debe tener cierto ancho mínimo, por

lo que es necesario crear la capa que defina Ja intersección entre el

área activa con el polisilicio para usarla en la regla que defina esa

violación.

iil) Con el comando DRC se puede generar, una a una, las diferentes

reglas de diseño y habilitarlas o no para ser chequeadas en el Jayout.

Estas reglas pueden extraerse del archivo de extensión TDB al cual

pertenezcan, mediante la combinación de teclas Alt-W, el archivo de

reglas tiene la. extensión RUb y el mismo nombre del archivo de origen.

Existen 7 diferentes tipos de reglas que pueden especificarse con el

programa L-Eclit, además se puede precisar, mediante switches, las condiciones

de chequeo para algunos de los tipos, considerando intersecciones,

186

Page 194: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

coincidencias y sobrelaparnientos. A continuación de describe cada uno de los

tipos de reglas.

1) Ancho Mínimo (Mínimun Width)

Especifica el ancho mínimo que debe tener un objeto.

finchoMinino

Figura 4 . J 6 Ancho liniío

2) Ancho Exacto (Exact Width)

Indica el ancho exacto que debe tener un objeto.

ftndh»l"*»c I •

Figura í . i ? Ancho ciacto

3) Espaciamiento (Spacing)

Define la distancia m í n i m a de separación entre objetos de la misma capa

o cíe 2 diferentes capas.

187

Page 195: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Figura 4 , 1 8 Espaciaiíento Kíni ío

r***» 1* *tr»

Figura 4 . 1 9 Espac ia i i cn to N í n i í o e n t r e dos lascaras

4) Margen (Surround)

Especifica la distancia de separa.ci.on m í n i m a que debe existir entre los

bordes de dos objetos cuando e] uno esté dentro del otro.

Page 196: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

I l<mfr*

llmpr*11«1 Mil MI

C«TT*Ct« ti *•

ifMTMt

C«rr»ct« ti ««

BfflttifíftflíH X'X-X-X'X-X'X'X'X- C«rr»ct« «1 «•iflWBTt OMWhl I*

ttl«l»Mkt« fwra.

Figón (.20 Kargcn I ÍBÍIO

5) Sobre I apanden to (Overlap)

Esta regla define la mínima distancia que un objeto puede superponerse

sobre otro cuando no está totalmente encerrado por él.

\—~\a Chequeada

Correcto

Votación

Hfflfiffll'IvX'X'X'I-l'X'I'X Correctot&tti

Correcto

Figura 4 . 2 1 Sobrc l apa i i cn to

6) Extensión (Extensión)

Especifica la mínima distancia que un objeto puede extenderse hacia

afuera de otro cuando está encerrado totalmente por él.

.189

Page 197: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ffia ffimfrfíttlEHB

COTT«Ct •

tvrrvct*

C*TT*Ct*

Figura M2 Eitensi tm

7) Inexistencia (Non-Exists)

Esta regla es útil para encontrar objetos en capas o combinaciones

de capas que no deban existir.

Ejecución del módulo DRC

Una vez que se hayan definido las reglas de diseño correspondientes a

la tecnología utilizada en el layout, se puede ejecutar el módulo chequeador

de violaciones del menú Specia.1. Para chequear un layout existen dos posibles

formas de utilización, se pueden ejecutar el módulo sobre el layout completo

o hacerlo por partes, cada una se puede escoger desde los comandos DRC y DRC

Box} respectivamen te.

Como se observa en la figura 4.23, se puede escoger mediante swltches

las opciones de entrega de resultados que pueden ser: con puertos sobre el

layout) con objetos sobre el hiyout o en un archivo cuyo nombre es el mismo

de la celda pero con extensión DRC. Además se puede escoger el tamaño del bin

a usarse en la ejecución.

Para obtener el mejor resillado de ejecución del módulo se puede

considerar estas opciones:

190

Page 198: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

0 Placa

0 Placo

0 Urlto

Dontgn Rulo

Error Fort*

Krror Object»

DRC Krror * ta

Chcch

filo Timbad'-

|CelI8.PRC [

Bln Sin

cs: |10e( |

Canco 1 1 ¡t

Intornnl UnJt»

ÓK )|

Figura 4 , 2 ] Cuadro de diaálogo pm ci ORC

i) Tener en cuenta el tamaño del Jayout, porque el timepo de ejecución

sigue una relación cuadrática con las dimensiones del área sobre la que

se ejecuta.

ii) Ejecutar el DRC sobre una parte del Jayout con el comando DRC Box,

en caso de no ser necesario una verificación sobre todo el diseño.

iii) El verificador de reglas no considera para el proceso a las

máscaras que están ocultas, por lo que se puede reducir el tiempo de

ejecución ocultando máscaras que no incidan en la verificación.

iv) Deshabilitando algunas de las reglas de diseño que no necesiten ser

chequeadas.

4-.3.8 LVS

Cuando se ha terminado el diseño de todas Jas.máscaras del circuito, es

factibJe realizar una verificación del layout mediante la comparación de los

listados de nodos tanto del circuito esquemático como del layout. Para esta

comprobación se utiliza e] programa LVS, que es un comparador de listados de

nodos y ha sido diseñado para comparar dos archivos cualesquiera y decidir si

ambos archivos describen el mismo circuito. En el caso de que no se logre

determinar su correspondencia, LVS da la posibilidad de identificar y corregir

ciertas ambigüedades. Además el programa puede usarse para determinar si un

layout representa el circuito esquemático del cua.l se partió para su diseño

191

Page 199: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

o si dos diferentes esquemáticos implementan el mismo circuito. LVS acepta

formato SPICE compatible con el formato de salida del módulo extractor del L-

Edit.

Uso del programa

•A

Los archivos de listado de nodos deben ser generados antes de ejecutar

el programa. Estos archivos pueden provenir de cualquier fuente, pero

generalmente uno pertenece a la descripción del circuito esquemático y el otro

ai correspondiente archivo de máscaras.

Para generar el listado de] esquemático usando el Tanner Tools, se

* utiliza el programa Nettran para producir un archivo en formato SPICE con la

opción -f SPICE y el archivo de mapeo SCH2SPC.MAC. Para generar el archivo

correspondiente al layout se debe invocar el comando Extract del menú Special

y generar el archivo SPICE que describa el layout.

El formato de estos listados es compatible con el programa LVS, pero no

son las únicas fuentes de las cuales se pueden obtener esos archivos.

•El programa de comparación se ejecuta desde el sistema operativo

DOS con el siguiente formato:

C:\>LVS [opciones] NETLISTJ. NETLIST2

Los resultados de la comparación se presentan en la pantalla, con la

opción -vfpar, Q en un archivo de salida., si se incluye la opción -o

archivo_salida.

£4.3.8 Simulador Lógico fGAIVSIM)

GatGsim es un simulador lógico digital que puede manejar 4 estados

(0,1,Z,X) con capacidad para correr en máquinas con procesadores 80286/80386,

e incluso en modo protegido virtual para diseños extremadamente grandes. El

algoritmo usado por el programa está escrito en lenguaje ensamblador para

elevar la velocidad de procesamiento de la información. .Los circuitos que se

-§>192

Page 200: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

pueden simular incluyen compuertas simples, drivers de 3 estados, flip flops

tipo D, retenedores, señales repetitivas y modelos de memoria ROM y RAM. Cada

uno de estos circuitos pueden incluir retardos temporales específicos. Los

tiempos son calculados como enteros de 32 bits, lo que facilita procesos

grandes de simulación, además hay funciones de verificación de resultados,

formatos de salida flexibles, comparación automática de los resultados con un

archivo de salida previamente realizado y simulación de fallas.

El programa usa una línea de interfaz simple para el usuario, los

comandos del simulador son familiares con sus funciones y se identifican con

sus dos primeras letras. Se puede utilizar comentarios siempre precedidos por

e] símbolo "$", así como líneas de continuación precedidas por el símbolo "+" .

El ingreso de comandos puede hacerse desde un archivo de comandos de extensión

SIM o mediante el ingreeso de los mismos dentro del simulador en línea. El

simulador se puede ejecutar de la siguiente manera:

C:\GATBSIM\GATESIM [/h /e vmpstart vmpsize] [nombre_archivo]

donde: /h especifica virtual mode protected heap

/e especifica uso del modo virtual protegido

vmpstart dirección inicial de la memoria extendida a \Hira;

vmpsize tamaño del bloque de memoria extendida

En general se tiene el siguiente formato para ejecutar un comando:

COmmand [parámetros] [opciones]

4.4 ANÁLISIS COMPARATIVO CON EL SISTEMA TENTOS

Para realizar un análisis comparativo entre las dos herramientas

computacionales se deben fijar primero los parámetros de comparación, para la

misma se presentan los siguientes campos:

-El interfaz usuario - programa

-Los módulos de síntesis que los dos paquetes poseen

-Las innovaciones del un software respecto al otro

193

Page 201: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Para evaluar el primer campo de análisis vale utilizar la experiencia

adquirida en el desarollo del presente trabajo utilizando dichas herramientas.

Se debe manifestarse que el Sistema Tentos es un software que todavía

se encuentra en proceso de desarrollo en Brasil, mientras que el Sistema

Tanner es un software terminado y que se encuentra en el mercado por lo tanto

es un software proba.do, basado en esto, es de esperarse que la interfaz

usuario-programa de Tanners supere ampliamente al de Tentos.

Entre otras facilidades del interfaz del Tanner deben manifestarse:

-La facilidad de edición de objetos ya. que en este software se puede

trabajar con el ratón, Tentos tiene fallas en este aspecto.

-Si bien en ambos sistemas se tiene acceso directo a los programas del

paquete, resulta mucho más simple acceder a los módulos del Tanner

debido precisamente a la manera como presenta los diferentes menús de

opciones.

-Resulta mucho más simple cambiar los parámetros de configuración en

Tanner que eri Tentos, vale recalcar que todas las configuraciones en

Tanner se guarda en un solo archivo de extensión TDB, en Tentos no, se

necesitan siempre diferentes archivos para cada módulo.

Para la síntesis en Tentos, se tiene dos procedimientos, el primero del

1enguaje NILOTRANCA y útil izando para 1 a compi 1acion e 1 programa TRAMO

obteniéndose un archivo de extensión CNI, el otro procedimiento es partiendo

de SPICE utilizando para la compilación TRAMO o TRAGO y obtener un archivo

de extensión SPC.

En este punto ambos procedimientos convergen y a partir de este todos

los pasos subsiguientes son los mismos.Vale anotar que estos procedimientos

se io hace dentro del ambiente TENTOS, en el primer caso se realiza la captura

en forma de Texto, en el c¿iso del SPICE se captura en forma textual o también

se tiene Ja opción de utilizar un editor de esquemas propio de Tentos, y con

el postprocesor Esquema_sPice transformar automáticamente la descripción

194

Page 202: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

esquemática a una descripción textual can el formato de NETLIST de SPICE.

Para Tanner, el procedimiento de síntesis parte de un editor de esquemas

externo por ejemplo: ORCAD, TANGO entre otros, de este programa se obtiene el

archivo NETLIST, obtenido dicho archivo recién se ingresa al ambiente Tanner,

en Tanner se sigue un único procedimiento de síntesis. Si bien Tentos integra

todo el procedimiento de síntesis en el mismo ambiente, dicho procedimiento

es demasiado rígido, Tanner da mucha flexibilidad en los primeros pasos de

síntesis ya que permite al diseñador escoger el ambiente más favorable según

el caso particular, además en Tanner existe muy poca iteracción usuario-

programa, en este aspecto el programa resulta más automático, sin embargo los

requerimientos de Hardware de Tanner son superiores a los de Tentos justamente

para dar todas estas ventajas.

El generador de layovts de Tentos EMA2 alcanza características que hacen

del mismo una buena herramienta de diseño de máscaras sobre todo cuando se

tienen limitantes de hardware, los archivos generados por Tentos de extensión

RS pueden ser convertidos a su equivalente CIF, archivo el cual puede ser

recuperado fácilmente por Tanner.

En cuanto al verificador de reglas de diseño debe manifestarse que

Tanner al ser un ambiente muy amigable , permite al usuario definir las reglas

de diseño a ser verificadas con mucha facilidad, como se anotó anteriormente,

todos estos seteos son guardados en el archivo único de extensión TDB, Para

Tentos la configuración para el verificador de reglas de diseño es un archivo

particular para cada caso, archivo de extensión DRC.

Respecto al Extractor, Tentos presenta su programa Extribo, el cual

permite obtener los transistores que existen en un determinado Layout, sin

embargo este programa tiene deficiencias el momento de extraer los

transistores de circuitos muy simples como son nands o nors de 2, 3 o 'I

entradas, Extribo genera un archivo SPICE incorrecto en estos casos, para

casos más complicados el programa ha funcionado bastante bien. Tanner no tiene

estos problemas, inclusive entrega el archivo SPICE con los nombres de

determinados nodos si los mismos tienen alguno en particular.

195

Page 203: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Tanner además presenta algunos nuevos módulos, tales como LVS,

CrossViewer. Si bien dichos módulos no tienen mayor importancia dentro del

proceso de diseño, resultan herramientas bastante didácticas el momento de

evaluar un determinado diseño.

4.5 EJEMPLO DE DEFINICIÓN DE CELDAS PARA SÍNTESIS AUTOMÁTICA

Para una mejor apreciación del funcionamiento de Tanner Tools , a

continuación se realiza un ejemplo de síntesis en base al diseño de un

multiplexer 2 a 1. Este diseño sí bien es sencillo es lo bastante didáctico

para la comprensión del manejo del paquete de software que hemos descrito en

este capítulo.

Diseño Funcional

Este punto corresponde a la. descripción funcional del circuito, es decir

al funcionamiento lógico que debe tener el diseño. Para el MUX2-1, la

representación booleana sería la siguiente;

SALIDA = ENTRADA O . CONTROL + ENTRADA 1 . CONTROL

Diseño Estructural

Descripción gráfica

Para elaborar el circuito esquemático se utiliza el OrCAD, el circuito

de ejemplo se desarrollo en base a 2 compuertas AMD de 2 entradas, una

compuerta OR de 2 entradas y un inversor. En la figura 4.24 se presenta el

circuito a nivel de esquemas, que se almacenó en e.1 archivo MUX2-1.SCH.

Page 204: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Figura 4.24 Esqneiílico del circuito Kni2~l

Descripción textual

Con uno de los utilitarios del OrCAD, el programa NETL1ST, se obtiene

el archivo del listado de nodos que describe el circuito esquemático. Para

ejecutar el utilitario se lo ejecutó de la siguiente forma:

NETLJ.ST MUX2-1.SCH MUX2-1.WIR /P

A continuación se presenta el archivo de descripción extual MUX2-1.WIR.

(EDIF MUX2MTNUSJ_SCH(status(EDlFVcrsíon 1 1 0)(EDlFLcvel 0)(Written(TimeStamp 1994 5 26 14 30 11)(comtnent "The ABOYE TimcStamp is local tjme")(accounting Program "NBTLIST.EXE")(account ing ProgramVersión " V3 .22 26-Oct-89")(commcnt "(C) Copyright 1985,1986,1987 OrC'AD Systems Corporation)

(external TTL_LIB)(external DEVICE_LIB)(external ANALOG_LIB)(external PROPIA1_LIB)(external PROP.IA2__M B)(externa! SCHHMLBl_LIB)(external SCHEMLB2_.U B)(external SCHF,MLB3_MB)(design MUX2MIHUS1_SCH (qualify líb root))(1 ibrary 1 i b(ccl1 root(status(Wri ttcn(TimeStamp 1994 5 26 14 27 22)

ALL RIOHTS RESERVBD.")

(comment(commen tícommcnt(commcnt(commenI(commcnt(camment

'The ABOYE TimeStamp

ShectMay 26, 199-1")

!ocn.I t imc")

I of'DOCUMBNT N U M B B R i")' R E V I S I Ó N 1 . i » )'TITLE fflJX 2 / 1 » )'l/M BPN")

I » )

(vícw NETLIST root_HHT

197

Page 205: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

( interface(define innut port VDU)(define input port ENTRADA J )(define input porfc GND)(define output port SALIDA)(define input port CONTROL)(define input port ENTRADAO))

(contento(instance (quallfy SCHEMLBl_LIB AND2) AND2_NET Ul){instance (qualify SCIIBMtB 1__.LIB AND2) AND2_NET U2)(instance (quRlify SCHEMLB1_LIB OR2) OR2_NBT U4 )(.jnetnnce (qualify SCHBMI,B2_LJLB INV) INV_NET U3 )(joinedENTRADA 1(qualify Ul P_Q01))

(joined(qualify Ul P_003)(qual ify U4 P_001 ))( joinecl(qualify Ü4 P_G03)SALIDA\o íned

CONTROL(qtiBJ ¡fy Ul P_002)(qualify U3 P_001)

( joined(qualify U3 P_002)(qualífy U2 P_001))

(joíned(qual ify U2 P_004)(quRl ify U3 P_003)(qual ify U4 P_004)(qualify Ul PMU04)VDD)( joined(qualify U2 P_003)(quali fy U4 PM002))

( joinedENTRADAO

ify U2 P_002)

(joined(qual ify U2 P_005)(qualify U4 P_005)(qualify U3 P_004)GHD(qualify Ul P_005)

Simulación lógica del circuito

Para efectuar la simulación del circuito se dispone del programa

GATES IM, que es un simulador lógico que forma parte de TANNER TOOLS. Para

utilizar el simulador se tiene que 3 archivos auxiliares: un archivo de

listado de nodos en un formato entendlble por el simulador, un archivo de

definición de señales y un archivo de comandos para el simulador.

El archivo del listado de nodos, con extensión NET, se obtiene mediante

el traductor de listados NETTRAN usando las librerías de mapeo que se incluyen

198

Page 206: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

en el archivo SIMMAP.MAC, de la siguiente forma:

NETTRAN -M SIMMAP.MAC MUX2-1.WIR MUX2-1.NET

El archivo MUX2-1.NET obtenido es e3 siguiente:

3 UUAND2 ENTRADA! CONTROL U1_P3 YDD CNDUl_P3 .AND ENTRADA I CONTROLí cnd of U]$ U2=AND2 U3_P2 ENTRADAO U2_P3 VDD GNDU2_P3 .AND U3_P2 EHTRADAO.$ end of U2í U4*OR2 Ul_P3 U2_P3 SALIDA VDD GNDSALIDA . QR U1_P3 U2_P3í end of U4-$ U3aJNV CONTROL U3_P2 VDD GNDU3_P2 . INV CONTROLí end of U3

EL archivo de definición de señales, de extensión VEC, se tiene que

crear con un editor de textos, y debe incluir comandos .CLK del simulador, a

continuación se presenta el archivos MUX2-1.VEC.

$ Power connections$OHD .CLK O OVDD .CLK O IENTRADAO .CLK O 1BHTRADA1 .CLK O OCONTROL ,CLK O 1 5000 O 30000 O ,REP O

El último archivo que se necesita para la simulación es un archivo de

texto que contiene una serie de comandos del simulador para no tener que

ingresarlos desde la línea de comandos del programa, es decir que es como un

archivo tipo baten. El archivo utilizado para el ejemplo del multiplexor 2 al

es MUX2-1.SIM, y se presenta a continuación:

NBlfile MUX2-1MOnitor ONP A t t f i l e MUX2-!VJewvcctor ONDP J 2 1.tab ENTRADAO ENTRADAl CONTROL SALIDAHorizontal ONSimúlate O 100000 10QUit

Para utilizar este archivo se debe ejecutar eJ programa de la siguiente

forma:

...>GATESIM MUX2-1

Los resultados de Ja simulación se presentan en forma de variaciones de

los estados lógicos pertencientes a cada una de las señales. En la figura 4.25

se puede observar los resultados de la simulación del multiplexor 2 a 1.

199

Page 207: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

COKTKOi,SéLIM

Figura 4.25 Resultados de la sigilación del KOI2-1.

Como se aprecia en los resultados, existe un pequeño desfase en la

salida respecto a las entradas, esto provoca que las variaciones en los

estados de la señal de salida no correspondan exactamente a las variaciones

de la señal de control.

Una vez realizada con éxito la simulación del circuito, se puede pasar

al diseño f ísico} es decir a la generación de las máscaras que serán

fabricadas.

Diseño a nivel físico

Generación del núcleo

Mediante el programa NETTRAN y con los archivos de mapeo creados para

la biblioteca de celdas de la tecnología ES2; se obtiene el archivo MUX2-

1 .TRPj que es la entrada para el módulo SPR del L-Edit. Para generar ese

archivo se ejecuta el programa de la siguiente forma:

NETTRAN -M ES2TPR.MAC MUX2-1.WIR MUX2--JL.TPR

Una vez que se ha creado el archivo MUX2-1.TPR se puede ejecutar el

programa J_,EDIT, para generar el Jayovt en forma automática. Dentro del

programa y bajo el menú Setup, se encuentran comandos que permiten configurar

el enrutador para que realice la operación con ciertas condiciones. Con el

comando SPR .Bíock se describe la ubicación de las entradas y salidas en el

200

Page 208: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

CAPITULO 5

CONCEPCIÓN DEL CIRCUITO PARA EL CONTROL DE LA CERRADURA

DIGITAL UTILIZANDO CIRCUITOS INTEGRADOS COMERCIALES

5.1 ESPECIFICACIONES Y REQUERIMIENTOS DEL SISTEMA DE CONTROL DE CERRADURA

DIGITAL

El sistema digital que controlará la cerradura eléctrica de una puerta

debe cumplir con las siguientes especificaciones:

Ingresar una clave de cuatrodígitos para controlar la apertura de una

cerradura eléctrica; el ingreso de se hará mediante un teclado de 12

teclas (tipo telefónico), de modo que los dígitos deben tener un orden

secuencia! preestablecido, para ser aceptados. De lo anterior se

concluye que existen 12=20736 posibilidades y la probabilidad de que se

acierte en la clave presionando cuatro teclas al azar es menor a

4.8x10 , con lo cual se garantiza un rango suficientemente seguro.

Una vez que se presiona la primera tecla para ingresar la clave, se

tiene un tiempo máximo para ingresar los otros dígitos, de no hacerlo

en este tiempo, el sistema regresa al estado de espera.

En ca.so de que se digite mal la cJave (luego de ingresarse los cuatro

dígitos) el sistema permitirá que se intente por dos ocasiones más, si

los tres intentos faJ lan se activará una alarma. Si la clave está bien,

se dará una señal que debe comandar la apertura de la cerradura.

Debe ser posible cambiar los dígitos de la clave cada vez que se

considere necesario. Para ello, existirán dos mod'os: un modo activo,

cuando el sistema de cerradura está funcionando (trabajo normal), y el

modo de programación en donde se programa. Ja cJave a través del mismo

teclado, el segundo caso es utilizado el sistema solo cuando se desea

cambiar la clave por una nueva clave.

206

Page 209: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

El diagrama funcional para el sistema propuesto es el de la figura 5.1

CIRCUITOCOflB I NrtC IO —NflL

COMTWOL3

IMTEHTOS1la. cerrad u ira A la.

