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Procesosde fabricaciónMEMS
Antonio Luque EstepaJosé M. QueroJosé M. Quero
Dpto. Ingeniería Electrónica
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Indice
● Introducción● Introducción
● Grabado húmedo
● Grabado seco
● LIGA
● Unión de obleas● Unión de obleas
● Comparación de Procesos
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Introducción
● Procesos de fabricación
– Adición de material (deposición)
– Sustracción de material (grabado)
– Moldeado
– Fotolitografía
– Pegadode material– Pegadode material
● Encapsulado
● Medida y test
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Proceso generalPreparación
Fotolitografía
Deposición Grabados Pegado
Medidas
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Indice
● Introducción● Introducción
● Grabado húmedo
● Grabado seco
● LIGA
● Unión de obleas● Unión de obleas
● Comparación de Procesos
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Grabado húmedo
● El ataque sobre el material se produce por la El ataque sobre el material se produce por la acción de un líquido
● Puede ser:
– Isotrópico
– Anisotrópico
Grabado en superficie/volumen (surface/bulk)● Grabado en superficie/volumen (surface/bulk)
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Mecanismo del grabado húmedo
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Isotrópico/anisotrópico
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Grado de anisotropía
lv−=1γul
d
• vl velocidad de grabado lateral• vn velocidad de grabado normal• Se calcula el underetching como
nv−=1γ
ul
d
• d es la profundidad normal del ataque
dlu )1( γ−=
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Grabado anisotrópico
Si orientación <100>Si orientación <100>
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Detención del grabado
● Formas de detener el ataque para no tener que Formas de detener el ataque para no tener que controlar el tiempo:
– Cambio de material
– Dopado p+
– Detención electroquímica
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Detención electroquímica
![Page 13: Procesos de fabricación MEMSwoody.us.es/ASIGN/SEA/MEMS3_PROC1_GENERALES_MEMS.pdfProcesos de fabricación – Adición de material (deposición) – Sustracción de material (grabado)](https://reader035.vdocumento.com/reader035/viewer/2022063018/5fdc89fa5c89bd5b39335122/html5/thumbnails/13.jpg)
Grabado húmedo
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Grabado húmedo
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Atacantesmáscomunes● Si:
HNA (HNO , H O, NH F) ● Pyrex: HF (49%), BHF
– HNA (HNO3, H2O, NH4F) (isotrópico)
– KOH (anisotrópico)
● Polisilicio: HNO3 + HF
● SiO2: HF (10:1), HF (49%), BHF
● Metales: Piranha (H2SO4, H2O)
● Al: H3PO4 + HNO3
● Orgánicos: Piranha
● Fotorresina: AcetonaBHF
● Si3N4: H3PO4 (85%)
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Simulación ataques
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Simulación ataques
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Ejemplo de grabado en superficie
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Indice
● Introducción● Introducción
● Grabado húmedo
● Grabado seco
● LIGA
● Unión de obleas● Unión de obleas
● Comparación de Procesos
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Grabado seco
● Grabadode un sólidoporun plasma o gasGrabadode un sólidoporun plasma o gas
● Tipos:
– Físico: bombardeo de iones (Physical Sputtering)
– Químico: reacción en la superficie (Plasma Etching)
– Combinación física/química (Reactive Ion Etching)
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Tipos posibles de perfilPhysical Sputtering
Plasma Etching
Reactive Ion Etching
Deep Reactive Ion Etching
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Gases empleadosen RIEMaterial Gas Velocidad de ataque Máscara
(Selectividad > 50:1)
1) KOH ~ 6 –600 nm/minSi
1) KOH2) HNO3 + H2O +
HF
~ 6 –600 nm/min(anisotropic)~ 100 nm/min
Resina
SiO21)HF 2) BHF
~ 10 –1000 nm/minResina
Si3N4
1) HF 2) BHF3) H3PO4
~ 100 nm/min~ 100 nm/min~ 10 nm/min
ResinaSiO2
1) H2SO4+ ~ 10 um/minGaAs
1) H2SO4+ H2O2+H2O
2) Br + CH3OH
~ 10 um/minResina
Au1) HCl+ HNO3
2) KI + I2+H2O~ 40 nm/min~ 1 um/min Resina
Al1)HCl+ H2O 2) NaOH
~ 500 nm/min Resina
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Deep RIE (DRIE)
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Comparativaataquehúmedo/secoHúmedo Seco
Método Soluciones químicas Bombardeo de iones o reactivo químicoreactivo químico
Entorno y Equipo Atmosférico, baño Cámara de vacío
Ventajas 1) Bajo coste2) Fácil de Implementar3) Velocidad ataque elevada4) Buena selectividad
Alta precisión de características < 100 nm
Desventajas 1) Baja precisión de características< 1um
1) Alto coste2) Difícil de implementar< 1um
2) Uso de material químicopeligroso
3) Contaminación de obleas
2) Difícil de implementar3) Baja velocidad de ataque4) Selectividad pobre5) Daño potencial de
radiación
Direccionalidad Isotrópico (excepto para materiales cristalinos)
Anisotrópico
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Indice
● Introducción● Introducción
● Grabado húmedo
● Grabado seco
● LIGA
● Unión de obleas● Unión de obleas
● Comparación de Procesos
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LIGA
● Abreviatura de LIthographie, Galvanoformung, Abreviatura de LIthographie, Galvanoformung, Abformtechnik (Litografía, electroformación, moldeado).