Fignra 5.) Diagra ia Funcional

5.2 DISEÑO A NIVEL FUNCIONAL Y LÓGICO DEL SISTEMA UTILIZANDO CIRCUITOS

INTEGRADOS

5.2.3. Codificación del teclado

Para el ingreso tanto del código que acciona la cerradura como de los

cambios que se hagan en él, se dispone de un teclado de 12 teclas, cuya

conexión es de tipo matricial. Pora el manejo de las señales que serán

ingresadas por el teclado se tiene al menos dos posibilidades, la una es una

codificación usando elementos discretos y circuitos integrados de baja y

mediaría escala de integración ? esta opción presenta ciertos problemas en el

acoplamiento de Jos elementos, en el excesivo consumo de energía, y en el gran

espacio físico que ocupa la implementaclón, sin contar con el costo que

demandaría el total de elementos; la segunda opción es usar un circuito

integrado diseñado con este fin, dicho circuito integrado es ei 74C922 que

permite una codificación de hasta 16 teclas o el 74C923 que tiene una

capacidad cíe 20 teclas. Puesto que son circuitos CMOS, consumen poca potencia

207

Page 210: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

y es ideal para la presente aplicación.

Por las razones antes descritas se escogió la segunda opción, es decir

con el circuito integrado 74C922 para 16 teclas. En la figura 5.2 se presenta

un diagrama esquemático del circuito, en su versión para 20 teclas, su

funcionamiento es el mismo para 16 teclas, excepto que se suprime una entrada

al codificador y por tanto una salida codificada (la más significativa).

IMkTA

Figura 5.2 Diagrasa del codificador de teclado

El circuito decodlPicador de teclado (figura 5.2) funciona en base al

método de barrido secuencia!, para ello usa un contador binario de 2 bits, un

decodificador binario y un codificador. El circuito oscilador de entrada

(para el cual es necesario un condensador externo C*™), barre las teclas, para

detectar la presencia cíe alguna presionada. Si encuentra una tecla

presionada, ingresa un bajo al codificador, el cual pone en su salida e]

código binario correspondiente (los bits menos significativos). Los bits más

significativos Jos provee el contador.

El circuito posee el. sistema de sai ida tres estados, de modo que se debe

habilitar el pin correspondiente a Output Enable para obtener una salida

208

Page 211: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

válida.

Debido a que el sistema mecánico del teclado presenta rebotes, eJ

codificador incluye un sistema de eliminación de rebote (para lo cual se

necesita un condensador externo CV,,,,), por ello, el dígito correspondiente an.0n

la tecla presionada pasará a la salida sólo cuando se habilite la señal de

validación (Data Available), lo que ocurrirá un tiempo luego de presionada la

tecla.

La señal de dato válido (DAV) correspondiente al circuito decodificador

del teclado, es utilizada para habilitar las salidas del mismo circuito

integrado (cuando ya son válidas), lo cual se hace con un inversor cuya salida

se conecta al. pin OE. Así mismo, esa señal es usada para activar circuitos

temporizadores que permiten la habilitación de otras etapas y la

sincronización de las comparaciones.

Como se mencionó, el circuito integrado es de tecnología CMOS, por lo

cual, se necesita un buffer que permita el manejo de la corriente que se

requiere. Para esta función se eligió el circuito integrado 74LS244, que

posee 8 buffers y manejadores de línea con salidas tres estados, a través de

este chip se ingresan ]os datos de las teclas presionadas hacía las siguientes

etapas del circuito.

5-2.2 Circuito de almacenamiento y programación de clave

Para la parte de almacenamiento y programación de la clave se optó por

comparar dígito a dígito y usar los resultados en un circuito secuencia! que

los transforme en una salida paralela de cuatro bits.

Sin embargo, el código a usarse sí debe ser almacenado en algún circuito

para luego ser comparado. Se eligió usar para esta función una memoria RAM (de

lectura-escritura) y aprovechar la capacidad, de esta memoria para ser

utilizada en los dos modos (lectura-escritura), de forma que en el uno se

tiene el modo activo y en el otro la programación.

En la opción de lectura, el circuito trabaja en el modo activo, es decir

209

Page 212: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

permite el ingreso de la clave para activar la cerradura o la alarma, dicha

opción se elige con un interruptor externo conectado al pin de la memoria que

permite eligir lectura y escritura.

En la opción de escritura, el circuito trabaja en el modo de

programación, para este modo se usa el mismo teclado para ingresar la clave

a ser aJmaceriada.

Como se ve, el elemento básico de este bloque es la memoria RAM, ésta

debe ser estática puesto que Ja velocidad de acceso no es un limitante y

además una memoria dinámica requiere cíe un circuito de refresco. Sin embargo,

es difícil encontrar memorias de baja capacidad que cumplan con estas

características, por lo cual se usará una memoria 6116, que está organizada

en 2Kx8 bits; de ésta se usarán las cuatro localidades bajas.

La memoria posee 11 líneas de dirección, 8 1íneas de datos, una

habilitación del chip (CE), una habilitación de salidas (OE) y la habilitación

para lectura o escritura (WE). Puesto que las operaciones cíe escritura y OE

(output enable), usada en lectura, son inversas, se coloca un inversor entre

ios pines WE y OE.

El circuito implementado se muestra en el anexo G, y se describe a

continuación.

Con eJ interruptor (SW) en 1 lógico (VCC), la memoria está en la opción

de lectura, es decir el circuito de la cerradura está funcionando. Se

deshabilita el buffer de la memoria, dejando las salidas de este circuito

(74LS244) en alta ímpedancia y aislando las salidas de datos con el código

procedente del teclado.

El contador módulo 16 con sus bits menos significativos (7493)

direcclona la memoria RAM, de modo que se pone en el bus de datos el dígito

a compararse. Cada vez que se presiona una tecla, se produce una señal de

habilitación DA en el codificador de teclado, Ja misma que se usa como señal

de reloj para el contador. Por cada transición se lee de la memoria el código

de la tecla que debió ser presionada y en ese instante, los 4 bits entran en

2.10

Page 213: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

el comparador (7485) para compararse con los 4 bits ingresados por la tecla

que se presionó.

La salida del comparador indicará si son iguales (1.) o diferentes (0.)

-y este resultado pasará al registro de desplazamiento serie-paralelo (74194),

el cual, al cabo cíe cuatro teclas presionadas, tendrá en sus salidas la serie

de cuatro bits listos para alimentar aun circuito combinacional que indicará

la acción a tomarse (activar la cerradura o la alarma).

Para la salida a la alarma, la señal de acción debe pasar, a un circuito

de control, circuito que primero chequeará si se han realizado los tres

intentos, para dar el paso definitivo del bit de habilitación de la alarma.

Cuando el interruptor (SW) está en O lógico (GNU), la memoria está en

la opción de escritura, es decir en el modo de programación. El O, habilita

el buffer de la memoria.

Al presionar una tecla, los cuatro bits entregados por el decodificador

de teclado serán grabados en la memoria, cuyas direcciones son apuntadas por

el contador. Presionando tres teclas, se termina la programación de la

memoria.

Cabe anotar que el buffer evita, en el modo activo, que se

cortocircuiten los pines de datos ya que del buffer correspondiente al

codificador de teclado sale una información y de la memoria también sale

información.

Es de notar, que el circuito de almacenamiento posee una memoria volátil

en la cual, la información se pierde al perderse la energía, por ello, el

circuito requiere estar siempre alimentado. Esto implica que se deberá

contemplar una fuente de energía de respaldo, considerando además que La

cerradura debe poder activarse aún en ausencia de energía eléctrica de la red

píibj i.ca.

211

Page 214: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

5.2.3 Diseño del conlroi

El control básicamente se refiere a un dispositivo que comande la

habilitación de algunos circuitos integrados cuando se inicia el proceso

presionando la primera tecla y que los mantenga habilitados un tiempo

suficiente hasta que pueda presionar las cuatro teclas de la clave de los tres

intentos. Terminado este tiempo si la clave es correcta se abrirá la cerradura

y si no lo es se activará la alarma. Si no se ingresaron los cuatro números

durante este tiempo no se desencadenará ninguna acción. El circuito para este

control puede ser un temporizador monoestable (SN74121), este tempprizador

debe ser realizado en este diseño con elementos digitales,por lo que con un

contador clecádico se puede simular la función del 74121.

En el circuito de la cerradura digital, para temporizar se utiliza el

circuito de la figura 5.3,

Pi&nra 5.3 Teaporuador mnocstable

En el circuito de la figura 5.3 se observa e] circuito de temporización,

la señal DAV produce un flanco positivo como consecuencia de que se ha

digitado la primera tecla y dispara al flip fJop, produciendo el paso del 1L

de la entrada del circuito CÍA a la salida, este 1L produce que la señal de

212

Page 215: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

reloj que esta en la entrada del C2A (SN 7408) pase a la salida, e inicie el.

conteo el circuito C3 (SN 7490), el circuito C5A (SN 7421) detecta que se ha

producido en la salida del contador decádico la combinación 1001 (equivalente

binario de 9 decimal que incluido el O son 10 estados los que cuenta el

circuito C3), produce una señal de "alto" 1L que resetea ai contador, está

misma señal invertida por C4A (SN 7404) resetea el flip flop, poniendo su

sal ida a O lógico.

La salida Q del circuito, permanece en alto mientras dure la cuenta del

circuito C3, en otras palabras el tamaño del pulso dependerá de la frecuencia

del oscilador que se alimenta a la entrada del reloj del contador decádico C3.

Vale resaltar que el circuito atiende al primer disparo, es decir toda

señal en CLK del circuito C.1A posterior será ignorada mientras dure el conteo

del circuito C3.

Se puede controlar la duración del pulso de habilitación, variando los

valores de los elementos que determinan la frecuencia del oscilador que genera

la señal, de reloj que se alimenta al contador decádico.

Se ha estimado que el tiempo requerido para ingresar las cuatro teclas

es de alrededor de 10 segundos

Este temporizador habilitará por aproximadamente 30 segundos la memoria

y el contador que direccionará la memoria.

5-2.4 Diseño del circuito combínacional

Todos los circuitos integrados a los que se hará referncia se presentan

en el ANEXO G.

Para que el controJ desencadene una acción sea una alarma o abrir la

puerta, deben cumplirse tres condiciones que se alimentan a una compuerta AND

(CI52B).

213

Page 216: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

a) Las salidas del contador deben estar en el cuarto estado indicando que

se han presionado las cuatro teclas (dos bits correspondientes a 1, L ),

b) El conmutador que controla el modo de lectura/escritura debe estar en

1 lógico indicando que el control está activado.

c) La habilitación del teclado debe estar desactivada indicando que ya no

la tecla ya no está presionada.

Cumplidas estas condiciones se debe chequear la salida del registro de

desplazamiento SN74194 (CI51). Se alimentan los cuatro bits correspondientes

a la comparación de las cuatro teclas a una compuerta AND (CI52A). Si los

cuatro bits son 1 lógico, la salida de esta compuerta será 1 lógico y si

además se cumplieron las condiciones de a), b) ye), se deberá abrir la

puerta, lo que se refleja poniendo en alto la salida de una compuerta AND

(CI54A).

La salida de la AND CI52B, se alimenta al circuito CI54A a través de dos

inversores (CI23B y CI23C), esto se lo hace con la finalidad de proveer un

retardo a esta señal hasta que el registro de desplazamiento entregue Ja

respuesta completa de la comparación.

En el circuito de la alarma, sí por lo menos una de las teclas fue

incorrecta, la salida de la AND CI52A será O lógico cuando los cuatro dígitos

sean ingresados. La salida de la otra AND CI52B será 1 Iógico5 esta salida

negada se suma con la salida de CI52A para obtener un 1 lógico en la ÑOR

CI51A. Ahora bien, para que la alarma se active, la puerta no deberá estar

abierta, lo cual se hace cumplir mediante una AND (CI54B) que se pondrá en 1

lógico, si y sólo si la alarma se ha activado y la puerta está cerrada.

En cualquiera de los casos, sea en la apertura de Ja puerta o activación

de la alarma, se produce un flanco positivo de reJoj que obliga a registrar

este hecho en los flip-flop correspondientes (CT13A y C1.13I3).

214

Page 217: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

5.2.5 Control de la puerta

Para registrar el hecho de que se debe abrir la puerta, se alimenta el

flanco del reJoj producido, a un flip-flop (CI53B) el cual, pone su salida Q

en 1 lógico y la Q en O lógico; esta señal será la que controle Ja cerradura

eléctrica.

Para controlar que la puerta se cierre y permitir su posterior apertura

se dispone del pulsante RESET1 que controla el CLEAR del flip-flop CI53B.

5-2.6 Circuito de alarma

De igual forma que para el control de la puerta pasa una señal de reloj

positiva al flip-flop (CI53A) cuando debe activarse la alarma.

El circuito de la alarma está compuesto de dos etapas: un oscilador

usando el tlmer LM555 y un amplificador de audio LM386.

La frecuencia del oscilador, según el anexo G será:

1

0.693J?5C.+5 5

liz

Está ultima ecuación entrega el fabricante del temporizador 555.

El ínterfaz entre el control de alai™ y el oscilador es un transistor

NPN el cual está saturado cuando la alarma está desconectada. Cuando la

alarma se activa, el transistor se corta permitiendo que el condensador Cr se

215

Page 218: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

cargue y pueda iniciar la oscilación.

El circuito integrado LM386 es un amplificador de audio que provee una

potencia de salida máxima de 250 mW al parlante de 8Q de la misma potencia.

Tiene un ancho de banda de 300 KHz de modo que permite el paso de los

armónicos de la onda cuadrada de 1320 Hz dado por el circuito oscilador.

Para desconectar la alarma se debe actuar sobre el CLEAR del flip-flop

CI53A. Como ésta puede ser desconectada mediante un conmutador (SW2) por

personal autorizado o ingresando la clave correcta (al abrirse la puerta), se

ingresan estas dos condiciones en una compuerta AND (CI62C) que controla al

CLEAR del. biestable.

5,2.7 Indicadores luminosos

Para indicar alguna de las condicioneso en el que se encuentra el

sistema, se dispone de leds manejados por transistores de la siguiente manera

a) Con transistor PNP.- Como se ve en la figura 5.4.a ,el led se

enciende cuando en la base de transistor se pone un O lógico que satura

ai transistor, con i lógico en la base el led está apagado. Para este

manejo se usa un transistor PNP 2N3906 apropiado para trabajar en

conmutación con una resistencia R.

La caída de voltaje en un led es de aproximadamente 1.6 V y alcanza su

máxima brillantez entre 10 y 20 mA . Por lo tanto para una corriente de 15mA

se tendrá :

R =

15x1 0"3

Vcc = 5V

R = 207Ü

216

Page 219: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

vcc

KPNP

NPN

_

Figura 5.4 Manejo de leds

Por lo tanto se usa una resistencia de 220 Q. Cuando el led se activa

con 1 lógico (figura 2.b), se debe usar un transistor NPN y una resistencia

del mismo valor que en el caso anterior (220 fl) . Un transistor NPN apropiado

para trabajar en conmutación es el 2N2222.

Respecto a la función de cada uno de los cuatro diodos led se tiene: el

led. D4 se enciende para señalar el tiempo en que se puede presionar las teclas

y que el sis tema es tá habi 1 i tado, e 1 led D3 se enciende cada vez que se

presiona una tecla y es reconocida por el codificador, se usa un transistor

PNP para manejar ese diodo porque se toma la señal de habilitación negada a

través de un inversor en colector abierto (CI23A) que tiene más capacidad de

manejo de corriente que los demás circuitos integrados; el led D2 se enciende

cuando se ha activado la apertura de la puerta y el DI cuando se ha activado

Ja alarma.

5.3 DISEÑO DEL CIRCUITO DE ALIMENTACIÓN Y DEL RESPALDO DE ENERGÍA

Una vez terminado el diseño y construcción del circuito, se evaluó el

consumo de corriente del mismo u ti 1 izando una fuente disponible

comercial mente. Además se consideró que la fuente de polarización debía poseer

217

Page 220: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

.un sistema de respaldo de energía, en el caso de que la fuente principal de

alimentación fallara y considerando que muchas de las empresas y fábricas

poseen generadores de energía eléctrica, únicamente se diseñó un sistema de

respaldo de energía para la memoria del circuito, de manera que los dígitos

pertenecientes a la clave de la cerradura permanezcan almacenados mientras se

energiza nuevamente la red principal de alimentación.

5-3.1 Diseño de la fuente

Se estimó que la fuente de alimentación, de la mayor parte del circuito,

debe proveer un mínimo de 550 mA a 5V, por lo tanto la potencia que consume

el sistema es de 2.75 W.

Para explicar los pasos seguidos en el diseño se hará referencia a la

figura 5.5.

T

Figura 5.5 Fnente p r i n c i p a l de ali ientacióa

Para rectificar la ^eña»! se usó el puente ECG5304 que tiene una

capacidad máxima de manejo de 1.5 A^, corriente pico de 50A y una caída de

vol ta je de IV.

218

Page 221: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Para dimensionar el capacitor del filtro a la salida del puente se debe

utilizar la ecuación 5.4.

C3 = [EC. 5.4]2 * R

Se consideró la máxima carga a la salida del regulador para determinar

la resistencia de carga R,,tu

R, = 5V/1.5A ( la corriente máxima del regulador es 1.5A)

R( = 3.33 £2

Asumiendo un rizado del 20% (T = 0.2) y considerando que la frecuencia

es de 120 Hz para un rectificador de onda compelta, el valor obtenido para el

capacitor es de 7224 u.F. Se utilizó por tanto un capa.citor de 6800 p.F, de

valor más próximo, con Lo que el rizado se eleva a 18%.

Debido a que se disponía del regulador NTE956 cíe voltaje ajustable entre

1. 2V y 37V y de una sal i cía de corriente de 1.5A, se utilizó este elemento para

proveer una salida de 5V. Para determinar los valores del circuito ajustable

se utilizó la ecuación 5.3 dada por el fabricante.

V = 1.25 * ( 1 + — ) [Ec. 5.3]Rl

Se eligió un valor de 270 Q para Rl y se determinó que la resistencia

R2 debía ser de un valor de 810 Q, se usó por tanto un potenciómetro de 2 KQ

para tener un buen rango de calibración. EL fabricante aconseja además usar

un condensador C, = l[iF a la salida del regulador y un C, = O.JjiF a la entrada¿ 1

El fabricante del regulador NTE956 índica que el voltaje mínimo de

entrada debe ser mayor en 3 V que la salida, por tanto como la salida es de

5V, la entrada no debe ser menor que 8V.

219

Page 222: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

.El voltaje VDC a La salida del filtro es:

VDCl{n = Vmín / (1 - T)

Vnrmín = 9.75 VU\l

Y el voltaje pico a la entrada:

Vpico = Vnnmín Vpico= 11.51 Vu U

De estos cálculos se determinó que el transformador mínimo que se

debería utilizar era de 120V/8.8V. El transformador usado es de 120V/9V de

1A de capacidad, por lo que se cumplen con todos los condicionantes

mencionados.' • i

5.3.2 Diseño de la fuente de respaldo

Con la finalidad cíe mantener almacenada la clave en memoria aún cuando

se pierda energía, se usa una fuente de respaldo cuyo cicuito se indica en la

figura 5.6. Para implementarlo se disponía de un regulador LM7805, cuya

capacidad es de 1 A. Debido a que el consumo de la memoria es bajo, alrededor

de 30 mA fuera de operación y 80 mA en operación según el fabricante, se

utilizó dicho elementa.

La fuente de respaldo será una batería de 9V que entrará a funcionar

cuando la alimentación principal de la red falle, de la siguiente manera (ver

figura 5.6):

En operación normal el voltaje DC del filtro es de 10V aproximadamente

y por lo tanto el diodo D3 está directamente polarizado y D4 lo está

inversamente, con lo cual al regulador de la memoria alimentado por la

fuente principal.

Cuando la fuente principal falla, el diodo D4 es polarizado directamente

y el D3 no está polarizado, por lo tanto la batería de 9V es la que

alimenta al regulador. Cuando la fuente principal vuelva a funcionar,

220

Page 223: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

los diodos conmutan a su -estado inicial y el regulador del circuito es

alimentado por esta fuente.

Los diodos a usarse deben ser de rápida conmutación para que la

información de la memoria no se pierda. Se emplean diodos 1N4148 que proveen

una conmutación en 4ns, soportan 200mA,,« y 450 niA pico, 100 V de voltaje pico

inverso y la caída es de IV aproximadamente. Puesto que el regulador puede

entregar máximo 1 A, el nivel de corriente en los diodos es adecuado, además

la caída de voltaje en polarización directa es compensada jxirque la entrada

mínima es de 9 V y el regulador requiere 7V como mínimo para entregar a su

sal ida 5 V.

U201 LM7805

11HHB

2

J

01f 1H1HO <•

- B T 1- 9V

VI R YOHO

0.33UF

1A

f Ñ C5

Figor» 5.6 Fuente de respaldo

Al igual que en la fuente principal, se -usan los condensadores

recomendados por el fabricante para el circuito del regulador, es decir de

0.33p.F, para la entrada y IfiF para la salida.

5.4 PRUEBAS EXPERIMENTALES DEL CIRCUITO

5.4.1 Procedimiento de uso

Utilizando el anexo G, luego cíe encender la fuente, se debe conectar el

interruptor en la posición de grabación de la clave. A continuación se deben

221

Page 224: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

presionar 4 teclas, que corresponderán a la clave, cuidando de hacer esto

antes de que se apague el led D4 y verificando que se encienda el led D3 cada

vez que se presiona una tecla, se tiene un tiempo de aproximadamente 30

segundos para esta operación.

Una vez que se apague el led D4 y se cambia el interruptor a la posición

de operación normal. Para abrir la puerta se deberá presionar los 4 dígitos

grabados, se tiene 3 oportunidades para hacerlo correctamente mientras esté

encendido el led D4. Si en cualquiera de estas oportunidades se ingresa la

clave correcta, se activará la apertura de la puerta, lo que se indica al

encenderse el led D2. Al cerrar la puerta, el pulsante SW3 apaga el led D2 y

establece las condiciones iniciales. Si se falla en los tres intentos, se

activa la alarma y para desconectarla es necesario accionar el pulsante SW2.

5.4.2 Resultados de la pruebas

En lo que se refiere a la fuente de alimentación, la conmutación de la

fuente principal a la de respaldo es lo suficientemente rápida y permitir

proteger los datos presentes en la memoria del circuito. Además se obervó que

el consumo máximo de la memoria no supera los 30 mA, mientras está conectada

a la fuente de respaldo. En las pruebas de los circuitos temporización se

encontró que el tiempo de habilitación, que se había previsto de 30 segundos,

varía en el rango de 22.5 s a 25 s, esto sucede porque el ingreso de los

dígitos a través del teclado es totalmente al azar y el primer pulso que

dispara el temporizador de la figura 5.3 puede tomar en el cual estado a la

señal de reloj CLK que se alimenta a dicho temporizador. El reloj de la

temporización tiene un período de 2.5s.

La frecuencia de la señal utilizada en el circuito de la alarma es de

1170Hz, que es muy cercana a la calculada 1247Hz.