● Se fabrica un molde grueso de fotorresina de rayos X.
● El molde se rellena con metal.● El molde se rellena con metal.
● El metal puede ser el producto final, o a su vez un molde para plástico.
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Proceso LIGA
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Proceso LIGA
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Fabricación de máscara
Máscara para rayos X
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Exposición a rayos X
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Proceso de moldeado
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Tipos de moldeado
Moldeado a presiónMoldeado a presión
Moldeado en vacío
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Ejemplo de dispositivo en LIGA
Conector de fibra óptica
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Ejemplo de dispositivo en LIGANo se puede mostrar la imagen. Puede que su equipo no tenga suficiente memoria para abrir la imagen o que ésta esté dañada. Reinicie el equipo y, a continuación, abra el archivo de nuevo. Si sigue apareciendo la x roja, puede que tenga que borrar la imagen e insertarla de nuevo.
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Indice
● Introducción● Introducción
● Grabado húmedo
● Grabado seco
● LIGA
● Unión de obleas● Unión de obleas
● Comparación de Procesos
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Unión de obleas● Unión física de obleas
● Permiteconstruirdispositivosmáscomplejos● Permiteconstruirdispositivosmáscomplejos
● Tipos:– Fusión: reacción química entre los átomos de las
capas externas, aplicando calor– Anódica: aplicando potencial eléctrico– Térmica: aplicandocalor, con unacapaintermediade – Térmica: aplicandocalor, con unacapaintermediade
otro material– Glue-bonding: aplicando una capa intermedia de
adhesivo.
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Unión por fusión
Pegado directo de silicio con silicio• Pegado directo de silicio con silicio
• Dificultades con la alineación
• Temperatura de 800 ºC, y presión
• Atmósfera oxidanteAtmósfera oxidante
• Incompatible con electrónica
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Unión anódica
Aplicación de potencial eléctrico entre las obleas
Pegado de silicio con vidriocon vidrio
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Unión anódica
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Unión anódica. Equipo
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Alineación de las obleas a unir
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Video Unión Anódica
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Unión térmica
● Se usa cuando la Se usa cuando la aplicación de un gran potencial no es posible
● Pegado menos uniforme que con la unión anódica
● El material intermedio ● El material intermedio puede ser vidrio, PSG, ...
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Unión por pegado
● Pegamento dispensado con micropipetas: Pegamento dispensado con micropipetas: manual o automático
● Riesgo de rebose afectando las zonas activas
● Alineación simultánea en microscopio
● Curado a baja temperatura
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Indice
● Introducción● Introducción
● Grabado húmedo
● Grabado seco
● LIGA
● Unión de obleas● Unión de obleas
● Comparación de Procesos
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Comparación entre procesos
Uniformidad Contaminación Tensión Residual MaterialesUniformidad Contaminación Residual Materiales
Evaporación Mala Mala No hay Moderado
Sputtering Mala Mala Poca Cualquiera
Epitaxia Muy Buena Buena No hay Según la química
Materiales CVD Muy Buena Buena Mucha
Materiales cristalinos o
sus derivados
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Elección de proceso
1000
LIGAh
Fabricaciónconvencional
ProximityProjectionLaserFIB, X-Ray
100
1000
10
1
Surface micromachining
convencionalDRIE
Micromolding
0.1 1 10 100 1000
0.1
Wet bulk micromachining
NEMS
w
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