222

Page 225: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

CAPITULO 6

DISEÑÓLA NIVEL FÍSICO (LAYOUT) DEL CIRCUITO INTEGRADO

6.1 0)NCEPCION DEL CIRCUITO INTEGRADO EN FUNCIÓN DEL DISEÑO REALIZADO CON

ELEMENTOS Í0ISCRETOS

En el cántalo 5 se presentó en detalle el diseño a nivel lógico del

sistema digital de control de la cerradura eléctrica utilizando circuitos

integrados comerciales.

Dicho diseño se subdivide en tres bloques principales:

a.- Circuito de entrada de datos.

b.- Procesador de datos.

c.- Circuitos de alarma y cerradura.

El primer bloque está conformado por el teclado y decodificador de

teclado, el segundo bloque conformado por todos los circuitos digitales*que

se encargan de procesar la información ingresada y finalmente el tercero

formado por los circuitos de cerradura y alarma.

El presente trabajo se centra en la realización de un circuito integrado

digital, que será el reemplazo del segundo bloque del diseño es decir un

circuito que procese la información digital ingresado desde el teclado y que

tome las acciones necesarias para determinar el estado de la cerradura y de

la alarma. Vale anotar en este punto que dicho circuito no incluye el

decodificador de teclado, ya que dicho decodificador de teclado utiliza

internamente un circuito del tipo Tigger el cual no puede ser diseñado

utilizando técnicas digitales de diseño CMOS.

El circuito integrado ha diseñarse tendrá las siguientes entradas y

salidas.

Entradas:

- 4 de datos (DATAO, DATA1, DATA2, DATA3)

224

Page 226: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

- Señal de reloj para el temporizador (CLOCK)

- Reset para alarma (RESETA)

- Reset para puerta (RESETP)

- Reset para reinialización de la temporización (RESETG)

- Señal de validación de datos de entrada (DAV)

- Modo de funcionamiento (LECESC)

Salidas:

- Habilitación puerta (PUERTA)

- Habilitación alarma (ALARMA)

- Señal del temporizador (TIMER)

Polarización:

- Fuente (VDD)

- Tierra (GND)

/Utilizando el programa LIBEDIT de ORCAD se ha procedido a la edición

gráfica del chip ha diseñarse, siendo el presentado en la figura 6.1.

7

4 ASIC

VDAVDATA0

DATAI uDATA2 RESETGDATA3

CLOCK <LECESC TIMER

ALARMAPESETA^ PUERTARESETP

D

11

5

12

LOCK4D

Pigira 6.1 Diagrua del ASIC ha diseñarse

225

Page 227: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Analizando un poco más en detalle el circuito ha diseñarse en base al

circuito del ANEXO G (figura en la que se indica en líneas de puntos la parte

a ser integrada) el mismo incluye los siguientes componentes.

- Memoria de 4 x 4

- Registro de desplazamiento de 4 bits

- Comparador de 2 dígitos de 4 bits cada uno

- Flip-flops tipo D

- Contadores hexadecimales

- Compuertas elementales tales como and 3nor e inversores.

Como el diseño de este circuito integrado se basa en la metodología de

celdas se diseñaron previamente una serie de celdas. Vale recordar que la

herramienta de software utilizado en el presente diseño es el Taaner Tools en

el cual, si bien el diseño de circuitos integrados utiliza la metodología de

celdas estándar, no presenta una librería para la casa fabricante ES2 con

tecnología CMOS125 por lo tanto parte del trabajo previo al diseño del ASIC

fue la elaboración de una pequeña biblioteca para la posterior elaboración del

circuito integrado.

Parte de estas celdas fueron diseñadas con la herramienta computacional

Tentos (celdas capitulo 3) por lo que se procede ha recuperar dichas celdas

con Tanner, quedando pendiente<el diseño de otras celdas.

En el paquete Tentos se procede a grabar las celdas diseñadas en formato

C1F que es el formato que lee Tanners-Tools, una vez recuperadas las celdas

en Tanrier se procede a grabarlo como celda, utilizando los comandos del menú

CELL.

Para facilidad del diseño, este se ha procedido ha realizar por partes.

226

Page 228: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

6.2 DISEÑO DEL CIRCUITO INTEGRADO UTILIZANDO TANNER-TOOLS

6.2.1 Diseño de los circuitos parciales ha utilizarse en el ASIC

Diseño de la memoria

La memoria ha diseñarse debe ser del tipo RAM estática de 4 localidades

de 4 bits cada uno (4x4), para este diseño se utilizará la siguiente

disposición Figura 6.2

En la figura-6.2 se observan 3 bloques bien definidos:

- El decodificador 2x4 (Con sistema de habilitación incluida).

- Las celdas de memoria

- Circuitos de salida de datos formado por las cuatro NAND4

El diseño de la memoria se reduce por lo tanto al diseño de los

circuitos elementales que lo conforman.

Diseño del decodificador 2x4

El circuito decodificador tiene la función de habilitar las diferentes

localidades de memoria, la señales de entrada del decodificador AO y Al son

las líneas que indica la dirección de la localidad accesada, la combinación

binaria AOAl habilitará una de las salidas (10 a 13), y esta señal será la que

habilitará el acceso las celdas de la localidad direccionada.

El diseño del decodif icador que se representa en la figura 6.2 como un

bloque, se realiza en función del siguiente diagrama lógico (Figura 6.3).

Utilizando el editor de Layout de TANNER, L-Edit, se diseño el

decodificador como una celda estándar y luego se procedió a almacenarlo como

celda de la biblioteca ES2.

227

Page 229: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

m n

Page 230: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

rao

INV

Figura 6.3 Decodificador

Celda de Memoria

La celda de memoria se diseña utilizando el circuito lógico presentado

en la figura 6.4

a.- Si la entrada de selección está en O lógico, por intermedio del inversor

se produce un 1 lógico el mismo que al presentarse en la entrada de las

dos compuertas NOR3 pone a cero las salidas de dichas compuertas, sin

importar el valor de los otros bits de entrada. La combinación 00 a la

entrada del flip-flop RS asincrónico (formado por las dos NOR2) produce

que el dato almacenado en la salida (Q) del NOR2 (superior) no se

altere, vale recordar la tabla de verdad del flip-flop RS asincrónico

en base a compuertas NOR2.

229

Page 231: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

FLIP-FLOP RS ASIWCRONCCO

INV

Figara 6.1 Celda de Kcioria

s10

00

1

R

00

10

1

Q

11

(después00

(después0

Q1

00

de S=l R=0)11

de S=0 R=l)0

Tibia 6.1

Analizando la tabla de verdad, se puede apreciar que, si las entradas

S Y R se ponen a O lógico, Q y Q' mantienen los valores anteriores. Si

las dos entradas S y R son diferentes, en Q se presenta S y en Q* se

presenta R, si las entradas son 1 lógico, Q y Q' se ponen en O lógico.

Es decir que, en el caso antes analizado, con la selección en O lógico

se guarda el bit almacenado en la celda.

b.- Si la entrada de selección está en 1 lógico, y por ende a la entrada

230

Page 232: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

de las NOR3 se presentan O lógicos, procede realizar el análisis en

función del valor de la señal LECESC (lectura-escritura).

- Si la señal de lectura/escritura está en O lógico, se está en la

condición de escritura, para este caso los datos de entrada y su señal

* invertida son negados por las dos compuerats NOR2 sea cual sea el valor

de din, con din y din negado a la entrada de flip-flop RS se almacena

en Q el valor de din y en Q' el valor de din negado.

- Si la señal de lectura/escritura está en 1 lógico, se tiene la

condición de lectura, para este caso la señal LECESC produce el par de

O lógicos en la entrada del flip-flop RS por ende no se altera el bit

•*' almacenado en Q pero permite pasar dicho bit a la salida de la celda con

el valor invertido.

Diseño del registro de desplazamiento

Para el diseño del registro de desplazamiento se procede a conectar en

serie 4 flip-flops tipo D alimentados por la misma señal de reloj tal como se

presenta en la figura 6.5

Sin embargo resulta más apropiado realizar el diseño del flip-flop tipo

D como una celda estándar, y el registro de desplazamiento como un diseño que

utiliza esas celdas .

Diseño de flip-flop tipo D

Para el efecto se utilizó la disposición lógica presentada en la figura

6.6

En el circuito se observa la utilización de las compuertas de

transmisión, las mismas que funcionan como interruptores, los números

8 y 9 indica si es la señal CLK o su negada la que se conecta en el punto en

que aparecen dichos números.

231

Page 233: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Fignn 6.5 Registro de desplizsiienlo

T = COT-f UERTPt DE TRfií SMISION

INVl INV3

INV

Fignn 6.6 Plip-Flop lipo O

EL fl ip-flop que se presenta en la figura 6.6 cumple con los siguientes

232

Page 234: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

requisistos;

-Entrada de clear

-Entrada de reloj que se-dispara por flanco positivo

Estas características facilitan el diseño, ya que estas son las

características de los elementos utilizados en el diseño de la primera

tarjeta.

Diseño del comparador de dos números de 4 bits cada uno

Se diseño el comparador de 2 dígitos de 4 bits cada uno también como

celda de biblioteca, está celda tiene una única salida que indica con un 1

lógico si los dígitos comparados son iguales y con u O lógico si son

diferentes, para el diseño del comparador se utilizó la disposición lógica

presentada en la figura 6.7

Ifll ,3*

Figura 6,7 Coiparador de 2 dígitos de 4 bits

233

Page 235: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

núcleo, en la figura 4.26 se presenta los datos utilizados en este ejemplo.

•123

U*.

C *

KPR Dloctt Setnp

M« flftor]

STH Block IA> 8tvn*!i

DITÍtflDne

DITWibfU¿QH1ROL&AL1DA

Hall On Vhlch Sia«:

*0a 2 J f C«M»1

r.g« ir *«i»t* }

81*5

* 1. H R T

• o o om o o oo • o oo o o o

* LeTt o ülffftt

1 í OK

t

,I

Figura 1.26 Configuración del lódalo SPR parael ejemplo.Obicación de los

Después .de configurar el circuito se puede ejecutar el módulo SPR bajo

el menú. Special. En el cuadro de diálogo que aparece al elegir el comando

se ingresaron los parámetros mostrados en la figura 4.27.

Plac« ai>d Routo

«nad Matllxt Filo:

[b:SMixZ-l. tpH |« StarMtard Cell Block PUcn «na Route

Itoratlona por cali: |56 ] Rows: ^ |

Jndoi»t Ratto: l.É

Twip Control : 1.1

W8 3PR firid: |1 |188

D Bnclí ñrmotata O Plnct» Port»

D P*dfr»i*o GenerAtlon

a P»a Rauta

( Canco! ] f °* ] IC «un Jj

Fignra 4 .27 Conf igurac ión para la ejecución del. »6dn!oSPR

El enrutador crea una celda de nombre CORE en Ja cual se encuentran

solamente celdas referenciaies, en la figura 4.28 se pueden apreciar las

celdas referenciaJes presentes en el resultado junto con los puertos para las

entradas y salidas. Para editar o grabar el archivo GIF de esta celda

es necesario "aplanarla", para Jo cual se utJJiza ei comando Flatten deJ

menú Cell. Ei resultado final del enrutamiento se presenta en la figura 4.29.

201

Page 236: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Figura 4 .28 Ubicación de las f i l a s y canales en el nícleo

Vdd OR2

FlowCrosser INV AND2Gnd

Figura 4 .29 Layant del núc l eo

202

Page 237: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Verificación

Para verificar si el layout generado contiene errores, se utiliza el

módulo chequeador de reglas de diseño DRC. Como es un diseño de

pequeñas dimensiones se pueden usar una verificación total del layout. En el

caso de que se presenten errores en el diseño, los mismos se indican en el

gráfico a modo de puertos. Con los que es más fácil su ubicación y corrección.

Después que este paso haya sido cumplido sin ningún problema se procede a la

extracción de elementos del circuito con el módulo Extract del L-Edit, el,

resultado de esta operación es el siguiente archivo en formato SPICE.

* Circu.it Extrnctcd by Tanner ReEcarch'e L-Edit V5.04 ;* TDB F i l e b:\mux2-.l, Cel ! Core, Extract Definition F i l e es2n.l2.ext ;

M I 153 23 189 J89 PMOS T,= 1.5U W=9U' Mi. Drain GrUc Source R u t k (-114 178 -11.0 202} A = 13.5, ff = 9M2 189 3 153 189 PMOS L=1.5U W=9U* M2 Drnin Gate Source fiulfc (-124 178 -130 202) A = 13.5, W » 9M3 189 183 208 189 PMOS L=1..5U W=.12U* M3 Drnin Cate Source Bulk (.184 170 188 202) A « 1.8, ff = 12* Hode 208 = Core\Row 2\or2\OUT OUT* Horte 208 = Corc\Row 2\or2\OUT OUT* Hode 208 a Corc\SALTHA. SALIDA* Node 139 = Core\Vdd Vdd* Node 189 = Core\Row 1\RowCroRser\VnD VDD* Node 189 = Core\Row I\RowCrORser\VDD VDD* Hode 189 •= Cocc\Row l\i.nv\vdd vdd* Hode 189 = Core\Vdd Vdd* Hade 189 = Core\Row l\and2\VDD VDD* Hode 189 = Gore\Row l\inv\vdd vdd» Node 189 » Core\Vdd Vdd» Hode 189 = Core\Rov 2\and2\VDD VDD* Hode 189 = Coce\Vdd Vdd» Node 189 = Corc\Row 2\or2\VDD VDD* Hode 189 = Gore\Row 2\and2\VDD VDD* Hode 161 = Gore\Roff 2\r»nd2\OUT OUT* Hode 161 = Corc\Row 2\o.r2\ A* Hode 50 = Corc\Row l\and2\OUT OUT* Node 50 = Corc\Row l\anc!2\OUT OUT* Node 50 e Core\Row 2\oc2\ 8» Node 34 * Core\Row l\and2\I3 B* Hode 34 = Gore\fíNTRADAQ F.NTRADAO* Node 34 = Corc\Row I\and2\ B* Node 23 * Core\Row 1\inv\ A* Nocla 23 = Corc\CONTROL CONTROL» Node 23 s Gore\Row l\inv\ A* Node 23 = Core\Row 2\and2\ B» Hode 22 = Corc\Row l\inv\OUT OUT* Node 22 = Core\Row 1\nnd2\ A* Hode 8 = Core\Row 1\RowCrooRcr\CROSS CROSS* Hode 8 = Core\EHTRADAl ENTRADA 1* Node 8 = Corc\How l\RowCrosf;er\CROS,S' CROSS* Node 8 = Core\Row 2\and2\ A1 Hode 8 = Corc\Row 2\*nd2\ A* Node 1 = Core\Row 1\RowCroEser\GHD GHD* Node 7 s Corc\Row JL\RowCrosfier\OND GND* Notlc 7 = Core\Row l\inv\GNT> GND* Hode 7 =: Core\RoW l\and2\GHD GHD* Node 7 = Corc\Row l\inv\GHD GND* Nade 7 = Core\Row l\and2\GND C!ND* Hode 7 = Core\Gnd Gnd.* Node 7 = Corc\0nd Gnd

203

Page 238: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

* Node 7 = Core\Gnd Gnd* Node 7 = Cor(i\Gnd Gnd* Node 7 = Corc\Row 2\and2\GND GND* Node 7 = Core\Row 2\or2\CND GND* Node 7 = Core\Row 2\and2\OND OND* Hodc 7 = Core\Row 2\or2\GND GND» fíode 7 = Core\Gnd Gnd1 Node 7 = Corc\Gnd Gnd* Node 7 * Corc\Gnd Gnd1 Node 7 = Core\Gnd Gnd.MODET, NMOS.MODEL PMOSM4 7 183 208 7 NMOS Lsl.SU W=4.5U* M4 Drain Gatc Source Bulk (J84 110 183 122) A = 6.75, W = 4.5M5 208 183 189 189 PMOS L=I.5U W=12U* M5 Drai,n GBte Saurce Bulk (L64 170 168 202) A = 18, W * 12M6 189 183 208 189 PMOS L-1.5U W=12U* M6 Draín Gate Source Bulk (144 170 148 202) A = 1.8, W = 12M7 163 50 1.83 189 PMOS L=1,5U W=12U* M7 Drain Qate Source Bulk (78 170 82 202) A e 18, ff = 12M8 208 183 7 7 NÍ.IOS L=1.5U WM.5U' M8 Drain Gate Source Bulk (164 110 168 122) A = 6.75, ff = 4,5M9 7 183 208 7 NMOS L=1.5U W=4.5ü* M9 Drain Gate Source Bulk (144 110 148 122) A = 6.75, ff = 4.5MÍO 183 50 7 7 NMOS LM.SU W=6U* MIÓ Draín Gflte Sourcc Bulk (78 110 82 126) A = 9, ff « 6MJ I J89 161 1G3 189 PMOS L=1,5U W=1.2U* Mil Drain Gtite Saurce Bulk (58 170 62 202) A * 18, ff = 12M12 159 153 161 189 PMOS L=1.5U W=12U* M1.2 Drain Gate Source Bulk (-8 170 -4 202) A = 18, ff = 12M13 161 153 189 189 PMOS Lsl.SU W=32U* M13 Drain Gate Source Bulk (-28 170 -24 202) A = 18, W =• 12M14 7 161 183 7 NMOS L=1.5U W=6U* M14 Drain Gate Soucce Bulfc (58 110 62 126) A => 9, ff = 6M15 7 153 161 7 NMOS L=1.5U W=4.5U* M15 Drain Gatc Source Bulk (-8 110 -4 122} A « 6.75, W = 4.5MJ6 J61 153 7 7 NMOS L=1.5U W=4.5U* M16 Drain Gate Source Bulk (-28 110 -24 122) A = 6.75, W = 4,5M1.7 189 153 161 189 PMOS L=1.5U W«12U* M17 Drain Gate Source Bulk (-48 170 -44 202) A « 18, ff » 12MJ8 7 153 161 7 NMOS L=1.5U W=4.SU* MIS Drain Gate Source Bulk (-48 110 -44 122) A - 6.75, W = 4.5MI 9 128 23 153 7 NMOS L=1,5U W=6U* M19 Drain Otxte Source Bulfc (-114 110 -110 126) A = 9, ff = 6M20 7 8 128 7 NMOS L«1.50 W=6U* M20 Drain Oate Source Bulfc (-134 110 -130 126) A = 9f ff = 6M21 189 36 50 189 PMOS L=1.5U W=12U» M21 Drain Gate Source Rulk (120 -6 124 26) A « 18, W » 12M22 50 36 189 189 PMOS L-l.SU ff=12U* M22 Drain Gate Source Bulk (100 -6 104 26) A = 18, ff =* 12M23 189 36 50 189 PMOS L=1.5U ff=12U* M23 Drain Cate Source Bulk (SO -6 84 26) A « 18, W « 12M24 36 34 189 189 PMOS L=1.5U W=9U» M24 Drain Grite Source Bulk (14 2 18 26) A = 13.5, W * 9M25 189 22 36 189 PMOS L-l.SU ff=9U* M25 Drain Gate Source Bul.k (-6 2 -2 26) A = 13.5, ff * 9M26 J89 23 22 189 PMOS L«1.SU W=12U* M26 Drnin Oatc Source Bulk (-72 -6 -68 26) A » 18, ff « 12M27 22 23 189 189 PMOS L= 1 . 5U W*1.2U* M27 Drain Oate Source Bulk (-92 -6 -88 26) A = 18, W = 12M28 189 23 22 189 PMOS L=1.5U W=12U* M28 Draín Gatc Source Bulk (-112 -6 -108 26) A « 18, ff = 1.2M29 7 36 50 7 NMOS L=1.5U W=4.5U1 M29 Draín Gatc Source Bulk (120 -66 124 -54) A. « 6.75, W * 4.5M30 50 36 7 7 NMOS 1>1.5U W=4.5U* M30 Drain Oate Source Bulk (100 -66 104 -54) A * 6.75, ff » 4.5M3J 7 3G 50 7 NMOS L«),5U W='Í.5U* M31 Drain Oate Source Dulfc (80 -66 84 -54) A * 6,75, W •= 4.5M32 24 34 36 7 HMOS I,*l.5t) W=6U» M32 Drai.ii Gatc Source Bulk (14 -66 18 -50) A = 9, W = 6M33 7 22 24 7 NMOS L=1.5U ff=6ll

204

Page 239: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

* M33 Draln Gnte Source Bulk (-6 -fí6 -2 -50) A » 9, ff = 6M34 7 23 22 7 NMOS L=1.5U W=4,5U* M34 Drain Gate Source Bulle (-72 -66 -68 -54) A = 6,75, W = 4.5M35 22 23 7 7 NMOS L=1,5U W=4.5U' M35 Drain Gate Source Bulk (-92 -66 -88 -54) A * 6.75, W » 4.5M36 7 23 22 7 NMOS L=1.5U W=4,5U* M36 Drain Gatc Source Bulfc (-U2 -66 -108 -54) A = 6.75, W =» 4.5* Total Noeles: 15 ;* Total Clcmcnts: 36 ;* Extract Elapeed Time: 4 seconds ;.END

El archivo obtenido de la extracción puede ser comparado con otro

archivo de listado de nodos, que corresponda a la descripción esquemática del

mismo circuito, para que se detecten posibles errores en las conexiones de las

diferentes máscaras del layout. Si no se presentan errores en la comparación

de listados, se debe generar-el archivo de extensión CI.F con el que se

fabricará el circuito integrado. Para obtener ese archivo se debe utilizar el.

comando Save del menú File.

205

Page 240: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Diseño contadores hexadecimales

Para el diseño de un contador hexaclecimal se realiza utilizando flip-

flops tipo JK, siendo la configuración más simple la de contador asincrónico

es decir utilizando flip-flops JK con entradas en 1 lógico.

Al igual que en el diseño del circuito del registro de desplazamiento

no conviene realizar el diseño del contador como una sola celda sino que más

bien vale reducirlo a celdas más simple, flip-flop tipo JK con entradas a 1

lógico que funcionan como divisores de frecuencia.

UDIvSl UDIV22 UQIVE3

'Figura 6.8 Contador Heíadeciül

6.9

Diseño del divisor de frecuencia

Para el efecto se utilizó la disposición lógica presentada en la figura

El divisor de frecuencia cumple con los siguientes requisitos:

234

Page 241: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

- Entrada de olear

- Entrada de reloj que se dispara por flanco negativo

Estos requisitos también facilita el diseño del ASIC por tener las

mismas caracteristicas del circuito utilizado en el diseño de la

primera tarjeta.

T - COMPUERTA DE TRANSMISIÓN

19 U- 20I NV

Pigira 6.9 DÍTÍBor de frecuencia

El diseño de las compuertas elementales se explicaron en detalle su

diseño en el numeral 3.5 del presente trabajo.

Todas las celdas diseñadas para conformar la librería para el

diseño del ASIC fueron sometidos a pruebas de simulación con SPICE

obteniéndose resultados alentadores (de similares caracteristicas a las celdas

diseñadas en el capitulo 3).

235

Page 242: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Para completar el juego de celdas se necesitó realizar el diseño de tres

celdas adicionales, conocidos como Row~Crosser, Tiehigh y Tielow, celdas que

utiliza el Tanner en la opción " Place and Route" ya que dichas celdas

facilitan el Tuteamiento y permiten la optimización del espacio ha

ser utilizado.

6.2.2 Proceso del diseño del núcleo del ASIC en el ambiente Tanner-Tools

Una vez realizado el diseño de las celdas que serán utilizados en el

diseño del ASIC se procede a la generación del layout del circuito.

Tal como se explica en términos generales en el capitulo 4, se puede

partir en el diseño desde un editor esquemático tal como es el ORCAD.

Haciendo uso del ORCAD se realizó el esquemático del chip, vale anotar

en este punto la necesidad de editar con el LIBEDIT algunas de las celdas que

no existen en las librerías primitivas que entrega Tanners para utilizarse con

ORCAD.

Se realizó la edición del archivo CHIP.ORC utilizando los esquemas

editados y los de las librerías primitivas, utilizando como base el circuito

presentado en el anexo G, se procedió a reemplazar cada circuito integrado por

el conjunto de celdas equivalentes, se elimina los buffers ya que la memoria

diseñada para el segundo caso posee lineas de datos independientes para

entrada y salida (opción lectura o escritura).

En la figura 6.10 se presenta el circuito final obtenido en ORCAD.

Vale anotar en este punto que lo diseñado hasta el momento es el

esquemático del núcleo.

Una vez obtenido el esquemático del núcleo se utiliza el programa

NETLIST propio de ORCAD el cual permite generar el archivo CHIP.WIR.

..>NETLIST CHIP.ORC CHIP.WIR/P

236

Page 243: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

.10del

Page 244: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Una vez obtenido el archivo .WIR se procedió ha utilizar el programa

NETTRAN utilizando la siguiente linea de comandos:

..>NETTRAN -M ES2TPR.MAC C:\ORCAD\SDT\CHIP.WIR CHIP.TPR

Generado el archivo CHIP.TPR se procedió a utilizar el LEDIT, la opción

PLACE and ROUTE, para generar, el layout del núcleo. Los parámetros utilizados

para ejecutar el programa se muestran en las figuras 6.11, 6.12 y 6.13.

SFR Bloch S«rtup,fAJd ftTtor)

SFH fllock I/O Slffnal»Sido

L B H T4S6

7e9IB1112

13

DATA3PAUKESKTP

RESETALECESC«ESETG

¡CLOCK ,

ALARMAPUERTA

TIKER

M O D O

O <• O O

O • O 0

O • O 0

0 0 * 0o o •» o0 O • O

O O 0 *

o o o »o o o •

Udd Rali On Uhich S14«: • L»ft o RigKt

Paga 2 J ( Cance l ] OK J6.11 Cuadro de diálogo perteneciente a U Págim 1 del comido SPR Biod.

SFR Block Satup, Paga 2

Schomatlc NotllstPouer Slgiuii:Ground Slgnal: Gnd

StandaurA Cali Lltrary Nanos:File: |M21tb\««2nl2.tabROMTie-To-UDD: TioHigh

TiaLow

ítbut

Row Crowtfw» Port:

AbutMent Port:

Creat» Copa Cali:

Croata Kow Ca11:

Croata Cha noel Ce 11 .f^ham» í

CoraRow

[ Pago 3 ] [ Cancel ] f[ -\- OH

Figurs 6.Í2 fa-vlro de diálogo perteneciente a la Página 2

238

Page 245: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

SPR Dlock Setup, Pago 3Routing Layer»Horizontal : cne2

Corrtact: cu la

Horlx Mort Con tac tlíiath ET~] JB 1 R j

Spaclng (ETV"J fr ___ [ ÍJL~JSpacing JB~ | |B |

Cont*crt Surround {2 j [2 |Uoight |l.89B| |l.B8e|

af/n

Ce>ll~Po»iBrD Laaut* coro In Horixomtal Layer.

[ Pago 1 ) [ Canco! (T OK 1

Figura 6,13 Cuadro de diálogo perteneciente a la Página 3

Las opciones con las cuales se ejecutó el comando Place and Route del

programa se pueden observar en la figura 6.14.

. v Place andRead Netli*t File:

(C .-SGAIESIHNcMp . TPR

Route

• Standard Cali Block Placa and Route

I tora t Ion* per cell: |486 | Rows: [9

Indent Ratlo: |l.Bee| SPR Grld: [T~

TOMP Control: |Í.Bee|

D Rach Amwtate P Place Porta

D Padfrane Generatlon

O Pad Route

[ Cancel ] [ OK 3 [C R«n

ZJm

Jl

Figura 6,14 Cuadro de diálogo corespondieste ai colindo Pitee sod Eoute.

Se forzó al enrutador a que' obtenga las salidas y entradas del chip en

los cuatro costados del núcleo, en la opción SPR Block, con la finalidad de

que generado e 1 1 ayout de 1 nucíeo, edi tar 1 o de tal manera que pueda ser

almacenado como una celda, para luego editarlo como una soJa celda en el

239

Page 246: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

diseño del circuito integrado incluido los pads.

Una vez generado el layout del núcleo se procedió a correr el DRC,

chequeador de reglas de diseño, con la finalidad de comprobar si el enrutador

no cometió alguna violación de reglas de diseño, vale recalcar que cada una

de las celdas editadas fueron individualmente chequeadas, una vez pasadas

dichas pruebas se las integró a la biblioteca ES2.

6.2.3 Pacls

Una vez diseñado el núcleo procede realizar el diseño del chip inluído

los pads, para el efecto se debe utilizar igual procedimiento al explicado en

el numeral 6.2.2, para la generación del layout con los pads se deben

habilitar en la opción "Place and Route", el "Padframe Generation" , y el "Pad

Route". Existen bibliotecas de pads pertenecientes a cada casa fabricante en

particular, en la actualidad no se dispone de esta biblioteca en la Escuela,

por tanto la ES2 incluirá en el proceso de fabricación del circuito integrado

los pads necesarios para el presente diseño. En el ANEXO H se presenta el

layout del núcleo del circuito integrado ha enviarse para fabricación.

6.3 DISEÑO DEL vSISTEMA UTILIZANDO EL CIRCUITO INTEGRADO

En el presente numeral se presenta el diseño del sistema que incluye el

circuito integrado.

Tal como se indicó en el numeral 6.1, el diseño presentado en el

capitulo 5 se subdivide en tres bloques, el primero y tercero se mantiene

igual, el bloque que cambia es el segundo, el cual se reduce a un solo

circuito integrado, por lo tanto procede realizar el reemplazo en el circuito

del anexo G el circuito diseñado, quedando el nuevo circuito tal como se lo

presenta en la figura 6.15.

En la figura 6.15 se tiene 4 circuitos integrados, el decodificador de

teclado, cuya función se mantiene igual a la que desempeñaba en. la primera

tarjeta, el TIMER 555, el cual entrega la señal de reloj para la temporización

240

Page 247: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

"¡gura 6.'15 Sisteía (pie iaclaye ASÍC

del circuito, es decir también mantiene la función original, el circuito

integrado denominado LOCK4D, cuya función es reemplazar a toda la circuitería

digital de la primera tarjeta que procesaba los datos, y finalmente un Buffer

tres estados, cuya función es la de manejo de corriente, se conecta directo

las salidas del decodif icador de teclado al ASÍC diseñado ya que ambos

circuitos integrados son CMOS, pero las salidas del ASÍC no se aconseja

241

Page 248: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

.conectar directamente a los transistores, en el caso de esta tarjeta, o a

compuertas TTL, se necesita por ende un Buffer como interfaz.

Una breve descripción del sistema es el siguiente:

- Con el interruptor SW1 se escoje el modo de funcionamiento del

circuito integrado, programación o trabajo normal.

- En el modo de programación se graba los 4 dígitos que permitirán la

apertura de la puerta.

- Una vez realizada la programación, en el otro modo de funcionamiento,

el circuito espera el ingreso de las cuatro teclas por cada uno de los

tres intentos ha realizarse. Si se acierta se generará un señal de 1

lógico en el pin PUERTA, sino se generará un 1 lógico en el pin alarma,

para ambos casos, se tiene resets respectivos para poner en O las

salidas de PUERTA y ALARMA.

El pin de RESETC, tiene funciones específicas, la primera es la de

reinicializar la temporización del circuito, esto es muy util} por ejemplo en

el caso de programación, no hay necesidad de esperar que termine la

temporización para grabar una nueva clave si es que existiera alguna

equivocación en la primera grabada, también sirve para deshabilitar el

funcionamiento del chips si se lo tiene puesto a O lógico se deshabilita el

circuito integrado, por ende para funcionamiento normal debe colocarse este

pin siempre a 1 lógico.

En el ASIC, para la temporización se ha utilizado internamente un

contador hexadecimal que detecte 15 decimal y termine la habilitación, por

ende el tiempo de habilitación está dado por la siguiente ecuación:

t » ~ [Ec 6.1]

242

Page 249: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Donde:

Frecuencia de la señal que se entrega al circuito en el pin CLOCK en ££

Tiempo de la temporización en segundos.

El pin TIMER, indica con un 1 lógico que se está en dentro del tiempo

permitido de ingreso de datos, este pin puede utilizarse para señalización,

con un led se indica al usuario que tiene o no oportunidad de ingresar la

c1ave.

Si bien el circuito integrado ha sido diseñado con la intención de

controlar una cerradura digital, el mismo puede ser utilizado en otros

diseños, en el que se necesite un pequeño procesador de 4 dígitos de 4 bits.

Tanto el circuito del ANEXO G como el presentado en la figura 6.15,

entregan la señal digital que permita manejar la cerradura eléctrica, las

señales tanto de la una como de la otra tarjeta no permiten manejar una

cerradura, por lo que se propone el siguiente circuito con relé para el

control de la cerradura.

I6MÍHAÜA Á7T

CERRADURA

ELÉCTRICA

R1RE3(STOR

243

Page 250: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

CAPITULO 7

CONCLUSIONES Y RECOMENDACIONES

El presente trabajo ha permitido conocer en detalle una de las

me todo logias de diseño de circuitos integrados más uti 1 izados en la

actualidad, la .metodología de celdas estándar. Una de las principales

ventajas de esta metodología es la medularidad con lo cual se pueden

realizar los diseños de circuitos integrados de aplicación específica

ASICs y su principal desventaja es la excesiva utilización de área de

silicio para enrutamiento externo si se compara con la metodología full

custom, siendo esto muy palpable al utilizar el paquete Tanner-Too1s,

las celdas diseñadas son un diseño full-custom, y el circuito integrado

diseñado es un diseño con celdas estándar.

Para el diseño de circuitos integrados se necesitan herramientas

computacionales de alta calidad, herramientas tanto de software como de

hardware. Programas utilizados tales como el simulador eléctrico SPICE

y el paquete Tanners-Tools son herramientas de muy buena calidad, sin

embargo no alcanzan todavía la potencialidad deseada; entre otras causas

debe anotarse que dichos paquetes corren sobre el sistema operativo

D.O.S. el cual tiene limitaciones en el manejo de memoria RAM, lo cual

impide realizar simulaciones en el primer caso de circuitos formados por

gran cantidad de transistores. El L-Edit, editor de layouts de Tanner-

Tools, puede correr en otros sistemas operativos de multitarea tales

como el OS/2, Windows; sistemas operativos que permiten mejorar la

capacidad de ejecución de los programas, para las tareas utilizadas en

el presente trabajo L-Edit funcionó correctamente.

3.- Se cumplió con el principal objetivo de la tesis, preparar un ambiente

amigable de trabajo para posteriores diseños de circuitos integrados que

utilicen la biblioteca de celdas creada. La primera aplicación que

utilizó este ambiente es justamente el diseño del circuito digital para

el control de la cerradura eléctrica. Se puede usar el trabajo como

referencia para crear nuevas bibliotecas para otras tecnologías y casas

fabricantes, ya que las tecnologías van evolucionando y no se mantienen

244

Page 251: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

por mucho tiempo.

4.- Para la elaboración de la biblioteca de celdas estándar se utilizó la

herramienta computacional Tentos, gracias a la compatibilidad que

existen entre los archivos de extensión .GIF entre Tentos y Tanner-

Tools, se pudo recuperar ;todo el trabajo realizado con la primera

herramienta, con la segunda.

5.- Para el diseño del ASIC} primero se realizó un diseño con circuitos

integrados comerciales de mediana escala de integración en su gran

mayoría, para luego concebir a partir de este primer diseño, el diseño

del circuito integrado. Se utilizaron circuitos integrados en lo posible

de la más baja escala de integración para que, primero facilite generar

el nuevo circuito integrado y segundo, para que permita realizar una

comparación más real entre los dos diseños. Vale esta aclaración, yaque

el mismo diseño puede ser realizado utilizando microprocesadores, pero

esto pierde objetividad, ya que el microprocesador por más utilizado que

esté nunca será totalmente explotado, siendo justamente la finalidad del

desarrollo de diseños de circuitos integrados ASICS utilizar la menor

cantidad de transistores posibles para una misma función específica.

6.- Las celdas diseñadas están preparadas para funcionar con señales de

entrada de frecuencias ligeramente superiores a los 25 MHz, lo cual

permite asegurar una buena respuesta de frecuencia de todo circuito

diseñado en base de la biblioteca creada. Los tiempos de retardo

obtenidos en las simulaciones son bastante aceptables y nos aseg-uran un

correcto funcionamiento de las celdas.

7.- En el caso particular del circuito para control de la cerradura digital,

la frecuencia de trabajo no es un parámetro por el que se debe

preocupar, ya que por su utilidad, dicho circuito funcionará a

frecuencias relativamente bajas.

8.- Para el diseño de circuitos integrados que funcionen a muy altas

frecuencias, se encuentran desarrollándose actualmente nuevas

tecnologías. Sin embargo el utilizar la tecnología OÍOS de 1.2 ura

245

Page 252: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

permite lograr mejoras en este aspecto con respecto a tecnologías CMOS

de 1.5 um o superiores.

9.- El circuito diseñado es puramente digital, por lo que no se pudo evitar

en el segundo diseño del control de la cerradura el utilizar componentes

externos analógicos. Uno de los objetivos a futuro del proyecto de

Microelectrónica en el país debe ser el diseño de circuitos analógico

digitales.

10.- El proyecto partió utilizando el paquete Tentos} por falta de otra

herramienta, el mismo que resulta de gran utilidad cuando se tienen

limitaciones de hardware; sin embargo, no alcanza la potencialidad de

Tanner-Tools, Tentos es un software para ambientes cerrados, es decir

todo procedimiento debe realizarse dentro del programa, mientras que

Tanner-Tools es en este sentido abierto, ya que es compatible con gran

cantidad de otros paquetes utilizados para edición esquemática de

circuitos, por ejemplo el ORCAD.

11.- Tanner-Tools le permite al diseñador, no solamente obtener los archivos

de las máscaras para la fabricación de un layout, sino que gracias a sus

características avanzadas brinda la oportunidad de aclarar muchos de los

conceptos teóricos que tienen que ver con la fabricación y el

funcionamiento real del circuito.

12.- Tanner-Tools, sinembargo tiene algunas limitaciones, la principal

limitación detectada tiene que ver con la extracción de elementos

parásitos de los circuitos integrados diseñados, quedando todavía como

principal recurso para la evaluación de dichos elementos parásitos, el

trabajo manual del diseñador.

13.- Los diseños realizados en el presente trabajo han tenido una constante

evolución, favorecidos por los diferentes cursos que se realizaron en

la Escuela Politécnica Nacional. Al inicio del proyecto no se contaban

con todas las herramientas que finalmente se obtuvieron, ni todos los

conocimientos que luego se alcazaron, siendo todavía una de las

principales trabas, la poca experiencia que aún tiene nuestro país en

246

Page 253: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

tecnologías tan avanzadas como son las involucradas en el diseno VLSI.

14.- Finalmente se aspira que el presente trabajo colabore permitiendo a

nuestro país, continuar con el desarrollo de proyectos de

Microelectrónica, dotando de mejor infraestructura a la Escuela para

permitir un desarrollo más vertiginoso de este campo de investigación.

247

Page 254: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BIBLIOGRAFÍA

1) MUKHERJEE AMAR, Introduction to nMQS and CMOS VLSI Systems Design,

Prentice-Hall, New Jersey, 1986.

2) MOKAES F. , REÍS R., TENTQS: Gerenciador de software para

Mícroelectrónica, UFGRS, Brasil, 1991.

3) MORAES F., REÍS R. , Manual do usuario do pro.iecto TRANCA, UFGRS, Brasil,

1991.

4} TUINENGA PAUL, SPICE A guide to circuit Simulation and Analysis Usina

Pspice, Prentice Hall, New Jersey, 1988.

5) MEARES L, , HYMOWITZ CH. , Simulating with Spice, Intusoft, 1988.

6) BERNAL I. , LEMUS F. , Diseño de Circuitos Integrados de Aplicación

Específica (ASICs) Digitales con Tecnología CMOS, Tesis de Grado, EPN,

1992.

7) CUERVO P., AUGUSTO K., LÓPEZ A. , Diseño de Circuitos InteRrados CMOS -

Una metodología de diseño de celdas estándar., Quito, 1993.

8) WESTE N. , ESHRAGHIAN K. , Principies of CMOS VLSI Design. Adisson Wesley,

Massachusetts, 1988.

9) ANTOGNETTI P, MASSOBRIO G. , Semiconductor Device Modeling with Spice,

McGraw-Hill, Estados Unidos, 1988.

11) National Semiconductor, CMOS DATA BOQK.

12) Texas Instruments, LINEAR CIRCUITS DATA BOOK.

247

Page 255: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

13) Tanrier-Research Inc, L-Edi t.

14) Intusoft, ICAPS User *s Guide, California 1986.

15) EPNj Anales Jornadas en Ingeniería Eléctrica y Electrónica, Julio 1993,

248

Page 256: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

SOX3NV

Page 257: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ANEXO A

Page 258: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

826 :

;XP

O X w

CS x D 2 (ti TÍ O

qisi

n

Page 259: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ANEXO A-2

Celda .Medio Sumador

u j-í 3•-• O O

VT -O I,CE CL Qea :=> n;

_D QJ J5Í C--* —J C Oíoí -* —' sr(—1 t—I __J I—Ir> u. os o ui en

CUru

x

Page 260: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ANEXO A-3

Celda Sumador Completo

L) -t) 3 _O OJ JSC C— • O o —• — J C o;VJ ~ t_ CTJ — J — J 51

CC O. OCD ca

i

OJ

PJ

a eno;

P7 _Jcu o•' CL

-- f.:.x c:

"

enIC _J _J Ul CH —fI 4- I -I- I ~C

Page 261: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ZC [ -f I 4- 1 -fr~ LO LO r~ r~ :c reLT)

nO3I— "te

70 xa ic co3: cu r~* CD01— í-I Tc ic r- 3ro -) m o.

LÉfi 11

~£ CT" LnPl "5 í-i3 r-- Q.C D_ ÍH

ín

3337T

HH r" en3 33 CW CD r+"r'" ro i — •a — i 3

O O3 TI ^3

rs •--- »— tnÍD 3 f— r-D 7T m CT

70C^~5a£

TJO.Qf^"

03X)t/i1— •n

ITI

KÜf

£75O

I

T-s xnw

1?-V OX3ÍTV

Page 262: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ANEXO B

Page 263: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ANEXO

Page 264: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

MUX21.GIFDS 1 750 100;9 mux21rs ;L CNWI;B 1840 300 460 230;L CNPI;B 60 160 -350 240;B 220 120 -210 -100;B 60 120 -30 260;B 140 120 70 -100;B 60 120 210 260;B 220 120 350 -100;B 60 200 560 230;B 640 100 910 -120;L CPPI;B 60 120 -350 -100;B 220 160 -210 240;B 60 120 -30 -100;B 140 120 70 260;B 60 120 210 -100;B 220 120 350 260;B 60 100 560 -120;B 640 200 910 230;L CTOX;B 240 120 -240 240;B 240 80 -240 -100;B 160 80 40 260;B 160 80 40 -100;B 240 80 320 -100;B 240 80 320 260;B 660 160 880 230;B 660 60 880 -120;L CPOL;B 40 40 -260 -200;B 40 40 -260 360;B 20 520 -260 80;B 40 40 -180 -200;B 40 40 -180 360;B 20 520 -180 80;B 220 20 -60 110;B 20 480 60 80;B 40 40 120 90;B 150 20 215 90;B 20 480 300 80;B 40 40 380 -200;B 40 40 380 360;B 20 520 380 80;B 40 40 620 30;B 20 500 650 80;

Bl-1

Page 265: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBBBBBBBBLBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBB

80 20 700 50;20 500 750 80;80 20 800 50;20 500 850 80;20 500 950 80;80 20 1000 50;20 500 1050 8080 20 1100 50;40 60 1080 10;20 500 1150 80CME1 ;40804040404040307040404040401040408040404030503040804040404040906040106060140

40 -380 220;120 -320 240;120 -340 -80;80 -300 -100;40 -260 360;40 -260 -200;120 -220 240;130 -215 115;30 -195 35;40 -180 360;40 -180 -200;120 -140 240;190 -140 -45;40 -100 220;40 -115 30;120 -20 -80;40 -20 200;80 O 260;

20 -100;100 -100;100 260;105 5;

40 115 90;110 105 165;40 220 200;80 240 260;120 220 -80;80 260 -100;190 340 205;40 380 360;40 380 -200;30 405 125;120 430 240;250 420 -15;10 445 105;4040

520 -100520 260;

40 570 30

Bl-2

Page 266: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 80 160 590 230;B 80 70 590 -115;B 40 200 700 210;B 40 60 700 -120;B 30 60 705 -180;B 160 30 800 -195;B 40 100 800 -100;B 40 200 800 210;B 30 60 895 -180;B 40 230 900 195;B 40 100 900 -100;B 290 30 1065 95;B 40 220 1000 260;B 30 60 995 -180;B 40 60 1000 -120;B 120 40 1040 0;B 160 30 1090 -195B 150 30 1095 355;B 40 200 1100 210;B 40 100 1100 -100;B 40 220 1190 260;B 40 290 1190 -65;B 40 40 1230 260;B 110 30 1265 -195;B 40 600 1340 80;L CCON;B 20 20 -340 200;B 20 20 -340 240;B 20 20 -340 -120;B 20 20 -340 -80;B 20 20 -340 280;B 20 20 -300 200;B 20 20 -300 240;B 20 20 -300 -120;B 20 20 -300 -80;B 20 20 -300 280;B 20 20 -260 360;B 20 20 -260 -200;B 20 20 -220 200;B 20 20 -220 240;B 20 20 -220 280;B 20 20 -180 360;B 20 20 -180 -200;B 20 20 -140 200;B 20 20 -140 240;B 20 20 -140 -120;B 20 20 -140 -80;B 20 20 -140 280;B 20 20 -20 -120;

Bl-3

Page 267: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBB

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

-20-20-2020202020100100100100120220220220220260260260260340340380380420420420420570570570570570610610610610610620700700700700700800800800800800

-80:240;280;

-120;-80;240;280;280;240;-120;-80;90;240;280;-80;-120;240;280;-80;-120;280;240 ;360;-200;240;280;-120;-80;170;210;250;290;-120;170;21.0 ;250;290;-120;30;290;250;210;170;-120;170;210;250;290;-120;

(1-4

Page 268: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 40 40 1230 260;L CVIA;B 20 20 -380 220;B 20 20 -340 -40;B 20 20 -130 30;B 20 20 -100 220;B 20 20 -20 -40;B 20 20 -20 200;B 20 20 220 200;B 20 20 220 -40;B 20 20 430 120;B 20 20 440 200;B 20 20 510 -100;B 20 20 510 260;B 20 20 520 30;B 20 20 700 130;B 20 20 800 -70;B 20 20 800 130;B 20 20 900 100;B 20 20 900 -70;B 20 20 1000 0;

- B 20 20 1100 -70;B 20 20 1230 260;DF;C 1 ;E

Bl-6

Page 269: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ANEXO B2

Page 270: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

MEDSUM.GIF

DS 1 750 100;9 MS03rs ;L CNWI;B 2240 300 740 150;L CNPI;B 60 200 -290 150;B 220 140 -150 -180B 60 200 70 150;B 150 80 175 -210;B 60 200 310 150;B 220 120 450 -200;B 60 200 680 150;B 160 180 790 -160;B 60 240 1120 150;B 230 160 1265 -190B 60 200 1440 150;B 160 160 1550 -190L CPPI;B 60 140 -290 -180;B 230 200 -145 150;B 60 80 70 -210;B 150 200 175 150;B 60 120 310 -200;B 230 200 455 150;B 60 180 680 -160;B 350 200 885 150;B 60 160 1120 -190;B 230 240 1265 150;B 60 160 1440 -190;B 350 200 1645 150;L CTOX;B 250 160 -175 150;B 240 100 -180 -180:B 170 160 145 150;B 170 40 145 -210;B 250 160 425 150;B 240 80 420 -200;B 370 160 855 150;B 170 140 755 -160;B 250 120 1235 -190;B 250 200 1235 150;B 370 160 1615 150;B 170 120 1515 -190;L CPOL;B 40 40 -260 -280;B 40 40 -260 280;B 50 30 -215 -275;

B2-1

Page 271: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

.B 50 30B 40 40B 20 260B 20 220B 40 40B 20 280B 20 200B 10 30B 10 30B 40 40B 40 40B 40 40B 20 500B 40 40B 20 510B 40 40B 20 270B 20 200B 40 40B 40 40B 20 170B 160 20B 20 500B 420 20B 20 270B 20 270B 20 540B 40 40B 20 540B 40 40B 20 310B 20 170B 200 20B 20 260B 20 260L CME1;B 40 120B 40 40B 80 160B 80 80B 40 40B 40 40B 40 40B 530 30B 40 140B 40 40B 90 30B 40 40B 40 40

-215 275;-200 20;-200 -130;-200 150;-120 -40;-120 120;-120 -160;

-125 -275;-125 275;-100 -280;-100 280;130 -100;160 0;

370 20;400 -5;

480 -40;480 115;480 -160;580 30;580 -180;580 -75;680 40;770 0;990 -30;870 115;970 115;1210 0;

1270 -80;1300 0;

1520 -80;1530 95;1530 -185;1640 -20;1630 120;1730 120;

-320 140;-320 -180;-260 150;

-260 -190;-260 -280;-260 280;-200 20;85 25;-160 -160;

-120 -40;-95 -105;-100 -280;-100 280;

B2-2

Page 272: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 40 80B 390 30B 40 160B 40 40B 40 40B 40 40B 120 30B 40 120B 40 40B 80 160B 80 40B 40 40B 40 160B 40 100B 40 120B 40 40B 30 80B 80 160B 80 80B 110 30B 40 40B 40 160B 30 60B 30 80B 100 30B 40 40B 40 80B 40 160B 60 40B 40 80B 40 40B 40 40B 40 40B 40 120B 80 160B 80 140B 190 30B 40 220B 40 140B 160 30B 40 280B 40 600B 40 40B 40 40B 80 120B 80 200B 40 40B 70 30B 40 230

-80 -190;95 -35;-70 150;

-40 -180;-30 90;-30 -100;50 -105;40 140;80 -170;100 150;100 -210;130 -100;210 150;210 -180;280 140;

280 -180;305 -60;340 150;340 -200;375 -85;

370 20;440 150;

445 40;445 -60;510 25;

480 -40;520 -200;530 150;570 -180;570 160;580 30;650 180;650 -180;690 10;710 150;710 -160;805 -35;820 120;820 -160;920 -215;920 90;1020 0;1090 -180;1090 180:1150 -190;1150 150;

1160 -80;1215 -75;1260 135;

B2-3

Page 273: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

160 30 1320 5;40 40 1270 -80;40 200 1340 150;180 30 1410 -85;40 150 1340 -175;70 40 1395 180;30 60 1385 -40;40 40 1410 -180;80 160 1470 150;80 120 1470 -190;270 30 1565 -15;40 70 1450 35;40 40 1520 -80;40 120 1580 -190;40 200 1580 130;160 40 1680 -150;40 230 1680 115;40 40 1740 280;40 40 1740 -280;40 600 1780 0;CCON;20 20 -280 -170;20 20 -280 -210;20 20 -280 90;20 20 -280 130;20 20 -280 170;20 20 -280 210;20 20 -260 -280;20 20 -260 280;20 20 -240 90;20 20 -240 130;20 20 -240 -210;20 20 -240 -170;20 20 -240 170;20 20 -240 210;20 20 -200 20;20 20 -160 -170;20 20 -160 -210;20 20 -120 -40;20 20 -100 -280;20 20 -100 280;20 20 -80 -210;20 20 -80 -170;20 20 -70 90;20 20 -70 130;20 20 -70 170;20 20 -70 210;20 20 80 90;20 20 80 130;

B2-4

Page 274: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B '20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20B 20 20

808080120120120120120130210210210210320320320320320320360360360360360360370440440440440480520520530530530530580580690690690690690690690730730730

170;210;-210;210;170;130;90;-210;-100;130;170;210;-210;-180;210;170;130;90;-220;-180;210;170;130;90;-220;20;210;170;130;90;-40;-180;-220;90;130;170;210;-180;30;210;170;130;90;-210;-160;-110;90;130;170;

B2-5

Page 275: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBB

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

7307307307308208208208208208208209209209209201020102010201020113011301130113011301130113011301170117011701170117011701170117012601260126012601260127013401340134013401340134013401340

210:-110;-160;-210;90;210;170;130;-160;-110;-210;90;130;170;210;130;90;170;210;-150;-190;-230;70;110;150 ;190;230;-230 ;-190;-150;150;110;70;190;230;70;110;150;190;230;-80;-230;-190;-150;70;110;150;190;230;

B2-6

Page 276: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBLBBBBBBBBBBBBBBBBBB

202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

145014501450145014501450145014901490149014901490149014901520158015801580158015801580158016801680168016801780178017801780

-230;-190;-150;210 ;170;130;90;-230;-190;-150;90;130;170;210;-80;90;130;170;210;-190;-230;-150;90;130;170;210;210;170;130;90;

CME2;2240 100 740 -250;2240 100 740 250;4040404040404095040404040402404040

120404023012050280401204080404040

4040

-320 140;-320-40-304080 -21070528028057065065092010901090

-180;-180;

r _~" )

140;175;-30;-80;140;

-180;160;180;-180;30;-180;180;

B2-7

Page 277: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBLBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBDFCE

4040240CVI202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020ji;

404040

A;202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

14101410

180:-180;

1680 50;

-320-320-320-320-40-30-30

100;140;180;-180;

-180;90;-100;

40 180;40 140;40 100;80 -21021028028028028057057065065082010201090109011601410141015801780

170;90;-150;180;140;100;-180;140;180;180;-180;30;30;-180;180;-80;180;-180;50;50;

B2-8

Page 278: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ANEXO B3

Page 279: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

SUMADOR.GIFDS 1 750 100;9 mSlOlrs ;L CNWI;B 4240 300 700 150;L CNPI;B 340 100 -1220 -200;B 60 200 -1020 150;B 140 80 -860 -210;B 60 160 -760 170;B 190 130 -585 -185;B 190 130 -395 -185;B' 140 100 -230 -200;B 60 130 -130 185;B 160 80 50 -210;B 60 160 160 170;B 180 80 370 -21.0;B 180 160 600 -170;B 140 80 810 -210;B 60 80 910 210;B 60 160 1.010 170;B 220 120 1150 -190;B 60 200 1380 150;B 220 120 1520 -190;B 60 130 1790 185;B 140 100 1890 -200;B 170 130 2045 -185;B 170 130 2215 -185;B 60 200 2390 150;B 340 100 2590 -200;L CPPI;B 340 200 -1220 150;B 60 100 -1020 -200;B 140 160 -860 170;B 60 80 -760 -210;B 180 130 -590 185;B 200 130 -400 185;B 140 130 -230 185;B 60 100 -1.30 -200;B 160 160 50 170;B 60 80 160 -210;B 180 200 370 150;

160 600 170;80 810 210;120 960 -190;160 1150 170;

120 1380 -190;220 200 1520 150;

B3-1

Page 280: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBBBBLBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBLBBBBBBBBBBB

6014018016060340

100130130130

100200

1790189020502220

23902590

-200185185185

-200150

:i

ji33

CTOX;360360160160140140140140160160180180140140140140160160240240240240160160120120120120360360

160601204090909090609040120160401201204040120801608090609090909060160

-1190 150-1190-830-830-590-590-400-400-200-20080 -280 1370370 -600600

840 -840 21120

11201490149018601860205020502220222025602560

-200170

-210-185185;-185185;-200185;10;70;150;210;170;-170210;10;170

-190150

-190185;-200185;-185185;-185-200150

)

j

)

3

j

?

j

1

3

3

3

j

3

)

j

CPOL ;20802080204020402019060

50020 -50020 -50040 -50040 -14020

20 -

-13101260-12101160-11101080-850820 --590-505

0;-60;0;

-60;0;

-60;0;90;180;-30;

570 100}

B3-2

Page 281: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

20 210 -590 -14540 40 -520 -90;40 40 -520 90;270 20 -365 -10020 290 -400 105;20 140 -400 -18090 20 -345 120;40 40 -280 110;20 500 -220 0;40 40 -190 40;20 500 60 0;50 40 95 -90;40 40 250 10;90 20 315 20;20 500 370 0;40 40 460 10;40 40 460 -90;130 20 545 20;110 20 535 -80;20 190 600 -155;20 220 600 140;200 20 710 70;110 20 665 -70;40 40 740 -80;20 500 820 0;40 40 850 40;40 40 1070 40;40 40 1100 -280;40 40 1100 280;20 520 1100 0;40 40 1180 -280;40 40 1180 280;20 520 1180 0;40 40 1470 -280;20 510 1470 -5;20 500 1550 0;80 20 1600 20;40 40 1660 30;40 40 1850 90;20 600 1880 0;30 40 1905 280;30 40 1905 -280;

100 20 2090 -10020 140 2050 180;

B3-3

Page 282: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 20 180 2050 -200;B 40 40 2160 90;B 40 40 2160 -90;B 50 20 2205 100;B 20 140 2220 180;B 20 210 2220 -145;B 40 40 2450 -40;B 20 500 2480 0;B 80 20 2530 -60;B 20 500 2580 0;B 80 20 2630 -60;B 20 500 2680 0;,L CME1 ;B 70 40 -1365 -280;B 70 40 -1365 280;B 40 520 -1350 0;B 150 30 -1255 -55;B 40 100 -1260 -180B 40 200 -1260 130;B 40 460 -1160 0;B 40 40 -1080 -60;B 80 160 -1050 150;B 80 60 -1050 -200;B 150 30 -985 -65;B 40 40 -1030 50;B 40 40 -1030 -150;B 40 460 -890 0;B 100 40 -790 -90;B 120 40 -770 -210;B 80 120 -790 170;B 40 40 -730 -170;B 40 50 -730 175;B 40 460 -640 0;B 90 90 -515 -185;B 90 90 -515 185;B 40 40 -520 -90;B 40 40 -520 90;B 30 140 -515 0;B 40 460 -450 0;B 40 460 -350 0;B 20 40 -290 110;B 40 460 -260 0;B 110 40 -155 40;B 80 60 -160 -200;B 80 90 -160 185;B 40 40 -100 180;B 40 40 -100 -180;B 40 460 10 0;B 50 40 95 -90;

B3-4

Page 283: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBB

14080180601006060404040404040404040402608080404040408080404040304040904040250304040403040408080404030120

4012030

404020404602001604040404604604046040

4040707040401208040401201604040301208030100204040140404016080408010030

160130210

-210170;-95;

;

200 180;220 10;

200 40;200 -320420420

170;0;130;-150 3

460 50;460 10;460 -550650

740 -780960880 2880 -940 -

90;0;0;80;0;40;10;210;195;

940 195;980 -180;980 180;1040

10401100110011401145

1180118012051220122013251225

1230126012901285

135013501410

14101470151015051550

170-190280;-28017030;

280;-280-35;170

-190-27

;;

;;

;

555

-100-10;180;-100 ;-190180;-180150

-190-280-190

;;

;

i;

-100-35 í

B3-5

Page 284: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBLBBBBBBBBB

4040303010401004040401008080404040201040409090304040401012080804040405050150404040

16080709040404010404040906040404604040460460909014040404604040601604040520404030200100460

1590159015951595161516301690

1720176017601820

182018201900190019201950198520102090

215521552155

2160216022602285241024202420240024002530

253525352625263026302720

150-190-85;25;-100-18030;

55;-180180;90;

185;-200280;-2800;110;-90;0;0;185;-1850;

90;-90;0;

-20;-40-200150

-15050;0;

-280280;-55130-180;

:j

?!

)

1

j

j

j

J

)

!

j

!j0

CCON;202020202020202020

202020202020202020

-1350-1350-1350-1350-1350-1260-1260-1260-1260

21017013090;

j5i

-20090;130170210

i)5

B3-6

Page 285: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBB

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

-1260-1160-1160-1160-1160-1160-1080-1070-1070-1070-1070-1070-1030-1030-1030-1030-1030-890-890-890-890-820-810-810-810-810-770-770-770-770-640-640-640-640-540-540-540-540-520-520-450-450-450-450-350-350-350-350-280

-20021017013090;

j;)

-200-60 i-20090;130170210

j>i

-20021017013090;

-210112-211--

30;70;10;90;10;70;30;210210

i!i

I

)

)130;12--21--

70;10;16021010;60;160210

)

J

j

)

160;2-10;90;

90;--21--211

16021010;60;16021010;60;10;

)

1

1

i

B3-7

Page 286: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBB

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

-260-260-260-190-180-180-180-140-140-14010 2

-200;160;2.10;40;-200;210;160;-200;160;210;

10;10 170;10 130;10 -100110110110110150150150150250320320320320320420420420420420460460550550550550550550650650650650650650740

210;-90;-210;130;170;210;210;170;130;-210;10;-210;90;130;170;210;-210;210;170;130;90;10;-90;-210;-170;-130;130;170;210;210;170;130;-130;-170;-210;-80;

B3-8

Page 287: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBB

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

780780850860860900900102010201020102010201060106010601060106010701.100110011401140114011801180122012201220122012201390139013901390139013901430143014301430143014301470151015101590159015901590

-210;210;40;-210;210;2 1 0 ;-210;-210;210;170;130;-170;-210;130;170;210;-170;40;-280;280;130;170;210;-280;280;210;170;130;-210;-170;130;170:210;-210;90;-170;210;170;130;-210;90;-170;-280;-170;-210;-210;130;170;210;

B3-9

Page 288: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBB

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

1590159016601800180018001840184018401850190019001920192019201940201020102010201020902090209020902160216021802180218021802260226022602260240024002400240024002440244024402440244024502530253025302530

90:-170;30;210;160;-200;160;210;-200;90;280;-280;210;160;-200;110;160;210;-210;-160;160;210;-210;-160;90;-90;210;160;-210;-160;160;210;-210;-160;90;130;170;210;-200;210;170;130;90;-200;-40;-200;90;130 ;170;

B3-10

Page 289: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 20 20 2530 210:B 20 20 2630 -200;B 20 20 2630 210;B 20 20 2630 170;B 20 20 2630 130;B 20 20 2630 90;B 20 20 2720 -200;B 20 20 2720 90;B 20 20 2720 130;B 20 20 2720 170;B 20 20 2720 210;L CME2;B 4240 100 700 250;B 4240 100 700 -250B 40 170 -1260 115;B 40 70 -1260 -165;B 40 170 -1030 115;B 40 70 -1030 -165;B 40 40 -760 -90;B 300 30 -620 35;B 30 90 -755 -25;B 40 50 -730 -175;B 40 50 -730 175;B 40 40 -640 110;B 250 30 -495 105;B 40 40 -450 40;B 30 70 -355 85;B 70 30 -335 35;B 40 90 -350 -75;B 320 30 -170 -105;B 30 70 -285 15;B 600 30 O -35;B 2000 30 810 115;B 40 80 -120 60;B 40 40 -100 180;B 40 40 -100 -1.80;B 40 40 10 -100;B 60 40 200 180;B 60 40 200 30;B 60 50 200 -175;B 400 30 430 35;B 40 40 320 -30;B 190 30 435 -35;B 40 40 550 -30;B 40 50 650 25;B 160 30 750 35;B 30 100 815 -30;B 470 30 1035 -95;B 40 40 9.10 40;

B3-11

Page 290: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 80 40 960 180:B 80 40 960 -180;B 770 30 1315 45:B 40 40 1230 -20;B 40 40 1260 180;B 1000 30 1750 -25B 40 40 1290 -100;B 40 40 1350 180;B 40 40 1350 -180;B 40 40 1600 -100;B 40 40 1630 -180;B 360 30 1800 -95;B 40 40 1720 40;B 40 40 1760 -180;B 40 40 1760 180;B 40 30 1790 85;B 40 40 2000 -90;B 40 40 2090 50;B 210 30 2215 45;B 40 40 2270 -20;B 30 120 2335 0;B 40 40 2370 -40;B 40 170 2400 115;B 40 70 2400 -165;B 40 170 2630 115;B 40 70 2630 -165;L CVIA;B 20 20 -1260 -150B 20 20 -1260 50;B 20 20 -1030 50;B 20 20 -1030 -150B 20 20 -760 -90;B 20 20 -730 -170;B 20 20 -730 170;B 20 20 -640 110;B 20 20 -450 40;B 20 20 -350 -50;B 20 20 -120 40;B 20 20 -100 180;B 20 20 -100 -180;B 20 20 10 -100;B 20 20 190 30;B 20 20 190 -170;B 20 20 210 180;B 20 20 320 -30;B 20 20 550 -30;B 20 20 650 20;B 20 20 910 40;B 20 20 940 -180;

B3-12

Page 291: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 20 20 940 180;B 20 20 980 -180;B 20 20 980 180:B 20 20 1230 »20;B 20 20 1260 180;B 20 20 1290 -100;B 20 20 1350 180;B 20 20 1350 -180;B 20 20 1600 -100;B 20 20 1630 -180;B 20 20 1720 40;B 20 20 1760 -180;B 20 20 1760 180;B 20 20 1790 90;B 20 20 2000 -90;B 20 20 2090 50;B 20 20 2270 -20;B 20 20 2370 -40;B 20 20 2400 -150;B 20 20 2400 50;B 20 20 2630 50;B 20 20 2630 -150;DF;C 1;E

B3-13

Page 292: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ANEXO

Page 293: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

MUX81.CIFDS 1 750 100;9 mSlOlrs ;L CNWI;B 5120 290 2570 155;L CNPI;B 60 160 120 170;B 140 120 220 -190;B 170 160 375 -170;B 170 160 545 -170;B 60 160 760 170;B 140 120 860 -190;B 170 160 1015 -170;B 170 160 1185 -170;B 60 160 1400 170:B 140 120 1500 -190;B 180 160 1660 -170;B 170 160 1835 -170;B 60 160 2040 170;B 140 120 2140 -190;B 170 160 2295 -170;B 170 160 2465 -170;B 60 160 2620 190;B 140 80 2720 -210;B 60 200 2850 150;B 140 200 2950 -160;B 170 160 3315 -170;B 170 160 3485 -170;B 140 120 3640 -190;B 60 160 3740 170;B 170 160 3955 -170;B 170 160 4125 -170;B 140 120 4280 -190;B 60 160 4380 170;B 170 160 4595 -170;B 170 160 4765 -170;B 140 120 4920 -190;B 60 160 5020 170;L CPPI;B 60 120 120 -190;B 140 160 220 170;B 180 160 380 170;B 160 160 550 170;B 60 120 760 -190;B 140 160 860 170;B 180 160 1020 170;B 160 160 1190 170;B 60 120 1400 -190;B 140 160 1500 170;

B4-1

Page 294: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 190 160 1665 170:B 160 160 1840 170;B 60 120 2040 -190;B 140 160 2140 170;B 180 160 2300 170;B 160 160 2470 170;B 60 80 2620 -210;B 140 160 2720 190;B 60 200 2850 -160;B 320 200 3040 150;B 160 160 3310 170;B 180 160 3480 170;B 140 160 3640 170;B 60 120 3740 -190;B 160 160 3950 170;B 180 160 4120 170;B 140 160 4280 170;B 60 120 4380 -190;B 160 160 4590 170;B 180 160 4760 170;B 140 160 4920 170;B 60 120 5020 -190;L CTOX;B 160 120 190 170;B 160 80 190 -190;B 120 120 380 170;B 120 120 380 -170;B 120 120 550 170;B 120 120 550 -170;B 160 80 830 -190;B 160 120 830 170;B 120 120 1020 -170B 120 120 1020 170;B 120 120 1190 -170B 120 120 1190 170;B 160 80 1470 -190;B 160 120 1470 170;B 120 120 1670 -170B 120 120 1670 170;B 120 120 1840 -170B 120 120 1840 170;B 160 120 2110 170;B 160 80 2110 -190;B 120 120 2300 170;B 120 120 2300 -170B 120 120 2470 170;B 120 120 2470 -170B 160 120 2690 190;B 160 40 2690 -210;

B4-2

Page 295: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 160 160 2920 -160;B 340 160 3010 150;B 120 120 3310 170;B 120 120 3310 -170;B 120 120 3480 170;B 120 120 3480 -170;B 160 120 3670 170;B 160 80 3670 -190;B 120 120 3950 170;B 120 120 3950 -170;B 120 120 4120 170;B 120 120 4120 -170;B 160 120 4310 170;B 160 80 4310 -190;B 120 120 4590 -170;B 120 120 4590 170;B 120 120 4760 -170;B 120 120 4760 170;B 160 80 4950 -190;B 160 120 4950 170;L CPOL;B 40 40 180 -100;B 40 40 210 -280;B 40 40 210 280;B 20 520 210 0;B 250 20 345 -70;B 40 40 270 60;B 80 20 330 70;B 20 170 380 -165;B 20 260 380 120;B 170 20 475 0;B 40 40 490 -60;B 40 40 490 60;B 50 20 535 70;B 20 240 550 -130;B 20 170 550 165;B 40 40 820 -100;B 40 40 850 280;B 40 40 850 -280;B 20 520 850 0;B 250 20 985 -70;B 40 40 910 60;B 80 20 970 70;B 20 170 1020 -165;B 20 260 1020 120;B 170 20 1115 0;B 40 40 1130 -60;B 40 40 1140 60;B 40 20 1180 70;

B4-3

Page 296: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 20 170 1190 165;B 20 240 1190 -130;B 40 40 1460 -40;B 40 40 1490 280;B 40 40 1490 -280:B 20 520 1490 0;B 260 20 1630 -70;B 40 40 1550 60;B 90 20 1615 70;B 20 170 1670 -165;B 20 260 1670 120;B 170 20 1765 0;B 40 40 1780 -60;B 40 40 1790 60;B 40 20 1830 70;B 20 170 1840 165;B 20 240 1840 -130;B 40 40 2130 -280;B 40 40 2130 280;B 20 520 2130 0;B 150 20 2215 70;B 40 40 2190 -80;B 80 20 2250 -90;B 20 170 2300 -165;B 20 190 2300 155;B 80 20 2350 70;B 50 20 2335 -90;B 20 90 2350 -35;B 100 20 2410 0;B 40 40 2410 -60;B 40 40 2410 60;B 50 20 2455 -70;B 20 170 2470 -165;B 20 260 2470 120;B 40 40 2680 80;B 20 520 2710 10;B 40 40 2910 -30;B 20 510 2940 -5;B 180 20 3040 30;B 20 210 3020 145;B 20 210 3120 145;B 20 250 3310 -135;B 40 40 3320 -280;B 170 20 3385 0;B 20 170 3310 165;B 40 20 3320 70;B 40 40 3360 60;B 40 40 3370 -60;B 250 20 3515 -70;

B4-4

Page 297: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 20 170 3480 -165;B 20 260 3480 120;B 20 500 3650 0;B 40 40 3680 -40;B 170 20 4025 0;B 20 240 3950 -130;B 20 170 3950 165;B 40 20 3960 70;B 40 40 4000 60;B 40 40 4010 -60;B 250 20 4155 -70;B 20 170 4120 -165;B 20 260 4120 120;B 80 20 4170 70;B 40 40 4230 60;B 40 40 4290 -280;B 40 40 4290 280;B 20 520 4290 0;B 40 40 4320 -100;B 170 20 4665 0;B 50 20 4605 70;B 20 170 4590 165;B 20 240 4590 -130;B 40 40 4650 60;B 40 40 4650 -60;B 250 20 4795 -70;B 20 170 4760 -165;B 20 260 4760 120;B 80 20 4810 70;B 40 40 4870 60;B 20 500 4930 0;B 40 40 4960 -100;L CME1;B 40 40 90 -180;B 40 40 90 180;B 100 40 150 -100;B 80 80 150 -190;B 80 120 150 170;B 40 40 210 -280;B 40 40 210 280;B 40 460 250 0;B 20 40 280 60;B 30 30 335 -275;B 40 520 340 0;B 30 30 335 275;B 40 40 370 -280;B 40 40 370 280;B 40 460 420 0;B 90 120 485 -170;

B4-5

Page 298: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBB

904030402020404040404010080804040402030403040404090901040304020402040404040

120 485 170;40 490 60;80 485 0;40 490 -60;30 580 275;30 580 -275;520 590 0;40 610 -280;40 610 280;40 730 180;40 730 -180;40 790 -100;120 790 170;80 790 -190;40 850 280;40 850 -280;460 890 0;40 920 60;30 975 275;520 980 0;30 975 -275;40 1010 280;40 1010 -280;460 1060 0;120 1125 170;120 1125 -17040 1085 50;

1130 -60;1135 0;1140 60;1220 275;

40804030520 1230 O

-275;280;-280;180;-180;

30 122040 125040 125040 137040 1370

100 40 1430 -40;80 120 1430 170;80 80 1430 -190;40 40 1490 280;40 40 1490 -280;40 460 1530 0;20 40 1560 60;10 40 1605 20;40 460 1630 0;40 460 1710 0;10 40 1735 50;90 120 1775 170;

B4-6

Page 299: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 90 120 1775 -170;B 40 40 1780 -60;B 30 80 1785 0;B 40 40 1790 60;B 40 460 1880 0;B 10 40 1905 90;B 40 40 2010 -180;B 40 40 2010 180;B 80 80 2070 -190;B 80 120 2070 170;B 40 40 2130 -280;B 40 40 2130 280;B 40 460 2170 0;B 20 40 2200 -80;B 40 460 2260 0;B 40 460 2340 0;B 90 120 2405 -170;B 90 120 2405 170;B 40 40 2410 60;B 30 80 2405 0;B 40 40 2410 -60;B 40 460 2510 0;B 10 40 2535 20;B 40 70 2590 -195;B 40 40 2590 180;B 100 40 2650 80;B 80 120 2650 190;B 80 40 2650 -210;B 40 480 2750 10;B 160 40 2850 -30;B 40 40 2820 180;B 40 40 2820 -180;B 80 160 2880 -160;B 80 190 2880 165;B 250 30 2965 275;B 40 470 2980 -5;B 180 30 3090 -25;B 40 190 3070 165;B 40 270 3160 125;B 40 220 3160 -150;B 10 30 3145 275;B 10 30 3145 -275;B 40 40 3170 280;B 40 40 3170 -280;B 10 40 3245 90;B 40 460 3270 0;B 40 40 3320 -280;B 90 120 3375 -170;B 90 120 3375 170;

B4-7

Page 300: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 250 30 3465 -275;B 40 40 3360 60;B 40 40 3370 -60;B 30 80 3365 0;B 10 40 3415 50;B 40 460 3440 0;B 40 460 3520 0;B 10 40 3545 20;B 40 520 3610 -30;B 100 40 3710 -40;B 80 80 3710 -190;B 80 120 3710 170;B 40 40 3770 -180;B 40 40 3770 180;B 40 40 3890 -280;B 40 40 3890 280;B 40 520 3910 0;B 20 30 3920 275;B 20 30 3920 -275;B 90 120 4015 -170;B 90 120 4015 170;B 40 40 4000 60;B 40 40 4010 -60;B 30 80 4005 0;B 10 40 4055 50;B 40 460 4080 0;B 40 40 4130 -280;B 40 40 4130 280;B 40 520 4160 0;B 30 30 4165 -275;B 30 30 4165 275;B 20 40 4220 60;B 40 460 4250 0;B 40 40 4290 -280;B 40 40 4290 280;B 100 40 4350 -100;B 80 80 4350 -190;B 80 120 4350 170;B 40 40 4410 -180;B 40 40 4410 180;B 40 40 4530 280;B 40 40 4530 -280;B 40 520 4550 0;B 20 30 4560 275;B 20 30 4560 -275;B 90 120 4655 170;B 90 120 4655 -170;B 40 40 4650 -60;B 40 40 4650 60;

B4-8

Page 301: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBBBBBBBBBBBBLBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBB

30404040403030204010080804040

80460404052030304046040120804040

4655 0 :4720 0; -47704770

280;-280;

4800 0;480548054860

275;-275;60;

4890 0;4990 -1004990 170;

499050505050

-190;180;-180;

CCON;20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

130130130130130170170170170170180210210250250250250250270340340340340340340420420420420420420490490510

210;-210;-170;170 ;130;210;-170;-210;130;170;-100;280;-280;210;-210;-170;170;130;60;210;-210;-170;-130;170;130;210;-210;-170;-130;170;130;-60;60;210;

B4-9

Page 302: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 20 20 510 -210;B 20 20 510 -170;B 20 20 510 -130;B 20 20 510 170;B 20 20 510 130;B 20 20 590 210;B 20 20 590 -210;B 20 20 590 -170;B 20 20 590 -130;B 20 20 590 130;B 20 20 590 170;B 20 20 770 130;B 20 20 770 170;B 20 20 770 -170;B 20 20 770 -210;B 20 20 770 210;B 20 20 810 170;B 20 20 810 130;B 20 20 810 -210;B 20 20 810 -170;B 20 20 810 210;B 20 20 820 -100;B 20 20 850 -280;B 20 20 850 280;B 20 20 890 130;B 20 20 890 170;B 20 20 890 -170;B 20 20 890 -210;B 20 20 890 210;B 20 20 910 60;B 20 20 980 130;B 20 20 980 170;B 20 20 980 -130;B 20 20 980 -170;B 20 20 980 -210;B 20 20 980 210;B 20 20 1060 130;B 20 20 1060 170;B 20 20 1060 -130;B 20 20 1060 -170;B 20 20 1060 -210;B 20 20 1060 210;B 20 20 1130 -60;B 20 20 1140 60;B 20 20 1150 130;B 20 20 1150 170;J3 20 20 1.150 -130;B 20 20 1150 -170;B 20 20 1150 -210;

B4-10

Page 303: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBB

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

11501230123012301230123012301410141014101410141014501450145014501450141501490149015301530153015301530155016301630163016301630163017101710171017101710171017801790180018001800J800JSOO1800188018801880

210:170;130;-130;-170;-210;210;130;170;-170;-210;210;170;130;-210;-170;210;-40;-280;280;130;170;-170;-210 ;210;60;170;-130;-170;-210;210;130;130;170;-130;-170;-210;210;-60;60;130;170;-130;-170;-210;210;170;130;-130;

B4-11

Page 304: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBB

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

20202020.202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

1880188018802050205020502050205020902090209020902090213021302170217021702170217021902260226022602260226022602340234023402340234023402410241024302430243024302430243025102510251025102510251026302630

-170;-210;210;210;-210;-170;170;130;210;-170;-210;130;170;280;-280;210;-210;-170;170;130;-80 ;210;-210:-170;-130;170;130;210;-210;-170;-130;170;130;-60;60;210;-210;-170;-130;170;130;210;-210;-170;-130;130;170;230;190;

B4-12

Page 305: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 20 20 2630 .1,50;B 20 20 2630 -210:B 20 20 2670 150;B 20 20 2670 190;B 20 20 2670 230;B 20 20 2670 -210;B 20 20 2680 80;B 20 20 2750 150;B 20 20 2750 190;B 20 20 2750 230;B 20 20 2750 -210;B 20 20 2860 -100;B 20 20 2860 -140;B 20 20 2860 -180;B 20 20 2860 -220;B 20 20 2860 210;B 20 20 2860 170;B 20 20 2860 130;B 20 20 2860 90;B 20 20 2900 -220;B 20 20 2900 -180;B 20 20 2900 -140;B 20 20 2900 -100;B 20 20 2900 90;B 20 20 2900 130;B 20 20 2900 170;B 20 20 2900 210;B 20 20 2910 -30;B 20 20 2980 -100;B 20 20 2980 -140;B 20 20 2980 -180;B 20 20 2980 -220;B 20 20 2980 210;B 20 20 2980 170;B 20 20 2980 130;B 20 20 2980 90;B 20 20 3070 90;B 20 20 3070 130;B 20 20 3070 170;B 20 20 3070 210;B 20 20 3160 90;B 20 20 3160 130;B 20 20 3160 170;B 20 20 3160 210;B 20 20 3270 210;B 20 20 3270 -210;B 20 20 3270 -170;B 20 20 3270 -130;B 20 20 3270 130;

B4-13

Page 306: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

BBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBBB

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

20202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020202020

3270332033503350335033503350335033603370344034403440344034403440352035203520352035203520361036103610361036103680369036903690369036903730373037303730373039103910391039103910391039903990399039903990

170:-280;210;-210;-170;-130;170;130;60;-60;210;-210;-170;-130;170;130;210;-210;-170;-130;170;130;210;-210;-170;170;130;-40;210;-170;-210;130;170;210;-210:-170;170;130;210;-210;-170;-130;130;170;210;-210;-170;-130;170;

B4-14

Page 307: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 20 20 3990 130;B 20 20 4000 60;B 20 20 4010 -60;B 20 20 4080 210;B 20 20 4080 -210;B 20 20 4080 -170;B 20 20 4080 -130;B 20 20 4080 170;B 20 20 4080 130;B 20 20 4160 210;B 20 20 4160 -210;B 20 20 4160 -170;B 20 20 4160 -130;B 20 20 4160 170;B 20 20 4160 130;B 20 20 4230 60;B 20 20 4250 210;B 20 20 4250 -210;B 20 20 4250 -170;B 20 20 4250 170;B 20 20 4250 130;B 20 20 4290 280;B 20 20 4290 -280;B 20 20 4320 -100;B 20 20 4330 210;B 20 20 4330 -170;B 20 20 4330 -210;B 20 20 4330 130;B 20 20 4330 170;B 20 20 4370 210; -B 20 20 4370 -210;B 20 20 4370 -170;B 20 20 4370 170;B 20 20 4370 130;B 20 20 4550 170;B 20 20 4550 130;B 20 20 4550 -130;B 20 20 4550 -170;B 20 20 4550 -210;B 20 20 4550 210;B 20 20 4630 130;B 20 20 4630 170;B 20 20 4630 -130;B 20 20 4630 -170;B 20 20 4630 -210;B 20 20 4630 210;B 20 20 4650 60;B 20 20 4650 -60;B 20 20 4720 130;

B4-15

Page 308: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 20 20 4720 170:B 20 20 4720 -130;B 20 20 4720 -170;B 20 20 4720 -210;B 20 20 4720 210;B 20 20 4800 130;B 20 20 4800 170;B 20 20 4800 -130;B 20 20 4800 -170;B 20 20 4800 -210;B 20 20 4800 210;B 20 20 4870 60;B 20 20 4890 130;B 20 20 4890 170;B 20 20 4890 -170;B 20 20 4890 -210;B 20 20 4890 210;B 20 20 4960 -100;B 20 20 4970 170;B 20 20 4970 130;B 20 20 4970 -210;B 20 20 4970 -170;B 20 20 4970 210;B 20 20 5010 130;B 20 20 5010 170;B 20 20 5010 -170;B 20 20 5010 -210;B 20 20 5010 210;L CME2;B 640 100 330 250;B 640 100 330 -250;B 40 40 90 -180;B 40 40 90 180;B 680 40 440 -110;B 40 10 120 -85;B 40 40 460 150;B 1470 30 1175 115;B 640 100 970 250;B 640 100 970 -250;B 40 40 730 180;B 40 40 730 -180;B 40 10 760 -85;B 3620 40 2590 -110;B 40 40 1070 50;B 550 30 1365 45;B 650 100 1615 250;B 650 100 1615 -250;B 40 40 1370 180;B 40 40 1370 -180;

B4-16

Page 309: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 40 40 1400 -40;B 2300 30 2570 -45;B 40 30 1620 15:B 40 40 1720 50;B 580 30 1990 15;B 40 30 1890 85;B 630 100 2255 -250;B 630 100 2255 250;B 40 40 2010 -180;B 40 40 2010 180;B 40 10 2260 35;B 40 40 2380 150;B 30 60 2385 100;B 200 30 2500 85;B 40 40 2520 20;B 910 30 2995 15;B 40 40 2590 -180;B 40 40 2590 180;B 640 100 2890 -250;B 640 100 2890 250;B 40 40 2620 80;B 40 40 2820 180;B 40 40 2820 -180;B 640 100 3530 -250;B 640 100 3530 250;B 1460 30 3970 115;B 40 30 3260 85;B 40 40 3430 50;B 40 40 3530 20;B 540 30 3780 55;B 40 40 3740 -40;B 40 40 3770 -180;B 40 40 3770 180;B 640 100 4170 -250;B 640 100 4170 250;B 40 40 4070 50;B 40 10 4380 -85;B 40 40 4410 -180;B 40 40 4410 180;B 640 40 4720 -110;B 640 100 4810 250;B 640 100 4810 -250;B 40 40 4680 150;.B 40 10 5020 -85;B 40 40 5050 380;B 40 40 5050 -180;L CVTA;B 20 20 90 -180;B 20 20 90 180;

B4-17

Page 310: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

B 20 20 120 -100;B 20 20 460 150;B 20 20 730 180;B 20 20 730 -180;B 20 20 760 -100;B 20 20 1070 50;B 20 20 1370 180;B 20 20 1370 -180;B 20 20 1400 -40;B 20 20 1620 20;B 20 20 1720 50;B 20 20 1890 90;B 20 20 2010 -180;B 20 20 2010 180;B 20 20 2260 20;B 20 20 2380 150;B 20 20 2520 20;B 20 20 2590 -180;B 20 20 2590 180;B 20 20 2620 80;B 20 20 2820 180;B 20 20 2820 -180;B 20 20 3260 90;B 20 20 3430 50;B 20 20 3530 20;B 20 20 3740 -40;B 20 20 3770 -180;B 20 20 3770 180;B 20 20 4070 50;B 20 20 4380 -100;B 20 20 4410 -180;B 20 20 4410 180;B 20 20 4680 150;B 20 20 5020 -100;B 20 20 5050 180;B 20 20 5050 -180;DF;C 1;E

B4-18

Page 311: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ANEXO C

Page 312: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ANEXO Cl

Page 313: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

MUX21PA.CIR

*SPICE_NET*INCLUDE MODEL12.LIB.OPTIONS LIMPTS=5000.TEMP 25.TRAN 0. 1N 170N.PROBÉM16 1 123 10 1 PMOS L=1.5U W=9U AD=20 . 3P AS = 20.3P PD=25.5UPS=25.5U+ NRS=.25 NRD=.25MIS 4 125 3 3 PMOS L=l . 5U W=6U AS = 22. 5P AD=22.5P PS=19 . 5UPD=19.5U+ NRS=.375 NRD=.375Mil 7 126 120 120 NMOS L=1.5U W=6ü AS = 22.5P AD=22.5P PS = 19.5UPD=19.5U+ NRS=.375 NRD=.375M20 12 152 8 160 NMOS L=1.5U W=6U AS = 22.5P AD=22.5P PD=19.5UPS=19.5ü-I- NRS=.375 NRD=.375M21 12 131 160 160 NMOS L=1.5U W=6U AD=22.5P AS=22.5P PD=19.5UPS=19.5U+ NRS=.375 NRD=.375M30 119 135 118 121 NMOS L=1.5U W=6U AS=22.5P AD=22.5P PD=19.5U+ PS=19.5U NRS=.375 NRD=.375M31 119 134 121 121 NMOS L=1.5U W=6U AS=22.5P AD=22,5P PD=19.5U+ PS=19.5U NRS=.375 NRD=.375M34 79 128 75 75 PMOS L=1.5U W=6U AS = 22.5P AD=22.5P PS=19.5UPD=19.5U+ NRS=.375 NRD=.375M36 77 129 79 77 PMOS L=l . 50 W=6U AS = 22. 5P AD=22. 5P PS=19.5UPD=19.5U+ NRS=.375 NRD=.375R4 157 162 16.7R5 157 1 50R6 10 151 50R7 151 8 37.5R8 157 3 25R9 4 5 75RIO 5 7 37.5Rll 157 75 25R12 157 77 75R13 160 O 25R14 120 O 25R15 79 156 75R16 156 118 37.5R17 12.1 O 25R18 133 123 187.5R19 117 124 187.5R21 142 129 175R22 125 127 150R23 127 126 300R24 131 150 162.5

Cl-1

Page 314: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

R25R26R27R28R29R30R31R32R33R34R44C24C32C13C33CIOCUC12C14C15C16C17C.1.8C19C20C21C22C23C25R45R46R47V2V3V4M38

1241231301521305 11281551291351511351571571571511311521571571265 0157157157134157157156117133142

150153148139

131 350130 137.5152 212.5153 162.5127 275 *

55 275155 175134 200135 375148 175154 75.40 1.32F124 1 . 6F123 JL.5F151 1.14F0 1F0 1.43F0 1.43F130 1F125 .88F0 0.88F.59F5 .59F128 .88F155 1.32F0 -88F129 1.1 5F156 .618F0 0.78F0 1G0 1G0 1G0 PULSE OV0 PULSE OV0 PULSE OV146 327 327

5V 1N5V 1N5V 1NPMOS

1N 1N 39N SON1N 1N 79N 160N1N 1N 19N 40NL=1.5U W=12U PS=30U PD=30U AS=36P AD=36P

+ NRS=.25 NRD=.25M39 171 147 327 327 PMOS L=1.5U W=12U PS=30U PD=30UAS = 36P AD=36P

+ NRS=. 25 NRD=. 25M40 171 158 327 327 PMOS JL=1.5U W=12U PS=30U PD=30U AS=36P AD=36P+ NRS=.25 NRD=.25M41 140 145 327 327 PMOS L=1.5U W=12U PS=30U PD=30U AS=36P AD=36P+ NRS=.25 NRD=.25M42 140 143 138 138 PMOS L=l.5U W=12U PS=31.5U PD=30U AS=45PAD=36P+ NRS=.19 NRD=.25M43 139 141 2 2 PMOS L=1.5U W=12U PS=31.5U PD=30U AS=45P AD=36P

+ NRS=.19 NRD=.25M44 176 177 174 329 NMOS L=l.5U W=4.5U PS=13.5U PD=12U AS=16*875P+ AD=13.5P NRS=.5 NRD=.66

Cl-2

Page 315: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

M45 161 180 174 328 NMOS L=1.5U W=4.5U PS=12U PD=12U AS=13.5PAD=13.5P+ NRS=.66 NRD=.66M46 161 330 174 174 NMOS L=1.5U \V=4.5U PS=12U PD=12U AS=13.5PAD=13.5P+ NRS=.66 NRD=.66M47 183 179 175 136 NMOS L=1.5U W=4.5ü PS=12U PD=12U AS=13.5PAD=13.5P+ NRS=.66 NRD=.66M48 178 184 175 175 NMOS L=1.5U W=4.5U PS=12U PD=12U AS=13.5PAD=13.5P+ NRS=.66 NRD=.66M49 178 185 176 176 NMOS L=1.5U W=4.5U PS=13.5U PD=12U AS=16.875P+ AD=13.5P NRS=.5 NRÜ=-66R49 157 2 125R50R51R52R53R54R55R56R57R58R59R60R61R62R63R64R65R66R67R68R69R70R71R72R73R74C36R75R77R78R79R80C37C38C39C40C41C42C45

1571731731391711411461471741541431451581541721691701371711761761781861721811831681371561850 1157157327327173173327

3273271381711401541721860 50177168137170172186170137168181161175183330180183

37.537.537.537.537 . 5150150150

175150.15015010010010010010037.575757517517575

0 .5P179184137169

83 1G141146147158143145171

175175200175

.38F-38F.38F-38F.38F,38F2.8F

Cl-3

Page 316: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

C46 177 O .6FC47 180 O .6FC48 330 O . 6FC49 179 O .6FC50 185 O .6FC51 184 O .6FC52 184 O 1 .8FV5 173 O DC 5VM17 10 124 162 159 PMOS L=1.5U W=9U AS=20.3P AD=20.3P PS=25.5UPD = 25.5U+ NRS=.25 NRD=.25.END

Cl-4

Page 317: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ANEXO C2

Page 318: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

MEDSUMPA. CIR

*SPIC£__NET.DC VI O 5 0 .05*INCLUDJ3 MODEL12. -LIB.GPTIONS LIMPTS=5000.TEMP 25. PROBÉRl 87 9 232.5R2 9 4 175R3 4 3 237.5R4 3 18 204M23 1 9 U 11 PMOS L=1.5U W=12U PD=16.5U PS=31.5U AD=27P AS=27P+ NR,D=. 18 NRS=. 18M24 2 10 1 11 PMOS L=1,5U W=12U PS=16.5U PD=33U AS=27P AD=54P ++ NRS=. 18 N.RD=. 25R5 2 7 38.08R6 7 6 37.9M3 6 3 8 8 NMOS L=1.5U W=7.5U PS=22.5U PD=12U AS=28.12P AD=16.8P

M4 6 5 64 64 NMOS L=1.5U W=7 . 5U PS=22.5U PD=12U AS=28.12P + + ++AD=16.8P NRS=.3 NRD= . 3R7 8 O 37.5R8 64 O 37.5R9 36 11 37.5RIO 99 10 207.5Rll 10 12 225R12 5 81 195.7R13 12 5 162.5C41 36 9 1.66FC42 36 10 1.01FC40 36 4 2.4FC45 3 O 1.79FC44 5 O 1.6FC43 12 O 3FM25 27 29 35 35 PMOS L=1.5U W=12U PS=31.5U PD=33U AS=45P AD=54P+ NRS=. 18 NRD-.25M6 30 32 34 34 NMOS L=1.5U W=3U PS=13.5U PD=15U AS=11.25P +

5P NRS=. 75 NRD=134 O 75.413 32 137.531 30 75.427 31 50.429 13 312.536 35 18.832 O 1 . 1F13 O 1.9F36 13 . 3F36 29 .32F7 13 87.84 28 126.112 40 101 .336 31 . 16F

C2-1

Page 319: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

C12 31 O 10.7FM26 47 39 49 49 PMOS L=l.5U W=12U PS = 31.5U PD=16.5U AS = 45P AD=36P+ NRS=.25 NRD=.25M9 42 44 37 45 NMOS L=l.5U W=6U PS=10.5U PD=15U AS=13.5P AD=22.5P+ NRS=.375 NRD=.3'75

AS=22.5PMÍO 37 43+AD=13R23R24R25R26R27R28R29R30R31R32C14C15C16C17C18C19R33Mil

392836364748454140463636364843443163

+ NRS =M12+NRSMI 3

63= .68

+ NRS =M14 67+AD=47R34R35R36R37R38R39R40R41R42R43R44R45C20C21C22C23C24C25R46C26M15

363656585763684669146265363636533614656672

.5P2843493848420 34044483941480 10 .0 15056.2557

2558.2553-5P7059466562141453

45 45 NMOS L=l . 5U W=6U PS=19. 5U PD=10 . 5U ANRS=. 375 NRD=.37162.5287.537.537.537.53007.5212.5200262.5. 32F.32F2. 17F.56F91F. 17F62.570 70 PMOS L=1.5U W=12U PS=31.5U PD=18U AS=45PNRD=. 2559 59 PMOS L=1.5U W=12U PS=18U PD=18U AS=36PNRD=.2559 59 PMOS L=1.5U W=12U PS=18U PD=33U AS=36PNRD=. 2569 69 NMOS L=l . SU W=10.5U PS=28.5U PD=30U AS=39NRS=.21 NRD=.2837 .512.5137.517517512,512.5250

0 256746625657580 .140 266

25112.51251.5F.32F..32F45F1. 14F.4F287.5

0 3F74 75 75 PMOS L=1.5U W=15U PS=37.5U PD=19.5U A

AD=36P

AD=36P

AD=54P

3P + +

AS=56.2P

C2-2

Page 320: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

+AD=33.75P NRS=.18 NRD=.18M16 72 76 77 77 PMOS L=1.5U W=15U PS=37.5U PD=21U AS=56.+ NRS=. 15 NRD=. 25M17 78 79 80 83 NMOS L=1.5U W=9U PS=14.5U PD=25 . 5U+AD=33.75P NRS=.29 NRD=.25M18 80 82 83 83 NMOS L=1.5U W=9U PS=25.5U PD=14.25U+AD=23.6P NR.S=.25 NRD=.29R47 76 66 200R48 66 82 200R49 36 77 10R50 36 75 30R51 72 54 10R52 54 78 25R53 83 0 25R54 74 50 287.5R55 50 79 137.5R56 55 54 62.5C27 36 76 . 19FC28 36 74 . 19FC29 36 54 .54FC30 54 0 1.36FC3.1 82 0 . 71FC32 79 0 .71F

2P AD=45P

AS=23 . 6P

AS=37 . 75P

M19 89 90 91 91 PMOS L=1.5U W=12U PS=31.5U PD=18U AS=45P AD=36P+ NRS=. 25 NRD=. 25M20 89 92 93 93 PMOS L=1.5U W=12U PS=18U PD=18U AS=36P-f NRS=. 25 NRD=. 25M21 94 95 93 93 PMOS L=1.5U W=12U PS=18U PD=18U AS=3+NRS=. 25 NRD=. 25M22 96 97 98 98 NMOS L=l . 5U W=9U PS = 25 . 5U PD=27U+AD=40.5P NRS=-25 NRD=.33R57 36 91 37.5R58 36 93 37.5R59 90 55 287.5R60 95 73 300R61 92 73 175R62 89 100 37.5R63 94 100 37.5R64 55 97 137.5R65 98 0 25R66 100 96 25R67 73 55 112.5C33 36 90 .32FC34 36 92 .32FC35 36 95 .32FC36 97 0 .71FC37 36 100 .85FC38 100 0 2.85FC48 100 0 . 5PR70 87 0 1GR71 99 0 1GVI 18 0 DC OVV2 81 0 DC 5V

AD=36P

6P AD=54P

AS=37 . 75P

C2-3

Page 321: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

V3 36 O DC 5.5VR72 14 O 1GC49 14 O .5PM27 47 41 38 38 PMOS L=1.5U W=12U PS=44U PD=16.5U AS=54P AD=36P+ NRS=.25 NRD=.25. END

C2-4

Page 322: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ANEXO C3

Page 323: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

SUMAPA.CIR

*SPICE^NET*INCLUDE MODEL12.LIB.OPTIONS LIMPTS=5000.TEMP 25.TRAN 0.1N 170N.PROBÉ.PRINT TRAN V(8) V(9) V(10) V(6) V(7) V(4) V(5)VI 1 O DC 5VV2 2 O DC 5V*PULSE OV 5V 1N 1N 1N 19N 40NV3 3 O PULSE OV 5V 1N 1N 1N 39N SONV4 11 O DC OV+PULSE OV 5V 1N 1N 1N 79N 160NCl 21 O 0.5PFC2 10 O 0.5PFXI 6 7 91 9 1 MUX21X2 4 5 12 8 1 MUX21X3 40 41 4 1 NAND2X4 30 31 42 1 NOR2X5 2 43 6 1 EXORX6 51 52 1 INVCHICOX7 52 53 1 INVBIGX8 54 7 1 INVCHICOX9 8 10 1 INVBIGRll 53 O 1GR12 53 21 75R13 51 9 75R14 54 6 81.25R15 31 43 175R16 91 12 450R17 12 11 187.5R18 2 40 150R19 2 30 162.5R20 42 5 74R21 41 31 150R22 41 3 150R23 O 10 1G

.SÜBCKT INVBIG 99 12 28MI 13 4 1 1 PMOS L=1.5U W=12U PS=30U PD=30U AS=36P AD=36P4-NRD-. 25 NRS=. 25M2 15 6 1 1 PMOS L=1.5U W=12U PS=30U PD=30U AS=36P AD=36P+NRD=.25 NRS=.25M3 15 8 2 2 PMOS L=1.5ü W=12U PS=30U PD=30U AS=36P AD=36P+NRD=.25 NRS=.25M4 11 10 3 3 NMOS L=1.5U W=4.5U PS=15U PD=15U AS=13.5P AS=13.5P+NRD=.66 NRS=.66M5 16 9 3 3 NMOS L=1.5U W=4.5U PS=15U PD=15U AS=13.5P AS=13.5P+NRD=.66 NRS=.66M6 16 7 26 26 NMOS L=1.5U W=4.5U PS=15U PD=15U AS=13.5P AS=13.5P+NRD=.66 NRS=.66

C3-1

Page 324: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Rt 28 1 37.5R2 8 20 262.5R4 20 7 175R14 18 10 175R15 4 18 262.5R16 28 2 12.5R18 6 17 262.5R19 17 9 175R20 13 12 37.5R21 12 11 75R24 15 5 37.5R25 5 16 37.5R26 3 O 75R27 26 O 50R28 18 17 100R29 17 20 100R30 20 99 75Cl 28 4 0.58FC2 28 6 0.58FC3 28 8 0.58FC4 7 O 5.35FC5 12 28 1.33FC6 12 O 2.67F.ENDS

.SUBCKT INVCHICO 6 8 1M2 4 2 7 7 NMOS L=l . 5U W=3U PD=13 . 5U PS = 13 . 5U AD=11 - 25P AS=11 . 25P+ NRD=.75 NRS=.75M5 5 3 9 9 PMOS L=1.5U W=9U PD=21U PS=21U AD=25.3P AS=25,3P+ NRD=.33 NRS=.33Rl 1 9 16.66R2 5 8 50R3 8 4 75R4 7 O 50R5 3 6 32.5R6 6 2 150Cl 1 8 .59FC2 8 O 1 .15FC3 1 3 0.72FC4 2 O 1.37F.ENDS

.SUBCKT EXOR 22 18 5 4M2 20 14 17 20 NMOS L=1.5ü W=3U PD=15U PS=15U AD=10. 12P AS=10. 12P+NRD=1 NRS=1M3 10 21 12 O NMOS L=1.5U \V=9U PD=24U PS=24U AD=40.50P AS=40.50P+NRD=0.33 NRS=0.33M4 2 7 40 O NMOS T,= 1.5U W=3U PD=13.5U PS = 13.5U AD=11.25P+AS=11.25P NRD=.75 NRS=.75M14 3 6 1 4 PMOS L=1.5U W=12U PD=27U PS=27U AD=54.00P AS=54.00P+NRD=0.25 NRS=0.25M15 15 13 16 16 PMOS L=1.5U W=3U PD=13.5U PS=13.5U AD=11.25P+AS=11.25P NRD=.75 NRS=.75

C3-2

Page 325: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

M17 9 24 11 4 PMOS L=1.5U W=9U PD=24U PS=24U AD=40.50P AS=40.50P+NRD=0.33 NRS=0.33RJ. 1 25 362.5R2 40 26 350R3 8 22 2 i2.5R4 3 5 37.5R5 5 2 75R6 6 8 162.5R7 8 7 287.5R8 9 5 50R9 5 10 25RIO 22 12 25Rll 11 22 50R12 15 19 150R13 19 17 75R14 13 18 187.5R15 18 14 300R16 20 O 50R17 4 16 50R18 25 18 325R19 26 21 125R20 25 24 125R21 26 19 250Cl 25 4 0.78FC2 26 O 0.72FC3 4 13 1.3FC4 14 O 0.67FC5 4 19 0.85FC7 19 O 0.24FC8 4 5 0.18FC9 5 O 1.05FCIO 4 22 0.24FCU 22 O 0.55F.ENDS

.SUBCKT NAND2 7 8 5 12M2 4 2 11 11 PMOS L=1.5U W=9U PD=22.5U PS=22.5U AD=20.25P-f-AS = 33.75P NRD=,25 NRS= . 25M3 1 8 3 14 NMOS L-1.5U W=6U PD=16.5U PS=19.5U AD=13.5P AS=22.5P+NRD=.375 NRS=.375M5 3 7 14 14 NMOS L=l.5U W=6U PD=16.5U PS=19.5U AD=13.5P AS=22.5P+NRD=.375 NRS=.375MI 4 6 10 10 PMOS L=1.5ü W=9U PD=22.5U PS=22.5U AD=20.25P

= 33.75P NRD=.25 NRS=.25RlR2R3R4R7R8R9ClC2

124516911

2

2

22

10 50951

78

1

62

1625037.1 14503000.0.

,

56

5

.75

72F72F

C3-3

Page 326: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

C3 8 O 0.98FC4 7 O 0.78FRIO 14 O 25C7 12 5 0.48FC8 5 O 0.91F.ENDS

.SÜBCKT NOR2 9 14 17 3M2 2 13 1 12 PMOS L=1.5U W=12U PD=28.5U PS=31.5U AS=45P AD=27P+NRD=0.1875 NRS-0.3125MI 1 10 12 12 PMOS L=1.5Ü W=12U PD=28.5U PS=31.5U AS=45P AD-27P+NRD=0.1875 NRS=0.3125M3 4 8 6 6 NMOS L=1.5U W-6U PD=16.5U PS=19.5U AD=13.5P AS=22.5P+NRD=0.375 NRS=0.375M4 4 9 5 5 NMOS L=1.5ü W=6U PD=16.5U PS=19.5U AD=13.5P AS=22.5P+NRD=0.375 NRS=0.375Rl 2 17 37.5R2 6 O 37.5R3 14 8 275R5 10 9 400R6 5 O 25R7 17 4 37.5R8 13 14 125Cl 3 10 0.42FC2 3 13 0.75FC3 9 O 0.91FC4 8 O 0.84FC7 3 17 0.32FC8 17 O 0.65FR9 3 12 12.5. ENDS

.SÜBCKT MUX21 13 11 24 12 21M3 32 10 8 O NMOS L=1.5U W=6.75U PD=22.5U PS=22.5U AD=33.75P+AS=33.75P NRD=.44 NRS=.44M5 26 5 6 21 PMOS L=1.5U W=6.75U PD=22.5U PS=22.5U AD=33.75P+AS=33.75P NRD=.44 NRS=.44M7 15 20 22 22 NMOS L=l.5U W=4.5U PD=15U PS=15U AD=13.5P AS=13.5P+NRD=0.85 NRS=.66M6 2 19 18 18 PMOS .L=l . 5U W=6.75U PD=21U PS = 21U AD=25 . 3P AS = 25.3P+NRS=0.33 NRD=0.33M4 7 9 32 O NMOS L=1.5U W=6.75U PD=22.5U PS=22.5U AD=33.75P+AS=33.75P NRD=.44 NRS=.44MI 3 4 26 21 PMOS L=1.5U W=6.75U PD=22.5U PS=22.5U AD=33.75P+AS=33.75P NRD=.44 NRS=.44Rl 3 13 75R2 6 11 75R3 26 12 37.5R4 13 8 37.5R5 12 32 187.5R6 11 7 37.5R7 25 5 81,3R8 4 14 450

C3-4

Page 327: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

R9 10 25 6 6 2 . 5R I O 14 9 87 .5C2 4 21 Q . 2 6 FC4 21 5 1 .064FC5 O 10 1.57FC6 O 9 0 . 8 4 8 FC7 13 21 0 . 4 4 FC8 O 13 0.85FC9 11 21 0 . 2 8 FC I O O 11 0 . 6 7 FRl l 2 1 75R12 1 15 75R13 19 24 175R14 24 20 300R15 21 18 25R16 22 O 50R17 25 1 187.5R18 24 14 250CU 21 19 0 .68FC12 20 O 0.85FC13 1 O 0 . 6 4 FC14 1 21 0 . 5 8 F.ENDS-END

C3-5

Page 328: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ANEXO C4

Page 329: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

MUX81PA.CIR

*SPICE_NET*INCLUDE MODEL12.LIB.OPTIONS LIMPTS=5000.TEMP 25.TRAN O.1N 170N.PROBÉ.PRINT TRAN I(VCO) I(VC1) I(VC2)

^CIRCUITO PRINCIPAL:mux81XI 4 43 46 1 44 47 45 47 8 MUX21X2 5 48 51 1 49 52 50 52 9 MUX21X3 6 53 56 1 54 57 55 57 10 MUX21X4 7 58 61 1 59 62 60 62 11 MUX21X5 16 63 65 1 64 13 12 66 18 MUX21X6 17 67 69 1 68 15 14 70 19 MUX21X7 24 71 73 1 72 21 20 74 22 MUX21M43 26 14 25 25 PMOS W=9U L=1.5U PS=13.5U PD=12U AS=16.875P+ AD=13.5P NRS=.5 NRD=.66M47 29 18 30 30 NMOS W=3U L=1.5U PS=13.5U PD=12U AS=16.875P+ AD=13.5P NRS=.5 NRD=.66M44 34 32 33 33 PMOS W=12U L=1.5U PS=13.5U PD=12U AS=16.875P-f AD=13.5P NRS=.5 NRD=.66M45 34 39 40 40 PMOS W=12U L=1.5U PS=13.5U PD=12U AS=16.875P-f AD=13.5P NRS=.5 NRD=.66M46 42 41 40 40 PMOS W=12U L=1.5U PS=13.5U PD=12U AS=16.875P+ AD=13.5P NRS=.5 NRD=.66M48 36 35 37 37 NMOS W=12U L=1.5ü PS=13.5U PD=12U AS=16.875P+ AD=13.5P NRS=.5 NRD=.66*MÜX21:1-2-3-4Rl 4 2 163.4R2 2 5 163R3 2 3 2.75R4 2 6 163R5 3 7 163.4R30 47 O 1GR31 46 O 1GR32 48 O 1GR33 51 O 1GR34 52 O 1GR35 53 O 1GR36 56 O 1GR37 57 O 1GR38 58 O 1GR39 61 O 1GR40 62 O 1GCl 2 O 2.85FC2 3 O 2.58F*MUX21:5-6R6 8 12 1.8R7 9 13 1.3R8 10 14 2.27

C4-1

Page 330: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

R9 11 15 1.65R41 65 O 1GR42 64 O 1GR43 66 O 1GR44 69 O 1GR45 67 O 1GR46 68 O 1GR47 70 O 1GR52 16 17 125C3 1 8 1.45FC4 1 9 .9FC5 1 10 1.65FC6 1 11 .98FC7 16 O 4.6F*MUX21 7RIO 18 20 1.36Rll 19 21 1.78R48 24 O 1GR49 72 O 1GR50 73 O 1GR51 74 O 1GC8 1 18 .67FC23 18 O .26FC9 1 19 1.06FCIO 19 O .5F*ETAPA DE SALIDAR12 22 23 63.8

23 24 137.51 25 50

C4-2

Page 331: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

C20 35 O .58FC21 1 38 .95FC22 38 O 3.11F

*SUBCIRCUTO MUX2-1.SUBCKT MUX21 50 51 52 53 54 55 56 57 14MI 4 1 3 53 PMOS L=1.5U W=9U PS=30U PD^30U AS=36P AD=36P+ NRS=.25 NRD=,25M2 13 10 12 53 PMOS L=1.5U W=9U PS=30U PD=30U AS=36P AD=36P+ NRS=.25 NRD=.25M3 18 21 17 53 PMOS L=1.5ü W=9U PS=30U PD=30U AS=36P AD=36P+ NRS=.25 NRD=.25M4 6 50 7 O NMOS L=i.5U W=6U PS=30U PD=30U AS=36P AD=36P+ NRS=.25 NRD=.25M5 15 11 16 O NMOS L=1.5U W=9U PS=30U PD=30U AS=36P AD=36P+ NRS=.25 NRD=.25M6 19 22 20 O NMOS L=1.5U W=9U PS=30U PD=30U AS=36P AD=36P+ NRS=.25 NRD=.25Rl 51 1 175R2 1 2 300R3 2 50 150R4 50 52 150R5 53 3 50.4R6 4 5 50R7 5 6 37.5R8 7 O 37.5R9 5 8 162.5RIO 2 9 200Rll 10 8 125R12 9 11 112.5R13 54 12 50R14 13 14 50R15 14 15 25R16 16 55 25R17 56 17 50R18 18 14 50R19 14 19 25R20 20 57 25R21 9 21 412.8R22 14 22 512.5Cl 53 1 .52FC2 50 O 1.43FC3 2 O 1.04FC4 1 5 1.4FC5 5 O .36FC6 54 10 .52FC7 11 55 1.31FC8 56 21 1.05FC9 22 57 1.76FCIO 1 14 .48FCU 14 O .48FC12 53 54 .8FC13 55 O .8F

C4-3

Page 332: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

C14C15C16C17C18C19C20C21

5657535053555357

530 .1 .0 .540 .560 .

.97F97F587F587F.44F44F.44F44F

.ENDS MUX21

^FUENTESVIO 45 0 DC OVVil 44 0 DC OVVI2 50 0 DC 5VVI3 49 0 DC OVVI4 55 0 DC 5VVI5 54 0 DC 5VVI6 60 0 DC OVVI7 59 0 DC 5VVCC 1 0 DC 5VVCO 43 0 PULSE OV 5V ION 1NVC1 63 0 PULSE OV 5V ION 1NVC2 71 0 PULSE OV 5V ION 1NCl 38 0 0.5PF.END

1N 19N 40N1N 39N SON1N 79N 160N

C4-4

Page 333: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ANEXO D

Page 334: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Metodología de Diseño de Celdas St.imlnid de proyr-clo

4.3.1. Implante de pozo N (capa 1 0)

Regla

Número

101

102

103

104

Paríímela)

Ancho cid [xv/.o N

llspadamienlo entre po'/.o.s frías; .si es menor a H, cnlonces se unen

Hspaciamienlo cutre po/.os donde por lo menos uno no cslíl coneciaüo a

YOD (po/.o cíi l icnlc)

No se pennile el uso de la región de po/.o N para diseñar resistores

HM un [H)7.o debe haber por lo menos un eonlaelo que lo conecte a VDI) . Para

po/.o.s grandes se precisan varios eonlaelo.s, espaciados no míís de 100X.

Debe colocarse la mayor cant idad posible de eonlaclo.s de .sustrato (a VSS),

espaeidos no más de 100X.

Uim.

M ni.

8

8

13

101 -A '

[102,103

Reglas paro pozo N

Grupo de Mlcroalcclrónlcn - FIU8A 2/10/93 -28

Page 335: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Metodología tic Diseño tic Celdas Slntuliiid Fíci(l;tE tic proyecto

4.3.2. Área activa (capa 20)

Regla

Número

201

2011

202

203

204

205

206

207

Pnríímelro

Ancho del íírca acliva N-I-/P+ para in terconexión

Anc l iode la región de pueria en un transi.slor

lixp. ' iciíimicnto cnlrc dos ííreas aetíva.s o ililusioncs

Mareen del aVca P+ al pov.o N

Margen del área N+ al pov.o N (íírea N-f denlro del po/.o para coniacio de

po'/.o)

l í í ípaciani ienU) enire íirea N+ y pnv.o N'fpoxo iVfo)

l ispaeiainicnU) cnirc íírea N+ y po/.o N (poy.o ealicnie)

íispacianiienio enlre Tu-ea P+ y pov.o N (íírea 1*+ fuera del po/.o para contacto

de snslralo)

Dini.

Mín.

2

2

4

5

0

5

10

5

r '

203« >1

20"

1

202<!•- *

1

1 1

20?«- >Y

9- -«

i

204* *

L . -A '

205 206

. J

207

l i l i l í

'2.01 i i i iL^ |j ^- -< j nu A _j u A -j i_ .L _j

Reglas para área act iva

Grupo do Mlcroalaclrónlcn - FIUHA 2/10/93 -

Page 336: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Metodología do Olscflo de Ccld:in Standard Rct|Iar. de proyecto

4.3.3. Polis¡Iicio (capa 5 O)

Regla

Número

50 1

502

503

504

505

506

507

Parámetro

Anchode l poli.silicio: interconexión

Ancho del poli.silieio: NMOS

Ancho del polisilicio: PMO.S

l íspndnmicnto eiHre dos l iras tle poli.silicio

Mineen tle poli.silicio ;i íírca act iva; el valor concreto dcherfa deler ininnr lo el

proyeciista en liase a consideraciones de resistencia dispersa.

Superposición de polisi l icio sobre íirea aet iva

luspaciamicnlo enire polisilicio y íírea acliva

Diin.

M f n .

2

2

2

3

3

2

1

«V.Y

50'

-51

SO'l

504

507

505k—H

506

Reglas para polisil icio

Grupo do Mlcrooloclrdnlcn - FIUDA 2/10/93 - 30

Page 337: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Metodología de Diseño de Celdas Standard Realas de proyecto

4.3.4. Implante /V-f- de fuente/drenaje (capa 60)

Regla

Numero

601

602

603

6031

604

6041

605-

606

607

608

Paríímelru

Ancho

HspnciMmiento; u n i r si es menor que 3

Superposición de íírca nclíva N+ sobre su.sl.ralo

Superposición de íírca act iva N+ sobre po/o N

Hspaciamiei-to n íírca acl iva P+ sobre po/.o N

lispaeiamicnto a arca aeliva 1M- sobre suslralo

1-spaciamiciHt] a puerta (le polisilieio sohrc rtrca ac t iva I'-h

Sii|x?rposidt'»t de puerta de polisi l ieio sobre aren ael iva N+

Coincideneía del implan te N+ en íírca aeliva cuando el implante N+ no

superpone al ficen activa

Margen del imp lan te N+ a íírca aeliva para contacto de pox.o N

Dim.

Muí .

3

3

2

1

2

I

2

2

2

2

_ _ FT -^60)2

i irn 1 r

*i - I .-^ \

a~J 6(

r3í

_Ai

D41

-r

i

f

1

50^^ ^j

605^6

iKi

U w \_/ A /^I c

07^ji

iw

ii

pn K 1b U jj 1-i.-l

08

Reglas para implante N-l-

Grupo do Mlcroolcclrónlcn - FIUDA 2/10/93 -31 -

Page 338: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Metodología do Diseño de Cuidas Standard Rcrjlns de proycclo

4.3.5. Implante P+ de fuente/drenaje(capa 6 5)

Reala Numero

651

652

653

653 1

654

6541

655

656

657

658

659

660

661

Parííinelro

Aneho

líspaciamienlo; u n i r . si c,s menor que 3

.SuperpOf¡ieio*M ílc ílrea i ic l iv í i IM* sobre po/.o N

Superposición de ./ire;i acl iva P-l- sobre suslralo

l íspaci í i in icnlo ;i ;írea acliva N+ sobre su.slralo

líspaciamienlo a íírea acl iva N-i- sobre po/.o N

Hsp.'iciainienio a puerla de polis i l ieío sobre íirea aeliva N+

.Siifierpo.sieit'm de puer ta de polisi l icio .sol>re íircn MCl iva l*+

Coincitlencia del ¡ inplanle 1M- en ílrea aelíva eviando el i n ip l an ie 1^ h

no superpone a! íírcíi ael iva

Marjidí del ¡ inp lan ie IM- a íirea aeliva para anuncio de .snslrr i to

líi íirea íuMivn debe ini])I:iiilnrsc N i- o IM-

No debe- haber coiucideneia cuire los i inplanies N-h y 1M-

Arc:is advaceules ("I>ul l iu¡ i"} N+ y I M - deben e.slar al misino poleitdal

Diin . Mín.

3

3

2

I

2

1

2

2

2

2

r'~\

r1u _iL_LJ

>-3"jT

" ,

54i

7-

k

'

íf

i

'."'::': '

55^„ W

656 f(l r

_Ln_

1Li1

^655-|-Le

-

N—>ri

Reglas para implante P-l-

Grupo do Mlcroalcctiónica - FIUUA 2/10/93 -32.

Page 339: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Metodología (Jo Diseño tía Ccld;is Standard de proyecto

4.3.6. Contactos (capa 7 0)

Regla

Número

701

702

' 703

705

706

707

700

710

711

712

713

714 '

715

716

Pít cilindro

Ancho mínimo y máximo del conlaclo

lÚspaciamienio

Mareen del contacto de difusión a íirca ael iva

Mariicn del contado de polis'dicio a polisilicio

Hspacinmicnio del contacto de polisilicio a íírca aeliva

lispacinmicnlo del cornado de ti i Tus ion a la puer ta de polisilicio

Mareen de contactos de difusión a imp lan t e N-h (sillo difusiones frías)

Marjícn de contactos de difusión ;\e IM- (sólo difu.siones frías)

Espaeiamiento de contados de difusión a implante l'-h (sólo difusiones

frías)

Iispaci:iiniciilo tle conlaclos de dil'usión a implanle N( - (sólo difu.sione.s

frías)

No se permiten contados a polisi l ieio solireel íírcn í ic t iva

No se permiten eonlacios cortocircnitatlos

l.os contactos deben eslar sobre polisilieio o sobre ílrea aeliva

!.a máxima corriente por un conlaclo es:

í')70°: 0,7 n iA

(•í»85°: 0.5 inA

í? 100°: 0.4mA

<í?HO°: 0.1 5 m A

Oiin.

Mín

2

2

1

I

2

2

1

1

1

I

Grupo de Mlcroclocl j ónlc.n - F IUDA 2/10/93 -33

Page 340: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Metodología do Diseño do Cokl.is Slandmtl eijln* de pioycdo

701

70 í

702_

703

TT~rív.vl. Y.-.- / u¿

/////.•.-x'v.-.v.v."""::;.""

701

r-tU

-' ' 7 07

706[

w

:]_705

707

.-711 "709

r* > '"' P^CT '"

-J '. "-i i_^j

" r i

^712 ^710

~ í-^¡.

LͱJ

Regios poro contactos

Grupo do Mlcrocloctrónlcn - F1UOA 2/10/93 -

Page 341: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Molotloloflla tic Diserto tic Ctiklns Standard RcfjUis (Ju proyecto

4.3.7. Metal 1 (capa 8 0)

Regla

Número

80!

802

804

805

8üó

807

l' í i r í í i i icU'u

Ancho

Hspíidamiciilo

SnptTposieit'm de contacto

Todos los contados deben ser ei ibier los ron n ie la l I

La máxima corncnle promedio por una cinta de ancho W micrones es:

^70°: 0.3 W (W/2/l)'/i mA

«W: 0.2 W (W/Z/O'/á mA

@IOO°: O.I5W(W/2/¡)'/2mA

@MO°: 0.06 W (W/2.4)'/4 niA

I, a máxima corricnle pico es 7.5 W mA

No se permile el uso de mcial I para capacitores debido a que las capas

dieléctricas involucradas e.stfín sujetas a cambios con la optimi/ación del

proceso

I J i m .

M f n

3

3

I

80111804

Reglas para metal 1

Grupo do Mlcroclcctrónlcn - FIUDA 2710/93 - 35

Page 342: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

McítXÍoloflla do Dísono tío CuULis St.nmliml

4.3.8. Vías (capa 7 5)

Regla

Número

751

752

753

754

757

758

759

760

761

I'arílmeiro

Ka apertura de vfa .sólo eslíí permit ida cnlro i n c U i l 1 y meta l 2

No se pennilc apilar una vfa sobre un eonlaclo

Ancho i n f u i í n o y ni.-1.ximo (exceplo para "p;ids" de unit'm)

Hspaciamiento

í íspi ícínni icnio u polisilicio

Margen a polisil icio

1-spaeiainienlo íi eonlaclo

Níí irpcn a niela! 1

La máxima corriente por una vía es:

(íí>70°: 2.0 niA

(">85°: (A mA

©100°: 1,0 ni A

tfíH'IO0: 0.5 mA

Dini.

Mín

2

o

3

3

2

I

753 754 753

755 759

\egic js para vías

Grupo do P.llcrooloctrónlca - FIUDA 2/10/93 -36

Page 343: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Metodología de Diseño do Celdas Standard n G de proyecto

4.3.9. Metal 2 (capa 8 5)

Regla

N limero

851

852

K&

806

807

Pítríímclro

Ancho

I;.spaciam¡enio

Sii|>crposici('ni de vfa

La máxima corriente

«?700:

^85°;

<«M<IO": 0.2

I-'i máxima corriente

.

promedio por una cinia de ancho W mieroncs cu:

0.8 W (\V/2/1)'/*mA

0.6 W (VV/2.4)'/i mA

W (W/2.4)'/2 mA

pico es 15 W mA

No se |KTiui(e el uso tic metal 2 para capacitores debido a que IÍLS capas

dieléctricas involucradas c.slíin sujetas a cambios con la oplimixaeit'in del

proceso

Dim.

M f n

3

-3

1

85.KJ

\s k "

\\\\\\\\ \\\•

3-,-

852

851r v.1\ \•

X \. \

\

\

\

^ \

\ \ N \

S \

k \

N \ \

N \

X \

Reglas para metal 2

Grupo do Microcloclronlcn - FIUDA 2/18/93 - 37

Page 344: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Metodología do Dísono du Cuidos Stantltitü R proyecto

4.3.10. Aperíura de passvación (capa 9 0)

Alcncitín: las (liniciisioncíí cstíín clathis cu inicroncs (10-6 ni)

Regla

Numero

901

902

P;ti ' í ímctiu

Ancho

lispncií

ilc la npcrinra

unícnto cnlrc apcrlur;is

D i n i .

Mín

100

70

Grupo de Mlcroolaclrónlcn -FIUDA 2/10/93 -38

Page 345: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

Metodología do DiscHo de Celdas Slnndard Rf i t j l a s de proyecto

4.3.11. "Pa ds " de unión

Atención: las dimensiones eslíín dadas en inicrones (10-6* ni)

Regla

Número

951

952

953

954

875

821

l'aríunelro

Los "patls" tic iniit 'm consisliríín en i n c l u í 2 / vfn / mcla l 1

Manjen de la nncriurn tic pa.sivaeión a i n c i í i l 2

Margen tic !a apertura de pasivaciún a la vfa tic "pad", valor mínimo y

mílxhno

Mareen de la aperiura tic pasivaeit'ni a mcla l 1

I7.spaeiam¡en!o de mclal 2 tic "pad" a mclal 2, i n e l a l 1 , poli.silício, o íírca

activa no relacionados

ILspaciamienit) tic n i e l a l I de "p;id" a mcla l 2, melal 1, polisilieio, o íírca

activa no relacionados

Uim.

Mín

5

0

5

25

25

Ñola: la regla 753 no se aplica a los "patls" de unión.

875

i

1954

r

•>

95

95

~y

2

Reglas para "pads" de unión

Grupo do Mlcroolcctrónicn - FIUDA 2/18AJ3 - 3 9 "

Page 346: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

1

1

i

1

1

t

t

t

t1

t

1

1

1

1

1

I

I

1

l

1

I

I

1

t

I

1

I

1

1

t

1

tt

1

•1

1

<.'l

t

l

I

1

TITLI i DUAL LA1KR HíTAl 1.2UM CMOS DK3ICM RULES (ICPD12)

10.3. PARAHETERS 07 PARASlTIC DEVICES

.

RES1STANCES . UHIT

N-UELL SBEET RESISTANCE Koh./.q

H + SBEET RESISTANCE Oho/.q

Pi SBEET RESISTANCE Oh»/»q

POLT SHEET RESISTANCE Oh./»q

HETAL1 SfiEET RESISTANCE «.Oh-/.q

METAL2 SHEET RESISTANCE »0b«/.q

K-+ CONT RESISTANCE (1.3} Ob.

P-t CONT RESISTANCE (1.5) Oh»

POLT CONT RESISTANCE (1.3) Oh«

VIA CONT RESISTANCE (1.3) Oh.

{*) i TYP1CAL VALUÉ 1S VAL1D TOR ES2. HIÍl/HAJ. VALÚES ARE

FOUNDRIES

CAPAC1TANCES

CATE TO 'SUBSTRATE u7/-2

POLT TO SUSTR (?IELD) u?/. 2

POLY TO SUBST (PIELD - EDCE) pF/B

HETAL1 TO SUDSTR (TIELD) uF/»2

HETAL1 TO SUBSTR (IlELD - EDGE) pF/«

HETAL1 TO N+ OR P-f u7/«2

HETAL1 TO N+ OR P-f {EDCE) pF/«

HETAL1 TO POLT u?/»2

HETAL1 TO POLT (EDCE) p?/«

HETAL2 TO SUBSTR (F1ELD) uF/»2

METAL2 TO SUBSTR (TIELD - EDCE) pí7«

METAL2 TO N+ OR P+ uf/^2

METAL2 TO N* OR P* (EDCE) pT/«

METAL2 TO POLT uP/«2

HETAL2 TO POLT (EDCE) p?/»

HETAL2 TO METAL1 u7/-2

HETAL2 TO METAL} (EDCE) ' p?/«

NOTES i

(1) EDCE VALÚES C1VEH ABOVE ARE FOR LARCE SPAC3HC VALÚES.

ELOW

3

62

83

29

75

37

73

150

50

0.4

i

t

TTP

1 . 4 *

35

75

25 "

60

30

*KY A

ÍAST

'0.6

48

65

21

43

23

i

i

i

i

i

l

i

i

i

i

i

i

t

t

!

t

I

I

APPLICABLE TO ALL C3DM COMPATIBLE i

1438

62

55

29

46

53

54

33

54

16

55 '

22

63

25

67

47

84

i (2) A HORE COMPLETE MODEL, IHCLUDIHC ADD1TIONAL PARASITIC CAPACITANCES ,

i

i

i

i

i

i

t

i -_

EXTRACT10N SOFTWARE. THOSE PARAHETERS ARE AVA1LABLE FROH

EUROPEAN S1LTCOH STRUCTURES i

(ES2) l

MTD, UPON

AUTÜOR i

E. PALHí

1380

58

31

27

43

49

30

49

50

13

32

20

39

23

62

43

77

IS USED IN TflE

REQUEST.

REFEREHCE i

AC1-DR06-A i

1278

54

47

25

40

46

47

46

47

13

43

16

47

17

46

40

72

SOLO 2000

PACE 26

OF 30

I

1

I

1

1

1

1

I

I

I

I

1

í

1

:

i

:

i

:

:

i

:

i

:

i

:

¡

I

t

I

. I

:

i

_ i

Page 347: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ANEXO E

*.-

Page 348: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ES2TPR.MAC

$ Serial No. 0001$ SchemLib cells to Tanner Place and Route (TPR) format$ Versión 1.01$$$ You may need to edit in the complete path.$ e.g. <e:\1ib\scmos\scms2 tpr.mac>$<\gatesim\es22tpr.mac><\ga t es im\es2scins . mac>

E-l

Page 349: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ES2SCMS.MAC

$ DECODER - Decodificador de 4 a 2$.macro DECODER AO Al JO II 12 13 VDD GND.output 10 II 12 13<0 VIB_DECODER AO Al 10 II 12 13.eom DECODER$$ DIVIDEF - Divisor de frecuencia$. niacr.o. DIVIDEF CK CLR OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_DIVIDEF CK CLR OUT.eom DIVIDEF

$ COMPA41 - Comparador de 2 dígitos de 4 bits$.macro COMPA41 AO Al A2 A3 BO Bl B2 B3 OUT VDD GND.output OUT<0 VIB__COMPA41 AO Al A2 A3 BO Bl B2 B3 OUT.eom COMPA41

$ FFTIPOD - Flip-Flop tipo D•5$

.macro FFTIPOD DO CLK CL QO VDD GND

.outpu t QO<0 VIB_FFTIPOD DO CLK CL QO.eom FFTIPOD$$$ AND2 - Two input AND gate.

.macro AND2 A B OUT VDD GND

.output OUT<0 VIB_AND2 A B OUT.eom AND2

$ AND3 - Three input AND gate.<fc•p.macro AND3 A B C OUT VDD GND.output OUT<0 VIB._AND3 A B C OUT.eom AND3

$ AND4 - Four input AND gate.$.macro AND4 A B C D OUT VDD GND.output OUT .

E-2

Page 350: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

<0 VIB_AND4 A B C D OUT.eom AND4

$ INV - INVERSOR$.macro INV A OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_INV A OUT.eom INV

$ INVCHICO - INVERSOR CHICO$.macro INVCHICO A OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_INVCHICO A OUT.eom INVCHICO

$ CELDA - Celda de memoria 1 bit$.macro CELDA DI SELEC RW DO VDD GND.output DO<0 VIB_CELDA DI SELEC RW DO.eom CELDA$$$ NAND2 - Two input NAND gate.$.macro NAND2 A B OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_NAND2 A B OUT.eom NAND2

$ NAND3 - Three input NAND gate.<*.macro NAND3 A B C OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_NAND3 A B C OUT.eom NAND3

$ NAND4 - Four input NAND gate.$.macro NAND4 A B C D OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_NAND4 A B C D OUT.eom NAND4

$ NOR2 - Two input ÑOR gate.$.macro NOR2 A B OUT VDD GND

E-3

Page 351: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

.output OUT<0 V1B_NOR2 A B OUT.eom NOR2

$ NOR3 - Three input ÑOR gate$.macro NOR3 A B C OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_NOR3 A B C OUT.eom NOR3

$ NOR4 - Four input ÑOR gate.

.macro NOR4 A B C D OUT VDD GND

.output OUT<0 VIB_NOR4 A B C D OUT.eom NOR4

$ OR2 - Two inpufc OR gate.$.macro OR2 A B OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_OR2 A B OUT.eom OR2

$ OR3 - Three input OR gate.$.macro OR3 A B C OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_OR3 A B C OUT.eom OR3

$ OR4 - Four input OR gate.$.macro OR4 A B C D OUT VDD GND.output OUT<0 V1B_OR4 A B C D OUT.eom OR4

$ XOR2 - 2-input exclusive-OR gate<•p.macro XOR2 A B Q VDD GND.ou tpu t Q<0 VIB_XOR2 A B Q.eom XOR2

E-4

Page 352: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ES2VIB.MAC

$ DECOÜER - Decodificador de 4 a 2..macro DECODER AO Al 10 II 12 13 VDD GND.output 10 II 12 13<0 VIB_DECODER AO Al 10 II 12 13.eom DECODER$$ DIVIDEF - Divisor de frecuencia$.macro DIVIDEF CK CLR OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_DIVIDEF CK CLR OUT.eom DIVIDEF

$ COMPA41 - Comparador de 2 dígitos de 4 bits$.macro COMPA41 AO Al A2 A3 BO Bl B2 B3 OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_COMPA4i AO Al A2 A3 BO Bl B2 B3 OUT.eom COMPA41

$ FFTIPOD - Flip-Flop tipo D$.macro FFTIPOD DO CLK CL QO VDD GND.output QO<0 VIB_FFTIPOD DO CLK CL QO.eom FFTIPOD

$ AND2 - Two input AND gate.

.macro AND2 A B OUT VDD GND

.output OUT<0 VIB_AND2 A B OUT.eom AND2

$ AND3 - Three input AND gate.

.macro AND3 A B C OUT VDD GND,output OUT<0 VIB_AND3 A B C OUT.eom AND3

$ AND4 - Four input AND gate.

.macro AND4 A B C D OUT VDD GND

.output OUT

E-5

Page 353: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

<0 VIB_AND4 A B C D OUT.eom AND4$'$$ INV - INVERSOR$.macro INV A OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_INV A OUT.eom INV

$ INVCHICO - INVERSOR CHICO$.macro INVCHICO A OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_INVCHICO A OUT.eom INVCHICO

$ CELDA - Celda de memoria 1 bit$.macro CELDA DI SELEC RW DO VDD GND.output DO<0 VIB_CELDA DI SELEC RW DO.eom CELDA

$ NAND2 - Two input NAND gate.<t*.macro NAND2 A B OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_NAND2 A B OUT.eom NAND2

$ NAND3 - Three input NAND gate.$.macro NAND3 A B C OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_NAND3 A B C OUT.eom NAND3

$ NAND4 - Four input NAND gate.$.macro NAND4 A B C D OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_NAND4 A B C D OUT.eom NAND4

$ NOR2 - Two input ÑOR gate$.macro NOR2 A B OUT VDD GND

E-6

Page 354: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

.output OUT<0 VIB_NOR2 A B OUT.eom NOR2

$ NOR3 - Three input ÑOR gate.$.macro NOR3 A B C OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_NOR3 A B C OUT.eom NOR3

$ NOR4 - Four input ÑOR gate.$.macro NOR4 A B C D OUT VDD GND. output OUT<0 VIB__NOR4 A B C D OUT. eom NOR4

$ OR2 - Two input OR gate.$.macro OR2 A B OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_OR2 A B OUT.eom OR2

$ OR3 - Three input OR gate.$.macro OR3 A B C OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_OR3 A B C OUT.eom OR3

$ OR4 - Four input OR gate.$.macro OR4 A B C D OUT VDD GND.output OUT<0 VIB_OR4 A B C D OUT.eom OR4

$ XOR2 - 2-input exclusive-OR gate

.macro XOR2 A B Q VDD GND

.output Q<0 VIB_XOR2 A B Q.eom XOR2 ' • ;

E-7

Page 355: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

OX3NV

Page 356: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ES2N12.EXT

#####

For: Extractor definition fileVendor: Foresight:ES2 SemiconductorTechnology: 1 . 2U N-Well ÍProcess = ECPD12)Design Rules: ES2 Scalable Rules (Rule = ES2_12)Technology Setup File: ES2N12.tdb

# Copyright (c) 1994# Unidad de Microelectronica E.P.N Quito

********

i

connec t(cnwi,connec t(subs,connect(ndi ffconnect(pdiffconnect(cpo1,connect(cmel,

ndiff,pdiff,

, cmel», cmel,cmel ,

ndiff)pdiff)cont-act)cont-ac t)

con t-poly)cme2j cvia)

# NMOS transistordevice = MOSFET(

RLAYER=ntran;Drain=ndiff, WIDTH;Gate=cpo1;Source=ndiff, WIDTH;BuIk=subs;MODEL=NMOS;)

| PMOS transistor withdevice = MOSFET(

RLAYER=ptran;Drain=pdiff, WIDTH;Gate=cpo1;Source=pdiff, WIDTH;Bulk=cnwi;MODEL=PMOS;

F-l

Page 357: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

9 OX3NV

Page 358: bibdigital.epn.edu.ecbibdigital.epn.edu.ec/bitstream/15000/10627/1/T114.pdfINTRODUCCIÓN En lo últimos añoss s,e h alcanzada uon desarroll científico y o tecnológico que avanza

ANEXO H